中國(guó)表面工程協(xié)會(huì)團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)

《電鍍園區(qū)再生水利用-工藝用水標(biāo)準(zhǔn)》

編制說(shuō)明

標(biāo)準(zhǔn)編制組

2023年10月

1項(xiàng)目背景

1.1任務(wù)來(lái)源

電鍍企業(yè)工藝用水品質(zhì)是影響產(chǎn)品質(zhì)量一項(xiàng)重要指標(biāo)。電鍍園區(qū)再生水作企

業(yè)工藝使用，不僅可以提高水資源利用效率，提高水重復(fù)利用率，同時(shí)滿(mǎn)足行業(yè)

清潔生產(chǎn)要求，是促進(jìn)電鍍行業(yè)健康發(fā)展有效舉措。為確保電鍍園區(qū)生產(chǎn)再生水

符合企業(yè)工藝用水要求，實(shí)現(xiàn)企業(yè)各工藝段用水、產(chǎn)線(xiàn)用水科學(xué)管控，水資源循

環(huán)利用，保障電鍍園區(qū)生產(chǎn)再生水回用至企業(yè)產(chǎn)線(xiàn)工藝用水品質(zhì)和產(chǎn)品質(zhì)量。惠

州金茂源環(huán)?？萍加邢薰鞠蛑袊?guó)表面工程協(xié)會(huì)自主申報(bào)了《電鍍園區(qū)再生水利

用工藝用水標(biāo)準(zhǔn)》（以下簡(jiǎn)稱(chēng)《標(biāo)準(zhǔn)》）。經(jīng)標(biāo)委會(huì)組織專(zhuān)家審查后，予以立

項(xiàng)編制，項(xiàng)目編號(hào)CSEA202307。

1.2工作過(guò)程

惠州金茂源環(huán)?？萍加邢薰驹谔峤涣㈨?xiàng)建議書(shū)之后，聯(lián)合開(kāi)展了前期編制

準(zhǔn)備，開(kāi)展了國(guó)內(nèi)外相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)和文獻(xiàn)資料的調(diào)研、檢索和收集，以及電鍍園區(qū)再

生水情況調(diào)研。從接到標(biāo)準(zhǔn)的編寫(xiě)任務(wù)開(kāi)始，組織召開(kāi)了編制討論會(huì)，針對(duì)《標(biāo)

準(zhǔn)》的定位、適用范圍、編制思路等問(wèn)題進(jìn)行了深入討論，明確了擬開(kāi)展的主要

工作和需要解決的重大問(wèn)題。在此基礎(chǔ)上，編制組研究制訂了具體的工作計(jì)劃，

明確了技術(shù)路線(xiàn)，并根據(jù)工作需要對(duì)組內(nèi)成員進(jìn)行任務(wù)分工，為保質(zhì)保量完成《標(biāo)

準(zhǔn)》編制打好基礎(chǔ)。

2022年6月，收集工藝用水相關(guān)資料、回用水使用情況調(diào)研、企業(yè)關(guān)于回

用水使用意見(jiàn)。編制工藝用水標(biāo)準(zhǔn)初稿，經(jīng)編制組評(píng)審對(duì)初稿思路方向調(diào)整。

2022年9月召開(kāi)標(biāo)準(zhǔn)編制組第一次會(huì)議；對(duì)電鍍園區(qū)回用水使用情況進(jìn)行

了解；會(huì)議確定對(duì)惠州園區(qū)5種出水指標(biāo)進(jìn)行檢測(cè)。

2023年6月，編制組完成了《標(biāo)準(zhǔn)》（初稿），并發(fā)送至相關(guān)單位專(zhuān)業(yè)技

術(shù)人員審閱。同時(shí)，組織專(zhuān)家開(kāi)展了論證會(huì)，會(huì)上編制組對(duì)專(zhuān)家提出的意見(jiàn)進(jìn)行

了答疑，就技術(shù)問(wèn)題進(jìn)行了交流和討論。

2023年8月，編制組完成了《標(biāo)準(zhǔn)》（征求意見(jiàn)稿），并發(fā)送相關(guān)單位進(jìn)

行了意見(jiàn)征詢(xún)。根據(jù)反饋意見(jiàn)，編制組對(duì)《標(biāo)準(zhǔn)》（征求意見(jiàn)稿）進(jìn)行了完善，

