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《碳材料 不同物相的含量測(cè)定 X射線(xiàn)粉末衍射法》_第3頁(yè)
《碳材料 不同物相的含量測(cè)定 X射線(xiàn)粉末衍射法》_第4頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

ICS59.060.20

CCSW52

團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)

T/CSTMXXXXX—XXXX

碳材料不同物相的含量測(cè)定

X射線(xiàn)粉末衍射法

DeterminationoftheContentsofDifferentPhasesinCarbonMaterials

ByX-RayPowderDiffractionMethod

202X-XX-XX發(fā)布202X-XX-XX實(shí)施

中關(guān)村材料試驗(yàn)技術(shù)聯(lián)盟發(fā)布

T/CSTMXXXXX—XXXX

碳材料不同物相的含量測(cè)定X射線(xiàn)粉末衍射法

警告——使用本文件的人員應(yīng)有正規(guī)實(shí)驗(yàn)室工作的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)。本文件并未指出所有可能的安全問(wèn)題。

使用者有責(zé)任采取適當(dāng)?shù)陌踩徒】荡胧?,并保證符合國(guó)家有關(guān)法規(guī)規(guī)定的條件。

1范圍

本文件規(guī)定了利用X射線(xiàn)粉末衍射儀測(cè)定碳材料中無(wú)定型碳、類(lèi)石墨碳和石墨碳的含量和微觀(guān)結(jié)

構(gòu)的方法。

本文件適用于純碳材料樣品,包括石墨化碳材料樣品和含有其他非碳晶相的炭材料樣品中各物相

含量和微觀(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)的測(cè)定。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過(guò)文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文件,

僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本

文件。

JY/T0587多晶體X射線(xiàn)衍射方法通則

JJG629多晶X射線(xiàn)衍射儀

ASTM-D5187StandardTestMethodforDeterminationofCrystalliteSize(Lc)ofCalcinedPetroleum

CokebyX-RayDiffraction

QJ2507碳素材料微觀(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)測(cè)試方法

GB/T6379.2測(cè)定方法與結(jié)果的準(zhǔn)確度

3術(shù)語(yǔ)和定義

JY/T0587、ASTM-D5187、QJ2507界定的術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件。

3.1

物相phase

具有相同化學(xué)組成和特有三維周期性排列的晶體物質(zhì)。

[來(lái)源:JY/T0587—2020,3.22]

3.2

晶胞參數(shù)unitcellparameters

描述平行六面體形晶胞的參數(shù),即三個(gè)邊的長(zhǎng)度a,b,c及它們間的夾角á(b邊和c邊之夾角)、a

(a邊和c邊之夾角)、γ(a邊和b邊之夾角)。

[來(lái)源:JY/T0587—2020,3.6]

3.3

Rietveld全譜擬合Rietveldwholepatternfitting

1

T/CSTMXXXXX—XXXX

由若干個(gè)可變參數(shù)(包括結(jié)構(gòu)、峰形、織構(gòu)、背底等)計(jì)算得到粉末衍射譜,通過(guò)精修其中一些參

數(shù),使整個(gè)計(jì)算衍射譜與實(shí)驗(yàn)測(cè)定譜相吻合的過(guò)程。

[來(lái)源:JY/T0587—2020,3.31]

3.4

晶面間距interplanarspacing

晶體中兩個(gè)相鄰平面點(diǎn)陣間的垂直距離。常用符號(hào)“d”表示。

[來(lái)源:JY/T0587—2020,3.9]

3.5

積分強(qiáng)度intergratedintensity

衍射峰輪廓線(xiàn)以下背底以上的峰面積。

[來(lái)源:JY/T0587—2020,3.18]

4原理

采用PONCKS方法計(jì)算建立碳材料樣品中非晶碳相和類(lèi)石墨碳相的結(jié)構(gòu)模型,利用建立的結(jié)構(gòu)模型

進(jìn)行全譜擬合分峰,把碳材料的X射線(xiàn)衍射譜圖準(zhǔn)確的分解為背底散射、無(wú)定型碳、類(lèi)石墨碳和石墨碳

四部分,得到各物相準(zhǔn)確的晶胞參數(shù)、峰位、峰強(qiáng)、峰形,同時(shí)得到Rietveld方法定量結(jié)果。利用全譜

擬合的分峰結(jié)果,固定峰位置進(jìn)行全譜峰形擬合,進(jìn)行微觀(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)計(jì)算。

