2025年納米技術(shù)在電子領(lǐng)域的應(yīng)用資格考試試題及答案_第1頁(yè)
2025年納米技術(shù)在電子領(lǐng)域的應(yīng)用資格考試試題及答案_第2頁(yè)
2025年納米技術(shù)在電子領(lǐng)域的應(yīng)用資格考試試題及答案_第3頁(yè)
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2025年納米技術(shù)在電子領(lǐng)域的應(yīng)用資格考試試題及答案一、單項(xiàng)選擇題(每題2分,共30分)1.2025年主流商用納米晶體管的柵極長(zhǎng)度已縮小至()A.7納米B.5納米C.3納米D.1納米答案:C2.用于柔性電子器件的銀納米線透明電極,其方塊電阻典型值為()A.1000Ω/□B.100Ω/□C.10Ω/□D.1Ω/□答案:C(注:2025年通過(guò)表面等離子體焊接技術(shù),銀納米線電極方塊電阻可穩(wěn)定低于15Ω/□)3.基于量子點(diǎn)的新型顯示技術(shù)中,藍(lán)光量子點(diǎn)的典型尺寸范圍是()A.1-2nmB.2-4nmC.4-6nmD.6-8nm答案:B(量子點(diǎn)尺寸與發(fā)光波長(zhǎng)成正相關(guān),藍(lán)光對(duì)應(yīng)較小尺寸)4.阻變存儲(chǔ)器(RRAM)實(shí)現(xiàn)多值存儲(chǔ)的核心機(jī)制是()A.納米絲的直徑調(diào)控B.量子隧穿效應(yīng)C.肖特基勢(shì)壘變化D.鐵電疇翻轉(zhuǎn)答案:A(通過(guò)控制導(dǎo)電納米絲的直徑或數(shù)量實(shí)現(xiàn)不同電阻態(tài))5.納米光子晶體在光電子器件中的主要作用是()A.增強(qiáng)載流子遷移率B.調(diào)控光子帶隙C.提高熱導(dǎo)率D.降低接觸電阻答案:B(光子晶體通過(guò)周期性納米結(jié)構(gòu)調(diào)控光子傳播特性)6.用于5G通信的納米天線陣列,其單元間距通常設(shè)計(jì)為()A.1/10波長(zhǎng)B.1/5波長(zhǎng)C.1/2波長(zhǎng)D.1波長(zhǎng)答案:A(納米級(jí)間距利用表面等離激元耦合實(shí)現(xiàn)超緊湊設(shè)計(jì))7.柔性納米傳感器檢測(cè)人體乳酸濃度時(shí),敏感層常用材料是()A.單壁碳納米管-乳酸氧化酶復(fù)合物B.二氧化鈦納米顆粒C.金納米棒D.氧化鋅納米線答案:A(酶功能化碳納米管可特異性識(shí)別乳酸分子)8.三維堆疊納米芯片中,TSV(硅通孔)的最小直徑已突破()A.10微米B.5微米C.1微米D.500納米答案:D(2025年采用原子層沉積工藝實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)TSV制備)9.納米熱電材料提升ZT值的關(guān)鍵在于()A.增大載流子濃度B.降低晶格熱導(dǎo)率C.提高Seebeck系數(shù)D.增強(qiáng)電子遷移率答案:B(納米結(jié)構(gòu)通過(guò)聲子散射顯著降低熱導(dǎo)率)10.用于神經(jīng)接口的納米電子器件,其表面修飾常用()A.聚乙二醇(PEG)納米層B.二氧化硅薄膜C.金納米顆粒陣列D.碳納米管森林答案:A(PEG納米層可有效降低生物排斥反應(yīng))11.納米級(jí)磁性隨機(jī)存儲(chǔ)器(MRAM)的存儲(chǔ)單元核心結(jié)構(gòu)是()A.鐵磁層/非磁層/鐵磁層三明治結(jié)構(gòu)B.單層鐵磁薄膜C.反鐵磁/鐵磁雙層結(jié)構(gòu)D.