并開(kāi)展了征求意見(jiàn)。

1

2023年10月，根據(jù)征求意見(jiàn)情況，進(jìn)一步調(diào)整完善標(biāo)準(zhǔn)文本，形成《標(biāo)準(zhǔn)》

（送審稿），上報(bào)中國(guó)表面工程協(xié)會(huì)。

2標(biāo)準(zhǔn)制定的必要性

電鍍是當(dāng)代工業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈中不可缺少的重要環(huán)節(jié)，在機(jī)械、電子、汽車(chē)、航空、

航天等各個(gè)領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用，對(duì)各種工業(yè)產(chǎn)品起到了裝飾、防護(hù)和增加功能

的作用，使之能夠滿(mǎn)足各種實(shí)際需求。隨著經(jīng)濟(jì)的持續(xù)、快速發(fā)展，電鍍需求正

在不斷加大，電鍍?cè)诟鞴I(yè)行業(yè)中始終占據(jù)不可替代的作用，是關(guān)系整體工業(yè)發(fā)

展的重要行業(yè)之一。由于行業(yè)具有能耗大、水耗大等特點(diǎn)，行業(yè)多年來(lái)一直重視

清潔生產(chǎn)，降低能源資源消耗。與此同時(shí)，環(huán)保對(duì)于電鍍園區(qū)水回用要求越來(lái)越

高，企業(yè)對(duì)于產(chǎn)品品質(zhì)管控越來(lái)越嚴(yán)格。因此，電鍍園區(qū)回用至企業(yè)產(chǎn)線(xiàn)工藝用

水的質(zhì)量好壞，影響著企業(yè)生產(chǎn)運(yùn)營(yíng)效果和產(chǎn)品管控質(zhì)量。

目前，電鍍園區(qū)再生水用于企業(yè)產(chǎn)線(xiàn)工藝用水標(biāo)準(zhǔn)處于空白。為了指導(dǎo)電鍍

園區(qū)再生水的工藝管理與控制，滿(mǎn)足電鍍園區(qū)回用水生產(chǎn)、企業(yè)用水要求，實(shí)現(xiàn)

水資源循環(huán)利用。全面提升電鍍行業(yè)的清潔生產(chǎn)水平，同時(shí)為電鍍園區(qū)再生水作

企業(yè)產(chǎn)線(xiàn)工藝用水使用標(biāo)準(zhǔn)提供科學(xué)依據(jù)，有必要制定該標(biāo)準(zhǔn)。

3標(biāo)準(zhǔn)制定原則及總體思路

3.1編制原則

（1）科學(xué)性原則。在制定本技術(shù)導(dǎo)則時(shí)，充分總結(jié)現(xiàn)有電鍍園區(qū)企業(yè)回用

水水質(zhì)要求、使用方法和實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，考慮理論和方法的科學(xué)性，比較與分析不同

標(biāo)準(zhǔn)中不同指標(biāo)限值選取的異同點(diǎn)、優(yōu)缺點(diǎn)，科學(xué)制定與國(guó)內(nèi)現(xiàn)有技術(shù)水平相銜

接的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

（2）實(shí)用性原則。本水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)的制定以滿(mǎn)足電鍍企業(yè)產(chǎn)線(xiàn)使用為目標(biāo)，針

對(duì)行業(yè)綠色發(fā)展、水資源循環(huán)利用、提高水回用率等需求，選取合適水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)值，

提出切實(shí)可行的技術(shù)要求。同時(shí)，充分考慮了目前我國(guó)電鍍行業(yè)企業(yè)用水現(xiàn)狀，

制定不同級(jí)別用水水質(zhì)、滿(mǎn)足不同用水需求。

（3）嚴(yán)謹(jǐn)性原則。充分考慮在水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)指標(biāo)和限值選取過(guò)程中存在的影響

因素，分析所有潛在影響因素，提出解決影響因素措施。在保證回用水制電鍍企

業(yè)車(chē)間工藝水質(zhì)質(zhì)量前期下，提出不同水質(zhì)工藝用水制取流程和方法，確保指標(biāo)

