ICS1334030

CCSC.73.

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB31975—2025

代替GB/T31975—2015

呼吸防護(hù)壓縮空氣技術(shù)要求

Respiratoryprotection—Technicalrequirementsforcompressedairof

breathingapparatus

2025-08-29發(fā)布2026-09-01實(shí)施

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB31975—2025

目次

前言

…………………………Ⅲ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術(shù)語(yǔ)和定義

3………………1

技術(shù)要求

4…………………1

測(cè)試方法

5…………………2

樣品采集和現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試

6……………………4

附錄規(guī)范性壓縮空氣中油霧與顆粒物的檢測(cè)方法

A()………………5

參考文獻(xiàn)

………………………7

Ⅰ

GB31975—2025

前言

本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

本文件代替呼吸防護(hù)用壓縮空氣技術(shù)要求與相比除

GB/T31975—2015《》,GB/T31975—2015,

結(jié)構(gòu)調(diào)整和編輯性改動(dòng)外主要技術(shù)變化如下

,:

更改了氧氣含量有害物質(zhì)含量異味的技術(shù)要求見(jiàn)年版的第章

a)、、(4.1、4.2、4.4,20154);

增加了露點(diǎn)和含水量的技術(shù)要求見(jiàn)

b)(4.3);

更改了有害物質(zhì)含量一氧化碳二氧化碳露點(diǎn)和含水量測(cè)試方法見(jiàn)年

c)(、、)(5.2、5.3、5.5,2015

版的

5.2、5.3、5.5);

增加了異味的測(cè)試方法見(jiàn)

d)(5.6)。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任

。。

本文件由中華人民共和國(guó)應(yīng)急管理部提出并歸口

。

本文件及其所代替文件的歷次版本發(fā)布情況為

:

年首次發(fā)布為

———2015GB/T31975—2015;

本次為第一次修訂

———。

Ⅲ

GB31975—2025

呼吸防護(hù)壓縮空氣技術(shù)要求

1范圍

本文件規(guī)定了呼吸防護(hù)用壓縮空氣的技術(shù)要求描述了測(cè)試方法樣品采集和現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試

,、。

本文件適用于呼吸防護(hù)裝備用壓縮空氣

。

本文件不適用于醫(yī)療用壓縮空氣潛水呼吸裝備和航空呼吸裝備用的壓縮空氣

、。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過(guò)文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文

。,

件僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于

,;,()

本文件

。

工業(yè)氧

GB/T3863—2008

氣體分析微量水分的測(cè)定第部分露點(diǎn)法

GB/T5832.22:

個(gè)體防護(hù)裝備術(shù)語(yǔ)

GB/T12903

公共場(chǎng)所衛(wèi)生檢驗(yàn)方法第部分化學(xué)性指標(biāo)

GB/T18204.2—20252:

3術(shù)語(yǔ)和定義

界定的以及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

GB/T12903。

31

.

露點(diǎn)dewpoint

在恒定壓力下氣體中所含水分含水量達(dá)到飽和并凝結(jié)成露或霜冰時(shí)的溫度

,()()。

32

.

露點(diǎn)法dewpointmethod

通過(guò)測(cè)試壓縮空氣的露點(diǎn)來(lái)表示其中水分含量的方法

。

4技術(shù)要求

41氧氣含量

.

壓縮空氣中氧氣含量應(yīng)為體積分?jǐn)?shù)標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下按

(O2)19.5%~23.5%[,(20℃,