PONCKS方法的基本原理:經(jīng)驗(yàn)常數(shù)值(ZMV)可以通過(guò)如下公式計(jì)算得到:

WaSa(ZMV)a

…………(1)

WsSs(ZMV)s

WaSa

(ZMV)a(ZMV)s…………………(2)

WsSa

WaSs(ZMV)s

(ZM)a…….……(3)

WsSaVa

式中(ZMV)a沒(méi)有物理意義,代表用于Rietveld精修計(jì)算中創(chuàng)建的相的經(jīng)驗(yàn)定義,S、Z、M、V分別代表

Rietveld比例因子、單胞化學(xué)式數(shù)、化學(xué)式分子質(zhì)量及單胞體積。經(jīng)驗(yàn)ZMV值可以通過(guò)測(cè)量目標(biāo)物相(a)

和內(nèi)標(biāo)物相(s)混合試樣得到?;旌显嚇又校俜趾縒a和Ws已知,內(nèi)標(biāo)物(s)相的Ss和Z、M、V

的值都已知。目標(biāo)物(a)相的晶胞參數(shù)已知,即V已知,ZM值即目標(biāo)物相的分子量,可有公式(3)計(jì)

算得到。這樣,無(wú)定型碳的結(jié)構(gòu)模型文件建立,可直接用于全譜擬合分峰和Rietveld各物相定量。

5儀器和設(shè)備

5.1X射線(xiàn)粉末衍射儀。(Bragg-Brentano測(cè)角儀),Cu靶,采用Ni過(guò)濾的CuKα輻射光源;激發(fā)

功率適宜,建議40kV,40mA。儀器的2θ角示值誤差在±0.02°以?xún)?nèi),2θ角重復(fù)性以標(biāo)準(zhǔn)偏差表示,

不得超過(guò)0.002°。掃描范圍:2θ角5-90°,掃描步長(zhǎng):0.02°/step,掃描速率:1.2s/step。

5.2物相定性軟件和全譜擬合軟件。全譜擬合時(shí)要考慮測(cè)試時(shí)儀器參數(shù),比如寬度光源、狹縫寬度、

零點(diǎn)位移等硬件條件,同時(shí)也要考慮樣品透明度和樣品位移誤差等的影響。

5.3電子分析天平,精度0.1mg。

2

T/CSTMXXXXX—XXXX

5.4瑪瑙研缽或球磨儀,球磨方式為行星式球磨。

5.5烘箱。

5.6325目標(biāo)準(zhǔn)篩。

6試劑和材料

6.1高純炭黑,純度不低于99.50%,粒徑不大于0.45μm。

6.2高純剛玉(á-Al2O3),純度不低于99.99%,粒徑不大于0.45μm。

6.3高溫炭化碳材料(只含無(wú)定型碳和類(lèi)石墨碳,未石墨化)。

7試樣

塊狀樣品球磨儀或者瑪瑙研缽研磨成粉末,粒徑過(guò)325目標(biāo)準(zhǔn)篩;碳纖維樣品剪切成粉末,并研磨

至過(guò)325目標(biāo)準(zhǔn)篩,測(cè)試前樣品在103℃±2℃烘箱烘2小時(shí)冷卻后使用。

8試驗(yàn)步驟

8.1無(wú)定型碳相結(jié)構(gòu)模型和背底散射曲線(xiàn)函數(shù)建立

8.1.1分別選取高純無(wú)定型碳和剛玉樣品,將二者按照質(zhì)量比例混合,無(wú)定形碳在混合物中比例不小于

50%,研磨混勻得到內(nèi)標(biāo)混合樣品。

8.1.2在5.1的儀器條件下,分別采集高純無(wú)定型碳和混合物樣品的XRD譜圖。將采集的高純無(wú)定型碳

樣品的譜圖調(diào)入XRD全譜擬合軟件中,添加無(wú)定型碳峰進(jìn)行全譜峰形擬合,擬合完成后,顯示并固定背

底散射曲線(xiàn)。刪除添加的無(wú)定型碳峰,給無(wú)定型碳假定一個(gè)晶體結(jié)構(gòu)模型,設(shè)空間群為P4,晶胞參數(shù)a=1,

c=70,得到該晶胞的體積V值,采用這個(gè)假定的晶體結(jié)構(gòu)模型再次對(duì)無(wú)定型碳的XRD譜圖進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)