2

和方法正確、合理、嚴(yán)謹(jǐn)、可行，以便能夠廣范在行業(yè)中得以應(yīng)用。

3.2總體思路

根據(jù)工作必要過(guò)程和思路框架，確定了本標(biāo)準(zhǔn)制定的技術(shù)路線(xiàn)，主要包括工

藝用水分類(lèi)、水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、制備方法和流程、管理和運(yùn)維要求、檢測(cè)分析要求，詳

細(xì)技術(shù)路線(xiàn)見(jiàn)圖1。

圖1.技術(shù)路線(xiàn)

4電鍍園區(qū)再生水利用情況

隨著國(guó)家對(duì)中水回用的要求越來(lái)越嚴(yán)格，企業(yè)需要改進(jìn)廢水處理工藝，增加

處理設(shè)備，以滿(mǎn)足中水回用率要求。電鍍園區(qū)聚集眾多電鍍企業(yè)，為達(dá)到中水回

用要求，環(huán)保部門(mén)往往要求園區(qū)將中水進(jìn)行再生利用，經(jīng)過(guò)處理后再生水大部分

要求回用到企業(yè)生產(chǎn)線(xiàn)工藝使用。

3

4.1電鍍園區(qū)再生水回用情況

表1部分電鍍園區(qū)再生水回用率要求一覽表

序號(hào)地區(qū)名稱(chēng)回用率（%)

1天津市金茂源（天津）表面處理循環(huán)經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)園50%

2重慶重潤(rùn)表面工程科技園40%

重慶市

3重慶巨科環(huán)保電鍍工業(yè)園60%

6楊市電鍍集中區(qū)60%

7鎮(zhèn)江環(huán)保電鍍專(zhuān)業(yè)區(qū)65%

8江蘇省如東經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)電鍍園區(qū)50%

9華東表面處理循環(huán)經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)園50%

12南湖區(qū)金屬表面處理集聚區(qū)60%

13金鄉(xiāng)鎮(zhèn)電鍍工業(yè)園59%

16浙江省金華市武義縣泉湖電鍍集中區(qū)60%

17寧波鄞州電鍍工業(yè)園區(qū)80%

18華清合肥表面處理基地66%

19安徽省舒城電子產(chǎn)業(yè)園表面處理中心60%

20黃山市金磊電鍍園75%

23文港電鍍集控區(qū)63%

24江西省新余市電鍍集控區(qū)50.1%

26贛州中聯(lián)環(huán)保電鍍工業(yè)園75%

30金茂源（華中）表面處理循環(huán)經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)園40%

31湖北省孝感高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)電鍍產(chǎn)業(yè)園（福聚多）零排放

32孝感東山頭中碧環(huán)保工業(yè)園60%

4

34兆亮電鍍工業(yè)中心60%

35金茂源（惠州）表面處理循環(huán)經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)園60%

36江門(mén)市崖門(mén)新財(cái)富環(huán)保電鍍產(chǎn)業(yè)園63%

37東莞麻涌豪豐電鍍工業(yè)園60%

38廣東省東莞市虎門(mén)鎮(zhèn)電鍍、印染專(zhuān)業(yè)基地60%

39揭陽(yáng)表面處理生態(tài)工業(yè)園零排放

40天創(chuàng)羅定雙東環(huán)保工業(yè)園70%

41清遠(yuǎn)市龍灣環(huán)保表面處理示范基地60%

通過(guò)全國(guó)部分地區(qū)電鍍園區(qū)再生水回用情況調(diào)研可知，大部分電鍍園區(qū)均對(duì)

