鍍膜工上崗證考試題庫(kù)及答案工種：鍍膜工等級(jí)：上崗證時(shí)間：120分鐘滿(mǎn)分：100分---一、單選題（每題2分，共20分）1.鍍膜前，工件表面必須經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的處理，其主要目的是什么？A.增加外觀光澤B.去除油污和氧化物C.增強(qiáng)硬度D.提高導(dǎo)電性2.以下哪種氣體常用于磁控濺射鍍膜工藝？A.氮?dú)猓∟?）B.氬氣（Ar）C.氧氣（O?）D.氫氣（H?）3.鍍膜厚度不均勻的主要原因是什么？A.鍍膜材料純度低B.工件表面溫度過(guò)高C.鍍膜機(jī)真空度不足D.鍍膜時(shí)間過(guò)長(zhǎng)4.在化學(xué)氣相沉積（CVD）過(guò)程中，常用的載氣是什么？A.氮?dú)釨.氬氣C.氫氣D.氦氣5.鍍膜后，工件需要進(jìn)行退火處理的主要目的是什么？A.增加鍍層硬度B.提高鍍層附著力C.降低鍍層電阻D.增強(qiáng)鍍層耐腐蝕性6.鍍膜機(jī)真空度通常要求達(dá)到多少帕斯卡以下？A.1×10?B.1×10?3C.1×10??D.1×10?17.鍍膜過(guò)程中，出現(xiàn)鍍層開(kāi)裂的原因可能是？A.鍍膜速度過(guò)快B.鍍膜溫度過(guò)低C.鍍膜材料純度高D.工件表面清潔度好8.以下哪種設(shè)備主要用于物理氣相沉積（PVD）？A.等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）設(shè)備B.真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)C.化學(xué)鍍槽D.電鍍槽9.鍍膜后，鍍層與基材之間的結(jié)合力通常用哪種方法測(cè)試？A.拉伸測(cè)試B.硬度測(cè)試C.光譜分析D.熱膨脹測(cè)試10.鍍膜過(guò)程中，氣體流量不穩(wěn)定可能導(dǎo)致什么問(wèn)題？A.鍍層厚度均勻B.鍍層電阻降低C.鍍層針孔增多D.鍍層附著力增強(qiáng)---二、多選題（每題3分，共15分）1.鍍膜前的表面預(yù)處理方法包括？A.磨光B.化學(xué)清洗C.離子轟擊D.活化處理E.酸洗2.影響鍍膜均勻性的因素有？A.鍍膜機(jī)真空度B.工件尺寸C.鍍膜距離D.氣體流量E.鍍膜溫度3.鍍膜過(guò)程中可能出現(xiàn)的缺陷包括？A.針孔B.膜裂C.氧化層D.臟污E.厚度不均4.磁控濺射鍍膜工藝的優(yōu)點(diǎn)有？A.鍍膜速率高B.鍍層均勻性好C.適用材料范圍廣D.鍍層致密度高E.成本低5.鍍膜后需要進(jìn)行檢驗(yàn)的項(xiàng)目包括？A.鍍層厚度B.附著力C.電阻率D.光學(xué)性能E.耐腐蝕性---三、判斷題（每題1分，共10分）1.鍍膜前工件表面必須完全干燥，不能有水分殘留。（√）2.鍍膜厚度通常用納米（nm）或微米（μm）表示。（√）3.鍍膜過(guò)程中，真空度越高越好。（×）4.鍍膜后工件不需要進(jìn)行清潔即可直接使用。（×）5.化學(xué)氣相沉積（CVD）主要依賴(lài)等離子體激發(fā)反應(yīng)物。（×）6.鍍膜層的硬度通常比基材硬度低。（×）7.鍍膜過(guò)程中，氣體流量越大越好。（×）8.鍍層附著力差通常是因?yàn)榛谋砻嫜趸?。（√?.鍍膜厚度不均勻時(shí)，可以通過(guò)調(diào)整工件位置解決。（√）10.鍍膜過(guò)程中產(chǎn)生的廢氣可以直接排放。（×）---四、簡(jiǎn)答題（每題5分，共20分）1.簡(jiǎn)述物理氣相沉積（PVD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）的主要區(qū)別。2.鍍膜過(guò)程中，如何提高鍍層附著力？3.簡(jiǎn)述鍍膜前工件表面清潔的方法及其目的。4.鍍膜過(guò)程中，如何判斷真空度是否達(dá)標(biāo)？---五、論述題（10分）結(jié)合實(shí)際，分析鍍膜工藝中影響鍍層均勻性的主要因素，并提出至少三種改進(jìn)措施。---答案及解析一、單選題1.B2.B3.C4.C5.B6.C7.A8.B9.A10.C解析：1.鍍膜前表面處理主要去除油污和氧化物，確保鍍層結(jié)合牢固。3.真空度不足會(huì)導(dǎo)致氣體干擾，影響鍍層均勻性。7.鍍膜速度過(guò)快可能導(dǎo)致應(yīng)力集中，引起開(kāi)裂。二、多選題1.A,B,C,D,E2.A,B,C,D,E3.A,B,C,D,E4.A,B,C,D5.A,B,C,D,E解析：1.表面預(yù)處理包括多種方法，確保清潔和活化。4.磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)包括高效率和高致密性，但成本相對(duì)較高。三、判斷題1.√2.√3.×（真空度需根據(jù)工藝調(diào)整，過(guò)高可能浪費(fèi)資源）4.×（需清潔以避免污染鍍層）5.×（CVD依賴(lài)化學(xué)反應(yīng)，非等離子體）6.×（鍍層硬度通常高于基材）7.×（需精確控制）8.√9.√10.×（需處理達(dá)標(biāo)后排放）四、簡(jiǎn)答題1.PVDvsCVD區(qū)別：-PVD通過(guò)物理方式（如濺射）沉積，速率快，鍍層致密；CVD通過(guò)化學(xué)反應(yīng)沉積，速率慢，適用材料廣。2.提高附著力方法：-基材表面預(yù)處理（酸洗、活化）；選擇合適的中間層；控制鍍膜溫度。3.表面清潔方法及目的：-方法：機(jī)械拋光、化學(xué)清洗、等離子體活化；目的：去除氧化層和污染物，確保鍍層結(jié)合牢固。4.判斷真空度方法：-通過(guò)真空計(jì)讀數(shù)，或觀察輝光放電是否正常（磁控濺射）。五、論述題影響均勻性的因素及改進(jìn)措