多鐵性異質(zhì)結(jié)答案:A(自旋轉(zhuǎn)移矩MRAM基于磁性隧道結(jié)(MTJ)的納米三明治結(jié)構(gòu))12.大面積納米電子器件制備中,卷對(duì)卷工藝的最高線速度可達(dá)()A.1m/minB.10m/minC.50m/minD.100m/min答案:C(2025年通過(guò)激光誘導(dǎo)圖案化技術(shù)提升卷對(duì)卷生產(chǎn)效率)13.納米壓印光刻(NIL)制備20nm以下結(jié)構(gòu)時(shí),常用模板材料是()A.硅B.石英C.氮化硼D.金剛石答案:D(金剛石模板具有更高的硬度和耐腐蝕性)14.用于太赫茲?rùn)z測(cè)的納米傳感器,其響應(yīng)時(shí)間可達(dá)到()A.微秒級(jí)B.納秒級(jí)C.皮秒級(jí)D.飛秒級(jí)答案:C(納米結(jié)構(gòu)縮短載流子輸運(yùn)路徑,響應(yīng)時(shí)間進(jìn)入皮秒量級(jí))15.量子點(diǎn)發(fā)光二極管(QLED)中,電子傳輸層常用的納米材料是()A.氧化鋅納米顆粒B.二氧化鈦納米線C.石墨烯D.二硫化鉬答案:A(ZnO納米顆粒具有合適的電子遷移率和能級(jí)匹配)二、填空題(每空2分,共20分)1.碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管(CNTFET)中,通過(guò)控制_________可實(shí)現(xiàn)n型或p型器件的選擇性制備。答案:摻雜劑類(lèi)型(或表面功能化分子)2.納米線傳感器檢測(cè)NO?氣體時(shí),其響應(yīng)機(jī)制主要基于_________引起的載流子濃度變化。答案:氣體分子吸附/脫附(或表面電荷轉(zhuǎn)移)3.三維納米閃存(3DNAND)的存儲(chǔ)密度已突破_________Tb/mm2。答案:10(注:2025年堆疊層數(shù)超200層,密度可達(dá)10-15Tb/mm2)4.柔性電子基底材料聚酰亞胺(PI)的納米級(jí)表面粗糙度需控制在_________以下以保證器件性能。答案:1nm(或0.5nm)5.自旋電子器件中,利用_________效應(yīng)可實(shí)現(xiàn)電流對(duì)磁矩的高效調(diào)控。答案:自旋軌道矩(SOT)或自旋轉(zhuǎn)移矩(STT)6.納米光子集成芯片中,硅基納米波導(dǎo)的最小彎曲半徑已降至_________微米。答案:0.5(或0.3)7.用于可穿戴設(shè)備的納米能量收集器,其能量轉(zhuǎn)換效率(機(jī)械能→電能)可達(dá)_________%。答案:30(注:壓電納米線陣列可實(shí)現(xiàn)25-35%轉(zhuǎn)換效率)8.神經(jīng)形態(tài)計(jì)算芯片中,納米級(jí)憶阻器的開(kāi)關(guān)速度已達(dá)到_________納秒。答案:10(或5-15)9.納米級(jí)熱電發(fā)電機(jī)(TEG)的功率密度可超過(guò)_________mW/cm2。答案:50(注:納米結(jié)構(gòu)提升ZT值后,功率密度顯著提高)10.大面積納米電子器件的均勻性檢測(cè)中,拉曼光譜的空間分辨率需達(dá)到_________納米。答案:50(或20-100)三、簡(jiǎn)答題(每題8分,共40分)1.簡(jiǎn)述納米技術(shù)如何解決傳統(tǒng)晶體管的短溝道效應(yīng)?答案:傳統(tǒng)晶體管當(dāng)柵長(zhǎng)縮小至10nm以下時(shí),源漏之間的電場(chǎng)會(huì)繞過(guò)柵極控制,導(dǎo)致閾值電壓漂移(短溝道效應(yīng))。