中水回用率有要求，要求至少達(dá)40%以上。因此將電鍍園區(qū)再生水如何科學(xué)合理

處理、符合企業(yè)使用水質(zhì)要求，真正回用到企業(yè)工藝生產(chǎn)線(xiàn)上，顯得急迫和需要。

4.2電鍍企業(yè)工藝用水現(xiàn)狀

電鍍園區(qū)生產(chǎn)再生水，在企業(yè)端利用情況如下：

在再生水用途方面，根據(jù)調(diào)研目前企業(yè)再生水用途主要包括前處理工藝用水；

鍍槽配液用水（含開(kāi)缸配置溶液、校正調(diào)整溶液、溶液蒸發(fā)補(bǔ)充水）；鍍槽清洗

用水（清洗后水補(bǔ)充鍍槽或產(chǎn)線(xiàn)循環(huán)回用）以及鍍槽清洗用水（清洗后水排放水）、

后處理工藝。不同工藝段對(duì)用水要求不一，鍍槽配液用水和后處理工藝用水要求

高、前處理和鍍槽后清洗水要求較低。不同鍍種對(duì)水質(zhì)要求不一，鍍鋅工藝對(duì)水

質(zhì)要求不高，鍍銅、鎳、鉻、金、銀、錫等貴重金屬對(duì)水質(zhì)要求非常高。不同行

業(yè)對(duì)用水要求不一，機(jī)械、五金行業(yè)對(duì)水質(zhì)要求不高，汽配、精密電子、奢侈品、

航空航天、半導(dǎo)體等行業(yè)對(duì)水質(zhì)要求非常高。

表2不同鍍種、工序、行業(yè)對(duì)回用水要求

類(lèi)別對(duì)用水要求不是很高對(duì)用水要求很高備注

1、鍍鋅全程對(duì)用水要求都不是很

電子類(lèi)（鍍銅、鍍鎳、高，主要產(chǎn)品能過(guò)鹽霧要求及沒(méi)有

鍍鋅、五金類(lèi)(鍍銅、

鍍種鍍鉻）鍍錫、鍍金、鍍麻點(diǎn)產(chǎn)生均可以使用。

鍍鎳、鍍鉻)

銀、鍍鈀、鍍銠2、企業(yè)銅鎳鉻鍍種，水洗都可以

把回用水制作成純水使用。

5

3、針對(duì)貴金屬類(lèi)的鍍種，必須使

用更高要求的水質(zhì)，企業(yè)需要再過(guò)

一遍EDI純水系統(tǒng)，方可使用。

前處理工序及鍍后工1、前處理槽液、水洗，電鍍后水

配置鍍液及后處理純

工序序水洗、退掛-退鍍工洗均可使用回用水（制作成純水）

水洗

序進(jìn)行清洗。

1、由于產(chǎn)品的要求不一樣，有功

能性產(chǎn)品、有裝飾性產(chǎn)品。在用水

汽配、精密電子、奢侈方面要求均不一樣，在機(jī)械與普通

行業(yè)機(jī)械、五金

品五金類(lèi)產(chǎn)品中，用水要求均不高，

但在精密電子與高端汽配的條件

下，用水要求較高。

在再生水使用方式方面，根據(jù)不同鍍種和工藝環(huán)節(jié)，企業(yè)工藝用水的制取方

式有接管園區(qū)再生水、自來(lái)水管直接使用、取自來(lái)水再過(guò)純水機(jī)過(guò)濾使用、用再

生水過(guò)純水機(jī)過(guò)濾使用。根據(jù)產(chǎn)品、電鍍類(lèi)型的特性，塑膠電鍍企業(yè)（主要涉及

汽配、衛(wèi)浴、家用電器），卷對(duì)卷連續(xù)鍍企業(yè)（主要涉及端子連接器、板材電子、

LED），滾鍍企業(yè)（主要涉及精密電子、部分汽車(chē)配件）、五金掛鍍企業(yè)（主要

涉及奢侈品、高端家居產(chǎn)品），這些類(lèi)型企業(yè)都自行安裝中水及自來(lái)水再處理設(shè)

施，保證電鍍產(chǎn)線(xiàn)上的用水要求。實(shí)際上，除功能性鍍鋅可以不用外，其它鍍種

均自行安裝，以所需或備用。

4.3電鍍工藝用水標(biāo)準(zhǔn)情況

（1）現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)

目前電鍍行業(yè)現(xiàn)用的工藝用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)有《金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水

質(zhì)規(guī)范》HB5472-1991；《城市污水再生利用工業(yè)用水水質(zhì)》(GB/T19923-2005)。

a.金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)范（HB5472-1991）

該規(guī)范規(guī)定了金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水的水質(zhì)分類(lèi)和指標(biāo)、水質(zhì)分析方

法及工藝用水要求。適用于航空產(chǎn)品進(jìn)行金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝時(shí)的用水要求。

表3水質(zhì)指標(biāo)

