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文檔簡介
納米光學(xué)及應(yīng)用
Nano-OpticsandApplications
Nanophotonics近場光學(xué)1Near-FieldOptics本講內(nèi)容什么是近場光學(xué)為什么要用近場光學(xué)——衍射極限近場光學(xué)基本原理一、什么是近場光學(xué)近場光(表面波)近場:從物體表面到一個波長以內(nèi)的距離。遠場:從近場以外一直延伸到無窮遠的區(qū)域。近場光學(xué)及近場光學(xué)顯微鏡概念1、近場光學(xué):研究距離物體表面一個波長以內(nèi)光學(xué)現(xiàn)象的學(xué)科。2、近場光學(xué)顯微鏡:
用來觀測微觀尺度光學(xué)現(xiàn)象的新觀測工具。不用光學(xué)透鏡成像,而用探針的針尖在樣品表面上方掃描獲得樣品表面的信息。一、什么是近場光學(xué)一、什么是近場光學(xué)隱失場,隱失波,倏逝波二、為什么要用近場光學(xué)
傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡照片二、為什么要用近場光學(xué)
傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡分辨本領(lǐng)sin相對光強曲線I/I0艾里斑主極大第一極小傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡-光學(xué)透鏡組成光學(xué)衍射極限
-艾里斑
光源聚光鏡樣品臺顯微鏡筒肉眼二、為什么要用近場光學(xué)
二、為什么要用近場光學(xué)
二、為什么要用近場光學(xué)
傳統(tǒng)光學(xué)分辨率極限提高傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡分辨率的途徑
1)選擇更短的波長
uv電磁輻射、x射線、或電子束
2)提高n,用折射率很高的材料工作浸油顯微鏡
二、為什么要用近場光學(xué)
提高顯微鏡分辨率的歷史概貌0.11101001000傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡電子顯微鏡掃描隧道顯微鏡場離子顯微鏡近場光學(xué)顯微鏡18001850190019502000分辨率/nm年二、為什么要用近場光學(xué)
12電子顯微鏡1938(分辨率0.1納米)
electronmicroscopy,
SEM二、為什么要用近場光學(xué)
場離子顯微鏡分辨率0.1納米)
Fieldionmicroscopy(FIM)二、為什么要用近場光學(xué)
14掃描穿隧式顯微鏡1982
scanningtunnelingmicroscopy,STM二、為什么要用近場光學(xué)
原子力顯微鏡1985
atomicforcemicroscopy,AFM二、為什么要用近場光學(xué)
磁力顯微鏡1987
magneticforcemicroscopy,MFM二、為什么要用近場光學(xué)
17掃描近場光學(xué)顯微鏡1986
scanningnear-fieldopticalmicroscopy,SNOM二、為什么要用近場光學(xué)
長期以來,光學(xué)顯微鏡的成像效果被認為受到光的波長限制,無法突破0.2微米、即光波長二分之一的分辨率極限。這3位科學(xué)家則以創(chuàng)新手段“繞過”這一極限,通過激光束激活熒光分子,在熒光分子發(fā)光的時候通過特別手段消除或過濾掉多余熒光,從而獲得比“極限”更精確的成像。二、為什么要用近場光學(xué)
回到近場光學(xué)二、為什么要用近場光學(xué)
二、為什么要用近場光學(xué)
二、為什么要用近場光學(xué)
二、為什么要用近場光學(xué)
二、為什么要用近場光學(xué)
二、為什么要用近場光學(xué)
二、為什么要用近場光學(xué)
三、近場光學(xué)基本原理
回顧傅里葉光學(xué)基本內(nèi)容隱失場三、近場光學(xué)基本原理
BasicconceptofFourierOptics
傅立葉光學(xué)的基本思想單色波入射,空間頻率信息會被特定方向的衍射波輸送出來,衍射波在近場彼此交織,到了遠場它們分開,從而達到分頻的目的.遠場分頻裝置是透鏡,衍射斑和圖象的空間頻率一一對應(yīng),焦面就圖象的傅立葉頻譜面--現(xiàn)代光學(xué)對夫瑯禾費衍射的新認識。yxy’x’F衍射屏光學(xué)圖象透鏡頻譜分析器夫瑯禾費衍射場傅立葉頻譜面三、近場光學(xué)基本原理
頻譜面物面頻譜面高頻信息物面
成像光學(xué)儀器就是一個低通濾波器。物平面包含從低頻到高頻的信息,透鏡口徑限制了高頻信息通過,只許一定的低頻通過,丟失了高頻信息的光束再合成,圖象的細節(jié)變模糊。入射光經(jīng)物平面發(fā)生夫瑯和費衍射,在頻譜面上形成一系列衍射光斑,各衍射光斑發(fā)出的球面次波在相面上相干疊加,形成像。FABCB’A’C’三、近場光學(xué)基本原理
采用傅里葉光學(xué)平面波展開法,原點(x,y,0)得到的角譜
(2)
(3)E(x,y,0)y物場像場xyxzE(x,y,z)傅里葉光學(xué)角譜方法三、近場光學(xué)基本原理
由E(x,y,z
)處的光場
(4)
(5)三、近場光學(xué)基本原理
隱失場理論
1、隱失場的特征隱失波
(evanescentwave,衰逝波,迅消波、倏逝波等)尺寸小于波長的信息,包含在隱失場中。隱失場離開物體表面在空間急劇衰減。隱失場是非輻射場或非傳播場。四百年前,牛頓所做的棱鏡全反射就顯現(xiàn)倏逝波現(xiàn)象。三、近場光學(xué)基本原理
三、近場光學(xué)基本原理
隱失場的特征開口直徑微小開口產(chǎn)生的隱失場三、近場光學(xué)基本原理
隱失場的近場探測原理1)近場探測的基本原理:將隱失場中的攜帶有物體表面精細結(jié)構(gòu)信息,盡量不失真的帶到位于遠處的探測成像裝置中,再轉(zhuǎn)變成人眼所能夠觀察的圖像信號。
三、近場光學(xué)基本原理
隱失場的近場探測原理2)兩個光學(xué)窗口的探測問題A.遠場探測E(x,0)的角譜為:Z處角譜為z處的光波場
(7)2L2dxzz=Zz=0三、近場光學(xué)基本原理
緊貼屏后的電磁場El(x,z=0)
為:矩形函數(shù)為的傅里葉變換式為
帶入(7)
(8)2L2dxzz=Zz=0隱失場的近場探測原理三、近場光學(xué)基本原理
B.近場探測
z=ε處的光場透過ε屏后的電場為
此時在z=Z處探測到的光場為(9)
2L2dxzz=Zz=02lz=ε隱失場的近場探測原理三、近場光學(xué)基本原理
根據(jù)(8)和(9)繪制角譜圖狹縫(nm),波長500nm的角譜圖1.01.01.0(a)(b)(c)ε=λ/50z=0z=Z>λ隱失場的近場探測原理三、近場光學(xué)基本原理
改變狹縫的寬度,考察探測成像的效果III
隱失場的近場探測原理三、近場光學(xué)基本原理
改變單狹縫與雙窗口間距,考察探測效果ε=70nmε=30nmε=10nm
III隱失場的近場探測原理三、近場光學(xué)基本原理
探頭準(zhǔn)確地放在物體表面納米尺度而又不碰撞采用逐點成像的方法:
1)將納米尺度的光信號收集,將其轉(zhuǎn)變?yōu)殡娏鳎辉賹⑵鋫鞑サ教綔y系統(tǒng)。2
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