納米技術(shù)通過(guò)以下方式解決:①采用環(huán)繞柵(GAA)結(jié)構(gòu),如納米線或納米片晶體管,實(shí)現(xiàn)三維柵極包圍溝道,增強(qiáng)柵極對(duì)溝道的靜電控制;②使用高遷移率納米材料(如碳納米管、二硫化鉬)替代硅,其原子級(jí)薄的溝道厚度可抑制載流子隧穿;③引入應(yīng)變工程,通過(guò)納米級(jí)應(yīng)力層調(diào)控溝道材料晶格,提高載流子遷移率的同時(shí)減少漏電流;④采用異質(zhì)結(jié)界面設(shè)計(jì),如InGaAs/InP納米線,利用帶隙工程優(yōu)化載流子限制。2.說(shuō)明量子點(diǎn)在新型顯示技術(shù)中的優(yōu)勢(shì)及2025年主流應(yīng)用場(chǎng)景。答案:量子點(diǎn)(QD)的優(yōu)勢(shì):①發(fā)光純度高(半峰寬<30nm),色域覆蓋超120%NTSC,色彩表現(xiàn)優(yōu)于OLED;②光穩(wěn)定性好(壽命超10萬(wàn)小時(shí)),優(yōu)于有機(jī)發(fā)光材料;③可溶液加工,適合卷對(duì)卷大規(guī)模生產(chǎn);④尺寸可調(diào)諧,單一組分可通過(guò)尺寸控制實(shí)現(xiàn)全色發(fā)光。2025年主流應(yīng)用場(chǎng)景:①M(fèi)ini-LED背光源的量子點(diǎn)膜(QDEF),用于65英寸以上高端電視;②主動(dòng)式量子點(diǎn)發(fā)光二極管(QLED)顯示屏,應(yīng)用于10-15英寸筆記本電腦和車(chē)載顯示;③微型量子點(diǎn)顯示器(μ-QLED),用于AR/VR頭顯,像素密度超5000PPI。3.分析納米線傳感器相較于傳統(tǒng)薄膜傳感器的性能提升點(diǎn)。答案:納米線傳感器的性能提升體現(xiàn)在:①高比表面積(直徑10-100nm,長(zhǎng)度1-10μm),表面活性位點(diǎn)更多,氣體/生物分子吸附效率提高1-2個(gè)數(shù)量級(jí);②一維結(jié)構(gòu)限制載流子傳輸路徑,表面電荷變化對(duì)整體電導(dǎo)的調(diào)制效應(yīng)更顯著(靈敏度提升5-10倍);③納米線間的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)形成多個(gè)勢(shì)壘,待測(cè)物吸附可改變勢(shì)壘高度,實(shí)現(xiàn)多參數(shù)檢測(cè)(如同時(shí)監(jiān)測(cè)濃度和濕度);④可通過(guò)異質(zhì)結(jié)納米線(如ZnO/CdS核殼結(jié)構(gòu))實(shí)現(xiàn)選擇性響應(yīng),降低交叉干擾;⑤機(jī)械柔性好,可集成于曲面基底,擴(kuò)展應(yīng)用場(chǎng)景(如可穿戴健康監(jiān)測(cè))。4.論述三維納米集成技術(shù)(3DIC)對(duì)電子設(shè)備小型化的推動(dòng)作用。答案:三維納米集成通過(guò)垂直堆疊芯片,突破二維平面集成的物理極限,具體推動(dòng)作用包括:①縮短互連線長(zhǎng)度(從毫米級(jí)降至微米級(jí)),減少信號(hào)延遲(延遲時(shí)間降低80%以上),提升芯片運(yùn)行速度;②提高集成密度(單位體積晶體管數(shù)量提升10倍以上),實(shí)現(xiàn)SoC(系統(tǒng)級(jí)芯片)到SIP(系統(tǒng)級(jí)封裝)的升級(jí),如將CPU、GPU、內(nèi)存、傳感器集成于單一3D結(jié)構(gòu);③優(yōu)化熱管理,通過(guò)TSV(硅通孔)直接導(dǎo)出熱量(熱阻降低50%),解決高集成度帶來(lái)的散熱問(wèn)題;④支持異質(zhì)集成(如硅基電路與III-V族光電子器件堆疊),實(shí)現(xiàn)光電融合芯片,應(yīng)用于5G通信和數(shù)據(jù)中心;⑤降低封裝體積(厚度從1mm降至0.3mm),推動(dòng)可穿戴設(shè)備、植入式醫(yī)療電子等微型化產(chǎn)品發(fā)展。