水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

項(xiàng)目單位

ABC

PH-6.5-8.5

電阻率（25℃）MΩ··cm0.10.0070.0012

6

總可溶性固體（TDS）mg/L7100600

二氧化硅mg/L1--

氯化物mg/L512-

1：表中數(shù)據(jù)僅作為參考指導(dǎo)。

2：除pH、電阻率外，所有的值都等于或小于。

3：硼僅作為監(jiān)測(cè)離子交換床的一個(gè)可操作性參數(shù)進(jìn)行監(jiān)測(cè)。

b.《城市污水再生利用工業(yè)用水水質(zhì)》(GB/T19923-2005)

表4工業(yè)用水水質(zhì)工藝與產(chǎn)品用水

項(xiàng)目單位水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

PH-6.5-8.5

氨氮mg/L10

總磷mg/L1

化學(xué)需氧量mg/L60

總可溶性固體（TDS）mg/L1000

二氧化硅mg/L30

氯化物mg/L250

總堿度mg/L350

硫酸鹽mg/L250

陰離子表面活性劑（LAS）mg/L0.5

錳mg/L0.1

鐵mg/L0.3

1：表中數(shù)據(jù)僅作為參考指導(dǎo)。

2：除電阻率外，所有的值都等于或小于。

（2）參考標(biāo)準(zhǔn)

因?yàn)殡婂冏鳛橹圃鞓I(yè)加工環(huán)節(jié)之一，涉及行業(yè)眾多。一些如半導(dǎo)體、精密儀

器、高新技術(shù)產(chǎn)品、航空航天產(chǎn)品等電鍍加工環(huán)節(jié)所使用工藝用水水質(zhì)要求特別

高，需要達(dá)到純水或者高純水級(jí)別。一般會(huì)參考使用純水有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，如：美國(guó)標(biāo)

準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)（ASTMD5127-2007）、生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)

(GB5749-2006)、中國(guó)國(guó)家實(shí)驗(yàn)室用水規(guī)格（GB6682-2008）和中國(guó)國(guó)家電子級(jí)超

純水規(guī)格（GB/T11446-1997）、電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水（JB/T7621-1994）、

7

《電鍍手冊(cè)（下冊(cè)）》第二版第六章給水排水等。

a.美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)（ASTMD5127-2007）

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)ASTMD5127-2007電子及半導(dǎo)體工業(yè)用純水水質(zhì)要求，該標(biāo)準(zhǔn)適用

于在制造過(guò)程中用于清洗和漂洗半導(dǎo)體元件用水。標(biāo)準(zhǔn)將電子和微電子工業(yè)所需

的水質(zhì)分成七種電子級(jí)水，分別為微電子水：E-1型、E1.1型、E1.2型、E1.3

型、E-2型；宏觀(guān)電子水：E-3型；用于制備電鍍?nèi)芤旱乃退|(zhì)應(yīng)用要求較低

電子水：E-4型。

表5電子和半導(dǎo)體工業(yè)分配點(diǎn)水的要求（節(jié)選E-4型水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)）

項(xiàng)目單位水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

電阻率（25℃）MΩ·cm0.5

總有機(jī)碳（TOC）mg/L1

二氧化硅mg/L1

氯化物mg/L1

硝酸鹽mg/L0.5

硫酸鹽mg/L0.5

磷酸鹽mg/L0.5

鋅mg/L0.5

鉀mg/L0.5

硼mg/L/

鈉mg/L1

鈣mg/L1

銅mg/L0.5

鎳mg/L0.5

1：表中數(shù)據(jù)僅作為參考指導(dǎo)。

2：除電阻率外，所有的值都等于或小于。

3：硼僅作為監(jiān)測(cè)離子交換床的一個(gè)可操作性參數(shù)進(jìn)行監(jiān)測(cè)。

b.生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)(GB5749-2006)

表6水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

項(xiàng)目單位水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

PH-6.5-8.5

8

氨氮mg/L0.5

鈉mg/L200

總可溶性固體（TDS）mg/L1000

陰離子表面活性劑（LAS）mg/L0.3

氯化物mg/L250

硫化物mg/L0.02

硫酸鹽mg/L250

鎳mg/L0.02

銅mg/L1

硼mg/L0.5

錳mg/L0.1

鋅mg/L1

鐵mg/L0.3

鉛mg/L0.01

鎘mg/L0.005

汞mg/L0.001

砷mg/L0.01

六價(jià)鉻mg/L0.05

1：表中數(shù)據(jù)僅作為參考指導(dǎo)。

2：除電阻率外，所有的值都等于或小于。

c.中國(guó)實(shí)驗(yàn)室用水國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)(GB/T6682-2008)