進(jìn)行全譜擬合精修,給晶粒尺寸函數(shù)“CrysizeL”賦最大值為3.5nm,并且精修該函數(shù)。擬合完成后固

定“CrysizeL”值和所有的峰強(qiáng)度;把比例因子狀態(tài)由固定改為可以精修,給比例因子賦初始值0.00001,

再次進(jìn)行擬合,擬合完成后用配制的內(nèi)標(biāo)混合樣品的XRD譜圖取代無(wú)定型碳的XRD譜圖,并調(diào)入剛玉

的晶體結(jié)構(gòu)文件,背底散射曲線(xiàn)函數(shù)改為可以精修、剛玉的晶粒尺寸函數(shù)“CrysizeL”設(shè)置為可以精

修,輸入儀器參數(shù)相關(guān)的擬合參數(shù),進(jìn)行Rietveld全譜擬合定量分析。

8.1.3根據(jù)配制的內(nèi)標(biāo)混合物中無(wú)定型碳和剛玉的質(zhì)量百分比,剛玉的ZMV值和無(wú)定型碳的晶胞體積

V值,計(jì)算得到無(wú)定型碳的ZM整體值;并將該值代入上述擬合好的內(nèi)標(biāo)混合物中無(wú)定型碳相的晶體結(jié)

構(gòu)參數(shù)中再次進(jìn)行擬合,擬合完成后得到和配制的混合物樣品含量一樣的定量結(jié)果,此時(shí)得到無(wú)定型碳

相的結(jié)構(gòu)信息即可保存為無(wú)定型碳的結(jié)構(gòu)文件在Rietveld全譜擬合定量分析中可以直接使用。

8.2類(lèi)石墨碳相結(jié)構(gòu)模型建立

選取未石墨化的碳材料樣品,其中物相包含無(wú)定型碳和類(lèi)石墨碳。在5.1的測(cè)試條件下,采集其XRD

譜圖,將該譜圖調(diào)入XRD全譜擬合軟件,同時(shí)將步驟8.1.2和8.1.3中建立的背底散射曲線(xiàn)函數(shù)和無(wú)定型碳

結(jié)構(gòu)模型調(diào)入,然后再調(diào)入石墨結(jié)構(gòu)文件作為類(lèi)石墨碳結(jié)構(gòu)的初始模型進(jìn)行全譜擬合,擬合時(shí)允許石墨

結(jié)構(gòu)模型中的原子位置變化,擬合完成后即可通過(guò)分峰得到類(lèi)石墨碳的XRD譜圖,此時(shí),類(lèi)石墨碳相的

結(jié)構(gòu)信息可以保存為類(lèi)石墨碳相結(jié)構(gòu)文件在Rietveld全譜擬合定量分析中可以直接使用。

9實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)處理

3

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9.1碳材料物相含量的計(jì)算

采用5.1的儀器條件采集待測(cè)碳材料樣品的XRD譜圖,利用步驟8.1和8.2中建立的無(wú)定型碳相結(jié)構(gòu)模

型文件和類(lèi)石墨碳相結(jié)構(gòu)模型文件,以及石墨的晶體結(jié)構(gòu)文件進(jìn)行Rietveld全譜擬合精修,擬合完成后

將XRD譜圖分解成的背底散射曲線(xiàn)和無(wú)定型碳、類(lèi)石墨碳和石墨三個(gè)物相對(duì)應(yīng)的峰,同時(shí)可得到各個(gè)物

相的準(zhǔn)確的晶胞參數(shù)、精確峰位、峰強(qiáng)和碳材料中各物相的含量。

9.2碳材料中石墨相微觀(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)計(jì)算

在XRD全譜擬合軟件中打開(kāi)9.1中全譜擬合好的文件,刪掉類(lèi)石墨相和石墨相,添加“peaksphase”

項(xiàng)目,隨便插入和類(lèi)石墨相和石墨相總數(shù)相等的峰,將插入的峰位置改為類(lèi)全譜分峰擬合好后的石墨相

和石墨相的峰位置并固定峰位置,進(jìn)行全譜峰形擬合,擬合完成后得到峰的積分強(qiáng)度。根據(jù)擬合得到的

石墨相的2θ角值和積分強(qiáng)度值利用公式(4)、(5)和(6)計(jì)算得到石墨相的平均晶面間距d002,石墨

化度g;石墨微晶片層堆積厚度Lc和微晶的基面堆積寬度La等微觀(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)。

石墨的晶面間距由下面的布拉格公式計(jì)算得到:

dhkl/2sin(hkl)…………(4)

式中:

dhkl為石墨(hkl)晶面的平均晶面間距,單位為(?);