5.說(shuō)明納米材料在柔性電池中的應(yīng)用及面臨的挑戰(zhàn)。答案:應(yīng)用:①負(fù)極材料:硅納米線(直徑50-100nm)可緩解硅基材料充放電時(shí)的體積膨脹(體積變化從300%降至50%),提高循環(huán)壽命(超過(guò)1000次);②正極材料:釩酸鋰納米片(厚度<10nm)增大離子擴(kuò)散面積,提升倍率性能(10C放電容量保持率>80%);③電解質(zhì):陶瓷-聚合物復(fù)合納米纖維膜(直徑200-500nm)增強(qiáng)機(jī)械強(qiáng)度(斷裂伸長(zhǎng)率>150%),同時(shí)抑制鋰枝晶生長(zhǎng);④集流體:銀納米線網(wǎng)絡(luò)(方阻<5Ω/□)替代金屬箔,實(shí)現(xiàn)彎曲半徑<2mm的柔性集流。挑戰(zhàn):①大面積均勻制備:納米材料在卷對(duì)卷工藝中的分散性控制(如銀納米線團(tuán)聚問(wèn)題);②界面穩(wěn)定性:循環(huán)過(guò)程中納米材料與電解質(zhì)界面的副反應(yīng)(如SEI膜過(guò)度生長(zhǎng));③機(jī)械-電化學(xué)耦合:多次彎曲后納米結(jié)構(gòu)的疲勞斷裂(如硅納米線的裂紋擴(kuò)展);④成本控制:高純度納米材料的規(guī)模化生產(chǎn)(如單壁碳納米管的成本仍高于傳統(tǒng)材料3-5倍)。四、案例分析題(20分)案例背景:某公司研發(fā)團(tuán)隊(duì)擬開(kāi)發(fā)一款柔性可穿戴血糖監(jiān)測(cè)設(shè)備,要求實(shí)現(xiàn)非侵入式、實(shí)時(shí)連續(xù)監(jiān)測(cè),檢測(cè)范圍0.5-30mmol/L,精度±5%,設(shè)備可承受10萬(wàn)次彎曲(半徑5mm),續(xù)航7天。請(qǐng)結(jié)合納米技術(shù)設(shè)計(jì)核心傳感器及配套電子系統(tǒng),并分析關(guān)鍵技術(shù)難點(diǎn)。答案:1.核心傳感器設(shè)計(jì):采用納米復(fù)合敏感膜結(jié)構(gòu),具體方案:①敏感層:?jiǎn)伪谔技{米管(SWCNT)網(wǎng)絡(luò)負(fù)載葡萄糖氧化酶(GOx),SWCNT直徑1-2nm,長(zhǎng)度5-10μm,通過(guò)π-π相互作用固定GOx分子。SWCNT的高比表面積(>1000m2/g)可提高酶負(fù)載量(每平方厘米負(fù)載量>10μg),其優(yōu)異的導(dǎo)電性(遷移率>1000cm2/Vs)使酶催化反應(yīng)(葡萄糖+O?→葡萄糖酸+H?O?)產(chǎn)生的H?O?氧化還原反應(yīng)引起的電流變化可被高靈敏度檢測(cè)(檢測(cè)限<0.1mmol/L)。②增強(qiáng)層:采用銀納米線(AgNW)/石墨烯復(fù)合薄膜作為導(dǎo)電基底,AgNW直徑20-30nm,長(zhǎng)度20-50μm,形成三維導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)(方阻<10Ω/□);石墨烯層(厚度1-3nm)提供機(jī)械支撐(楊氏模量1TPa),同時(shí)抑制AgNW的氧化。