表7水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

項(xiàng)目單位

一級(jí)二級(jí)三級(jí)

PH---5-7.5

懸浮物-12

電導(dǎo)率（25℃）us/cm10100500

總可溶性固體（TDS）mg/L7100600

二氧化硅mg/L0.010.02-

9

氯化物mg/L512-

1：表中數(shù)據(jù)僅作為參考指導(dǎo)。

2：除pH、電導(dǎo)率外，所有的值都等于或小于。

d.中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)（GB/T11446.1-2013）

該標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子級(jí)水的級(jí)別、技術(shù)指標(biāo)要求、試驗(yàn)方法和檢測(cè)規(guī)則。部分

使用與電子和半導(dǎo)體工業(yè)用高純清洗用水。

表8水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

項(xiàng)目單位

ⅠⅡⅢⅣ

電阻率（25℃）MΩ·cm1815120.5

二氧化硅mg/L210501000

硝酸鹽mg/L115500

鎂mg/L115500

鉛mg/L0.1---

鈉mg/L0.5251000

鉀mg/L0.525500

鐵mg/L0.1---

銅mg/L0.212500

鎳mg/L0.112500

鋅mg/L0.212500

1：表中數(shù)據(jù)僅作為參考指導(dǎo)。

2：除電阻率等于或大于外，所有的值都等于或小于。

e.電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水（JB/T7621-1994）

該標(biāo)準(zhǔn)給出了電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水(以下稱(chēng)高純水)的級(jí)別、技術(shù)要

求、測(cè)試方法和規(guī)則。適用于去離子處理后的高純水。

表9水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

電子級(jí)高純水普通高純水

項(xiàng)目單位

特級(jí)一級(jí)ⅠⅡⅢ

電阻率18(90％時(shí)間）16-18(90％時(shí)間）

MΩ·cm12-158～＜125～＜8

（25℃）最小17最小15

10

細(xì)菌個(gè)數(shù)個(gè)/mL＜11無(wú)要求

總有機(jī)碳

mg/L0.050.1＜0.5

（TOC）

全硅mg/L0.0020.01＜0.1

氯含量mg/L0.00050.002

鉀含量mg/L0.00020.001

鈉含量mg/L0.00020.001

鈣含量mg/L0.00050.001

無(wú)要求

鋁含量mg/L0.00050.001

銅含量mg/L0.00010.001

總可溶性

mg/L0.0030.01

固體（TDS）

1：表中數(shù)據(jù)僅作為參考指導(dǎo)。

2：除電阻率等于或大于外，所有的值都等于或小于。

f.《電鍍手冊(cè)（下冊(cè)）》第二版第六章給水排水

表10純水分類(lèi)

水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

指標(biāo)單位

除鹽水純水高純水

電阻率（25℃）MΩ··cm0.1～1.01.0～10＞10

含鹽量mg/L1～50.1～1＜0.1

5電鍍園區(qū)企業(yè)工藝用水分類(lèi)依據(jù)

根據(jù)調(diào)研企業(yè)用水水源情況以及電鍍園區(qū)、電鍍企業(yè)用水特性，將工藝用水

水源僅限于自來(lái)水和再生水。根據(jù)《電鍍手冊(cè)（下冊(cè)）》第二版第六章給水排

水章節(jié)內(nèi)容：“電鍍車(chē)間給水水質(zhì)，根據(jù)工藝的不同要求，一般分為工藝用水（包

括配置溶液、校正調(diào)整溶液和溶液蒸發(fā)補(bǔ)充水等）、鍍件清洗水以及設(shè)備冷卻水

三種。對(duì)鍍件清洗水的水質(zhì)要求視鍍件表面處理種類(lèi)、生產(chǎn)過(guò)程和清洗后的水補(bǔ)

充鍍槽或循環(huán)回用，還是處理后排放而定。如清洗后的水補(bǔ)充鍍槽或循環(huán)回用，

清洗水應(yīng)用除鹽水。除此之外，鍍件清洗水和設(shè)備冷卻水一般采用符合生活飲用

水標(biāo)準(zhǔn)的自來(lái)水。配置溶液和調(diào)整溶液用水，當(dāng)要求較高時(shí)需用除鹽水?！?/p>

因此，對(duì)工藝用水進(jìn)行分類(lèi)如下：

11

表11工藝用水進(jìn)行分類(lèi)