θ為(hkl)晶面衍射的布拉格角,單位為(°);

λ為入射波波長(zhǎng),單位為(?)。

石墨化度g的計(jì)算公式如下所示:

0.3440?d

?=002×100%…………(5)

0.3440?0.3354

式中:

g為石墨化度,單位(%);

d002為(002)晶面的平均晶面間距,單位為(nm)。

石墨片層堆積厚度Lc、基面堆積寬度La的計(jì)算公式如下所示:

Lhkl=Kλ/βcosθ…………(6)

式中:

Lhkl為垂直于hkl晶面的平均微晶尺寸,單位為(nm);

θ為hkl晶面衍射的布拉格角,單位為(°);

λ為入射波長(zhǎng),單位為(nm);

K為形狀因子;

β為積分強(qiáng)度,單位用弧度表示(nm)。

當(dāng)公式(6)中的K值取0.89,(hkl)為(002)晶面時(shí),L002值即為石墨微晶片層堆積厚度Lc;

當(dāng)公式(6)中的K值取1.84,(hkl)為(110)晶面時(shí),L110值即為石墨微晶的基面堆積寬度La。

報(bào)告兩次測(cè)定結(jié)果的平均值。實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)有效數(shù)字,物相百分含量小數(shù)點(diǎn)后保留一位有效數(shù)字;晶面

間距,小數(shù)點(diǎn)后保留四位有效數(shù)字;石墨化度,小數(shù)點(diǎn)后保留一位有效數(shù)字;片層堆積厚度和基面堆積

寬度,小數(shù)點(diǎn)后保留一位有效數(shù)字。

4

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10.精密度

本文件的精密度數(shù)據(jù)是在五個(gè)實(shí)驗(yàn)室對(duì)兩個(gè)不同物相含量的碳材料樣品的物相含量和微觀(guān)結(jié)構(gòu)參

數(shù)進(jìn)行共同試驗(yàn)的基礎(chǔ)上確定的。按GB/T6379.2的規(guī)定,各實(shí)驗(yàn)室對(duì)每個(gè)樣品測(cè)定三次并報(bào)告結(jié)果,

原始數(shù)據(jù)依據(jù)GB/T6379.2進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析。石墨相含量低的(石墨相質(zhì)量百分?jǐn)?shù)<70%)碳材料樣品精密

度見(jiàn)表1和表2;石墨相含量高的(石墨相質(zhì)量百分?jǐn)?shù)≥70%)碳材料樣品精密度見(jiàn)表3和表4。

表1石墨相含量低的碳材料樣品各物相含量測(cè)定結(jié)果精密度

物相重復(fù)性限r(nóng)(%)再現(xiàn)性限R(%)

無(wú)定型碳1.7112.42

類(lèi)石墨碳0.639.88

石墨碳2.007.83

表2石墨相含量低的碳材料樣品中石墨微觀(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)測(cè)定結(jié)果的精密度

石墨相微觀(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)重復(fù)性限r(nóng)再現(xiàn)性限R

d002(?)0.004000.05446

d110(?)0.013080.19275

片層堆積厚度Lc(nm)0.331.36

基面堆積寬度La(nm)0.391.11

表3石墨相含量高的碳材料樣品各物相含量測(cè)定結(jié)果精密度

物相重復(fù)性限r(nóng)(%)再現(xiàn)性限R(%)

無(wú)定型碳0.645.89

類(lèi)石墨碳0.951.09

石墨碳0.565.13

表4石墨相含量高的碳材料樣品中石墨微觀(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)測(cè)定結(jié)果的精密度

石墨相微觀(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)重復(fù)性限r(nóng)再現(xiàn)性限R

d002(?)0.001240.00975

d110(?)0.000280.00095

片層堆積厚度Lc(nm)0.410.87

基面堆積寬度La(nm)1.774.11

11.試驗(yàn)報(bào)告

試驗(yàn)報(bào)告至少應(yīng)包含以下信息:

a)試樣編號(hào);

b)依據(jù)標(biāo)準(zhǔn);

c)結(jié)果計(jì)算;

d)試驗(yàn)日期。

5

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附錄A

(資料性)

不同物相含量碳材料的XRD圖和全譜擬合圖

A.1含有非晶碳和類(lèi)石墨碳的碳材料的XRD圖和全譜擬合圖

6

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A.2石墨、類(lèi)石墨含量低的碳材料的XRD圖和全譜擬合圖

A.3石墨、類(lèi)石墨含量比較低的碳材料的XRD圖和全譜擬合圖

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