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2025版圖設(shè)計秋招面試題及答案
單項選擇題(每題2分,共10題)1.版圖設(shè)計中,DRC指的是()A.設(shè)計規(guī)則檢查B.電學規(guī)則檢查C.版圖與原理圖一致性檢查D.布局規(guī)劃2.以下哪種器件不屬于MOS管類型()A.NMOSB.PMOSC.CMOSD.BJT3.版圖中金屬層的作用是()A.提供有源區(qū)B.實現(xiàn)器件間電氣連接C.形成隔離區(qū)D.制造電容4.通常用于減小寄生電容的方法是()A.增加金屬層厚度B.減小器件間距C.采用絕緣層隔離D.增大器件尺寸5.版圖設(shè)計流程中,布局之后的步驟是()A.布線B.提取寄生參數(shù)C.驗證D.原理圖設(shè)計6.以下哪種圖形在版圖中用于連接不同金屬層()A.有源區(qū)B.多晶硅C.通孔D.接觸孔7.版圖設(shè)計中,LVS主要檢查()A.設(shè)計規(guī)則是否違反B.版圖與原理圖的電氣連接是否一致C.電路的時序是否滿足要求D.器件的參數(shù)是否正確8.對于模擬電路版圖,關(guān)鍵是保證()A.高集成度B.低功耗C.匹配性和對稱性D.高速性能9.版圖中阱的作用是()A.提供載流子B.隔離不同類型器件C.增加器件速度D.減小功耗10.以下哪種工具常用于版圖設(shè)計()A.CadenceVirtuosoB.MATLABC.PythonD.EDAPlayground多項選擇題(每題2分,共10題)1.版圖設(shè)計中的驗證工作包括()A.DRCB.LVSC.后仿真D.功耗分析2.影響版圖寄生電阻的因素有()A.金屬層厚度B.金屬線寬度C.材料電阻率D.器件尺寸3.版圖設(shè)計中常用的隔離技術(shù)有()A.阱隔離B.氧化物隔離C.深槽隔離D.多晶硅隔離4.模擬版圖設(shè)計需要考慮的因素有()A.匹配性B.噪聲C.電源完整性D.布線密度5.版圖設(shè)計中,提高電路性能的方法有()A.優(yōu)化布局B.合理布線C.減小寄生參數(shù)D.增加器件數(shù)量6.以下屬于版圖設(shè)計層次的有()A.有源區(qū)B.多晶硅層C.金屬層D.襯底層7.版圖設(shè)計中可能遇到的問題有()A.寄生效應(yīng)B.串擾C.電遷移D.閂鎖效應(yīng)8.數(shù)字版圖設(shè)計的特點包括()A.高集成度B.規(guī)則性強C.對匹配性要求高D.注重時序9.版圖設(shè)計中,布線的基本原則有()A.避免交叉B.縮短連線長度C.合理分配金屬層D.增加過孔數(shù)量10.版圖設(shè)計中,減小功耗的方法有()A.降低電源電壓B.優(yōu)化器件尺寸C.減少開關(guān)活動D.增加電容值判斷題(每題2分,共10題)1.版圖設(shè)計只需要考慮器件的布局,不需要關(guān)注布線。()2.DRC檢查主要是確保版圖與原理圖的電氣連接一致。()3.多晶硅在版圖中主要用于制作MOS管的柵極。()4.版圖設(shè)計中,寄生參數(shù)對電路性能沒有影響。()5.模擬版圖設(shè)計對器件的匹配性要求不高。()6.版圖設(shè)計流程中,驗證工作只需要進行一次。()7.金屬層的厚度越厚,寄生電阻越大。()8.阱隔離可以有效隔離不同類型的器件。()9.數(shù)字版圖設(shè)計更注重時序和集成度。()10.版圖設(shè)計中,增加過孔數(shù)量可以提高電路性能。()簡答題(每題5分,共4題)1.簡述版圖設(shè)計中DRC和LVS的區(qū)別。2.版圖設(shè)計中如何減小寄生電容?3.模擬版圖設(shè)計的關(guān)鍵要點有哪些?4.版圖設(shè)計流程包含哪些主要步驟?討論題(每題5分,共4題)1.討論版圖設(shè)計中寄生效應(yīng)的影響及應(yīng)對措施。2.談?wù)剶?shù)字版圖和模擬版圖設(shè)計的差異。3.分析版圖設(shè)計中布線對電路性能的影響。4.探討如何在版圖設(shè)計中提高電路的可靠性。答案單項選擇題1.A2.D3.B4.C5.A6.C7.B8.C9.B10.A多項選擇題1.ABC2.ABC3.ABC4.ABC5.ABC6.ABC7.ABCD8.ABD9.ABC10.ABC判斷題1.×2.×3.√4.×5.×6.×7.×8.√9.√10.×簡答題1.DRC是檢查版圖是否違反設(shè)計規(guī)則,如間距、寬度等;LVS是檢查版圖與原理圖的電氣連接是否一致。2.可采用絕緣層隔離、增大器件間距、優(yōu)化布線等方法減小寄生電容。3.關(guān)鍵要點有保證器件匹配性和對稱性、考慮噪聲和電源完整性等。4.主要步驟包括原理圖設(shè)計、布局、布線、驗證、提取寄生參數(shù)、后仿真等。討論題1.寄生效應(yīng)會影響電路性能,如速度、功耗等??赏ㄟ^優(yōu)化布局布線、采用隔離技術(shù)等應(yīng)對。2.數(shù)字版圖高集成度、規(guī)則性強、
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