類(lèi)別用途

鍍槽配液用水（含開(kāi)缸配置溶液、校正調(diào)整溶液、溶液蒸發(fā)補(bǔ)充水）

A

后處理工藝用水

B鍍件清洗用水（清洗后水補(bǔ)充槽液或產(chǎn)線(xiàn)循環(huán)回用）

前處理工藝用水

C

一般清洗用水（清洗后排放）

6工藝用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)值的確定依據(jù)

6.1污染物指標(biāo)確定

根據(jù)查閱電鍍行業(yè)目前執(zhí)行工藝用水標(biāo)準(zhǔn)，所參考純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)，以及調(diào)研

電鍍企業(yè)車(chē)間用水情況，影響再生水水質(zhì)指標(biāo)。將工藝用水水質(zhì)指標(biāo)確定如下：

表12工藝用水水質(zhì)指標(biāo)

類(lèi)別污染物名稱(chēng)指標(biāo)選取依據(jù)

pH值

電阻率

參考金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)范

基礎(chǔ)性指標(biāo)

總可溶性總固體（HB5472-1991）指標(biāo)

二氧化硅

氯化物

參考美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)（ASTM

D5127-2007）；

《城市污水再生利用工業(yè)用水水質(zhì)》

有機(jī)物指標(biāo)

硫酸鹽(GB/T19923-2005)；

生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)(GB5749-2006)；

參考《電鍍手冊(cè)（下冊(cè)）》第二版第六章給水排水水

中雜質(zhì)對(duì)電鍍質(zhì)量的影響；

12

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)（ASTM

總有機(jī)碳（TOC）D5127-2007）

電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水（JB/T7621-1994）

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)（ASTM

鋅

D5127-2007）

參考《電鍍手冊(cè)（下冊(cè)）》第二版第六章給水排水

鉀

水中雜質(zhì)對(duì)電鍍質(zhì)量的影響

參考《電鍍手冊(cè)（下冊(cè)）》第二版第六章給水排水

硼

水中雜質(zhì)對(duì)電鍍質(zhì)量的影響

鈉

鈣

金屬指標(biāo)銅參考《電鍍手冊(cè)（下冊(cè)）》第二版第六章給水排水

水中雜質(zhì)對(duì)電鍍質(zhì)量的影響

鎳

鐵

6.2污染物標(biāo)準(zhǔn)值確定

?pH

根據(jù)《金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)范》（HB5472-1991）、《城市

污水再生利用工業(yè)用水水質(zhì)》(GB/T19923-2005)、《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》

(GB5749-2006)關(guān)于PH值標(biāo)準(zhǔn)，本標(biāo)準(zhǔn)pH值定為6.5-8.5。

表13本標(biāo)準(zhǔn)pH值

標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)PH標(biāo)準(zhǔn)值

金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)范（HB5472-1991）、

《城市污水再生利用工業(yè)用水水質(zhì)》(GB/T19923-2005)、生6.5-8.5

活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)(GB5749-2006)

?電導(dǎo)率

電阻率為電導(dǎo)率倒數(shù)。檢測(cè)電導(dǎo)率有快速便捷方法，所以一般情況下，采用

檢測(cè)電導(dǎo)率來(lái)判斷電阻率指標(biāo)情況。根據(jù)調(diào)研100余家電鍍企業(yè)生產(chǎn)工藝用水電

導(dǎo)率指標(biāo)現(xiàn)狀情況如下：

表14調(diào)研企業(yè)生產(chǎn)工藝用水電導(dǎo)率指標(biāo)

電鍍園區(qū)企業(yè)再生水作工藝用水電導(dǎo)率要求

電導(dǎo)率要求范圍（μs/cm）企業(yè)數(shù)量占比

≤102928.43%

10~501918.63%

13

50~1002524.51%

100~15087.84%

150~350109.80%

350~60021.96%

＞600或無(wú)要求98.82%

102

根據(jù)工藝用水A類(lèi)、B類(lèi)、C類(lèi)水質(zhì)用途，結(jié)合再生水使用電導(dǎo)率要求，對(duì)