復(fù)合基底的斷裂伸長(zhǎng)率>20%,可承受10萬(wàn)次5mm彎曲(電阻變化<10%)。③保護(hù)層:涂覆聚多巴胺(PDA)納米層(厚度50-100nm),PDA的生物相容性(細(xì)胞存活率>95%)可減少皮膚刺激,其納米級(jí)孔隙(孔徑2-5nm)允許葡萄糖分子滲透,同時(shí)阻擋大分子(如蛋白質(zhì))干擾,提高選擇性。2.配套電子系統(tǒng):①信號(hào)采集模塊:采用納米級(jí)低噪聲放大器(LNA),基于二硫化鉬(MoS?)場(chǎng)效應(yīng)晶體管(溝道長(zhǎng)度50nm),噪聲系數(shù)<1dB,可放大pA級(jí)電流信號(hào)(傳感器輸出電流范圍10pA-100nA)。②無(wú)線傳輸模塊:集成納米天線陣列(單元尺寸100×100μm2),基于表面等離激元共振設(shè)計(jì),工作頻率2.4GHz,傳輸距離>5m,功耗<10μW。③能量管理模塊:采用納米熱電發(fā)生器(nano-TEG)+柔性鋰電池組合供電。nano-TEG基于Bi?Te?納米線陣列(直徑50nm,長(zhǎng)度10μm),利用人體與環(huán)境的溫差(ΔT=5K)產(chǎn)生5μW/cm2功率;柔性鋰電池采用硅納米線負(fù)極(循環(huán)壽命>500次),容量30mAh,體積1cm3,滿(mǎn)足7天續(xù)航(總功耗<50μW)。3.關(guān)鍵技術(shù)難點(diǎn):①酶活性保持:GOx在納米界面的固定可能導(dǎo)致構(gòu)象變化(活性降低30-50%),需開(kāi)發(fā)仿生納米載體(如DNA納米框架)精準(zhǔn)固定酶分子,保持活性>90%。②生物相容性?xún)?yōu)化:PDA納米層的厚度均勻性(偏差<10%)直接影響葡萄糖滲透速率,需通過(guò)原子層沉積(ALD)實(shí)現(xiàn)納米級(jí)厚度控制(精度±1nm)。③機(jī)械可靠性:多次彎曲后AgNW與石墨烯界面可能出現(xiàn)剝離(接觸電阻增加>50%),需引入鈦酸鋇納米顆粒(直徑10nm)作為界面偶聯(lián)劑,增強(qiáng)結(jié)合力(剪切強(qiáng)度>10MPa)。④干擾抑制:汗液中的尿酸、抗壞血酸等物質(zhì)會(huì)與H?O?競(jìng)爭(zhēng)反應(yīng)(導(dǎo)致誤差>15%),需在敏感層表面修飾納米分子篩(孔徑<0.5nm),選擇性阻擋干擾分子。⑤校準(zhǔn)穩(wěn)定性:人體皮膚表面葡萄糖濃度與血液濃度的相關(guān)性受溫度、濕度影響(偏差>20%),需集成納米溫度傳感器(精度±0.1℃)和濕度傳感器(精度±2%RH),通過(guò)機(jī)器學(xué)習(xí)算法實(shí)時(shí)校準(zhǔn)。五、論述題(30分)結(jié)合2025年技術(shù)進(jìn)展,論述納米技術(shù)如何推動(dòng)電子設(shè)備向“超微型、多功能、低功耗”方向發(fā)展,并分析未來(lái)5年可能突破的關(guān)鍵瓶頸。答案:納米技術(shù)通過(guò)材料革新、結(jié)構(gòu)創(chuàng)新和工藝突破,從根本上推動(dòng)電子設(shè)備向“超微型、多功能、低功耗”演進(jìn),具體體現(xiàn)如下:一、超微型化:突破物理尺寸極限1.納米級(jí)器件制備:2025年,環(huán)繞柵納米片晶體管(GAA-FET)已實(shí)現(xiàn)柵長(zhǎng)3nm,溝道厚度僅5nm,單芯片可集成300億個(gè)晶體管(面積<100mm2),較7nm工藝密度提升3倍。碳納米管晶體管(CNTFET)的實(shí)驗(yàn)器件更實(shí)現(xiàn)了1nm柵長(zhǎng),為亞3nm節(jié)點(diǎn)提供替代方案。2.三維異質(zhì)集成:通過(guò)TSV(硅通孔)直徑500nm的三維堆疊技術(shù),將CPU、GPU、內(nèi)存、傳感器垂直集成(厚度<0.5mm),如蘋(píng)果M3Ultra芯片采用2.5D/3D納米集成,體積較前代縮小40%,同時(shí)互連線長(zhǎng)度縮短至10μm(延遲降低70%)。3.納米光子集成:硅基納米光子晶體(周期300nm)實(shí)現(xiàn)光路由、調(diào)制、探測(cè)一體化芯片(面積<1mm2),替代傳統(tǒng)分立光電器件,推動(dòng)光通信模塊體積從cm3級(jí)降至mm3級(jí)(如華為2025年推出的100G光模塊體積僅0.1cm3)。二、多功能集成:實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)級(jí)融合1.傳感-計(jì)算-存儲(chǔ)一體化:神經(jīng)形態(tài)芯片采用納米憶阻器(尺寸50×50nm2)模擬生物突觸,單芯片可集成1000萬(wàn)個(gè)突觸單元,同時(shí)具備傳感(接收光/電信號(hào))、計(jì)算(權(quán)重更新)、存儲(chǔ)(電阻態(tài)保持)功能,用于邊緣AI設(shè)備(如小米智能手表的跌倒檢測(cè)模塊響應(yīng)時(shí)間<10ms)。2.光電-生物-電子融合:納米生物傳感器(如金納米顆粒修飾的DNA納米探針)可同時(shí)檢測(cè)血糖、心率、血氧等10項(xiàng)生理指標(biāo),結(jié)合柔性納米電路(厚度<1μm),集成于智能創(chuàng)可貼(面積2×2cm2),實(shí)現(xiàn)多參數(shù)健康監(jiān)測(cè)。3.環(huán)境自適應(yīng)功能:納米相變材料(如GeSbTe納米線)具有溫度敏感特性(相變溫度60℃),可集成于電子設(shè)備外殼,當(dāng)溫度超過(guò)閾值時(shí)自動(dòng)切換至低功耗模式;同時(shí),納米壓電材料(如ZnO納米線陣列)可收集環(huán)境振動(dòng)能(50μW/cm2),實(shí)現(xiàn)自供電。三、低功耗設(shè)計(jì):優(yōu)化能量利用效率1.納米材料降低靜態(tài)功耗:二硫化鉬(MoS?)等二維材料的帶隙可調(diào)特性(1.2-1.8eV)使其關(guān)態(tài)電流低至1pA/μm(硅基器件的1/1000),用于物聯(lián)網(wǎng)傳感器節(jié)點(diǎn)(如博世環(huán)境監(jiān)測(cè)傳感器),休眠功耗<1nW,續(xù)航超10年。2.自旋電子替代電荷電子:自旋軌道矩(SOT)MRAM采用納米磁性隧道結(jié)(MTJ尺寸40×40nm2),寫(xiě)入功耗僅0.1pJ/bit(DRAM的1/100),且非易失性存儲(chǔ)特性消除待機(jī)功耗,應(yīng)用于手機(jī)內(nèi)存(如三星GalaxyS25的8GBMRAM+16GBLPDDR5X組合,待機(jī)功耗降低60%)。3.納米能量回收技術(shù):熱電器件采用Bi?Te?納米線陣列(ZT值>2.5),將芯片廢熱(80℃→30℃)轉(zhuǎn)化為電能(功率密度50mW/cm2),可滿(mǎn)足5G芯片10%的功耗需求;摩擦納米發(fā)電機(jī)

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