電導(dǎo)率分級(jí)確定標(biāo)準(zhǔn)值。

根據(jù)美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)（ASTMD5127-2007）、中國(guó)電子

行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)（GB/T11446.1-2013）、對(duì)于電阻率要求為≤0.5MΩ·cm，電

導(dǎo)率值為≤2μs/cm。因此，本標(biāo)準(zhǔn)考慮余量將水質(zhì)要求最高A類(lèi)水質(zhì)電導(dǎo)率標(biāo)

準(zhǔn)定為≤5us/cm。

根據(jù)《金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)范》（HB5472-1991）A類(lèi)水質(zhì)，

對(duì)于電阻率要求為≤0.1MΩ·cm?！峨婂兪謨?cè)（下冊(cè)）》第二版第六章給水排

水純水分類(lèi)關(guān)于除鹽水標(biāo)準(zhǔn)，電阻率要求為≤0.1MΩ·cm。中國(guó)實(shí)驗(yàn)室用水國(guó)

家標(biāo)準(zhǔn)(GB/T6682-2008)一級(jí)水對(duì)于電導(dǎo)率標(biāo)準(zhǔn)值為≤10μs/cm。因此，本標(biāo)準(zhǔn)

考慮將工藝用水B類(lèi)水質(zhì)電導(dǎo)率標(biāo)準(zhǔn)定為≤10us/cm。

《金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)范》（HB5472-1991）B類(lèi)水質(zhì)和類(lèi)

水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)，可知B類(lèi)水質(zhì)電導(dǎo)率約為142.7us/cm，C類(lèi)水質(zhì)電導(dǎo)率約為

833.3us/cm。中國(guó)實(shí)驗(yàn)室用水國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)(GB/T6682-2008)三級(jí)水對(duì)于電導(dǎo)率標(biāo)準(zhǔn)

值為≤500μs/cm，。結(jié)合這三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)以及結(jié)合調(diào)研結(jié)果，選取一個(gè)適用范圍較

廣的標(biāo)準(zhǔn)值，因此將本標(biāo)準(zhǔn)C類(lèi)水質(zhì)電導(dǎo)率定為≤350μs/cm。

表15各參考標(biāo)準(zhǔn)電導(dǎo)率標(biāo)準(zhǔn)值

參考標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)電導(dǎo)率標(biāo)準(zhǔn)值

金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水A類(lèi)0.1MΩ·cmB類(lèi)0.007MΩ·cmC類(lèi)0.0012MΩ·cm

水質(zhì)規(guī)范（HB5472-1991）（10μs/cm）（142.7μs/cm）（833.3μs/cm）

純水1.0～10M

《電鍍手冊(cè)（下冊(cè)）》第二版除鹽水0.1～1.0MΩ·cm高純水＞10MΩ·cm

Ω·cm

第六章給水排水純水分類(lèi)（1-10μs/cm）（＜0.1μs/cm）

（0.1-1μs/cm）

中國(guó)實(shí)驗(yàn)室用水國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

一級(jí)：10μs/cm二級(jí)：100μs/cm三級(jí)：500μs/cm

(GB/T6682-2008)

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)

用水質(zhì)（ASTMD5127-2007）0.5MΩ·cm（2μs/cm）

E-4型

14

中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)Ⅰ類(lèi)18MΩ·cm（0.055μs/cm）、Ⅱ類(lèi)≤15MΩ·cm（0.066μs/cm）、

（GB/T11446.1-2013）Ⅲ類(lèi)≤12MΩ·cm（0.083μs/cm）、Ⅳ類(lèi)≤0.5MΩ·cm（2μs/cm）

?總可溶性總固體

采用《金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)范》（HB5472-1991）中總可溶

性總固體標(biāo)準(zhǔn)。其中A類(lèi)水質(zhì)要求≤30mg/L，B類(lèi)水質(zhì)要求≤100mg/L，C類(lèi)

水質(zhì)要求≤250mg/L。

?二氧化硅

目前電鍍行業(yè)工藝用水標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外純水標(biāo)準(zhǔn)均對(duì)二氧化硅有要求?！督饘?/p>

鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)范》（HB5472-1991）、美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)

體工業(yè)用水質(zhì)（ASTMD5127-2007）要求≤1mg/L。中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)

（GB/T11446.1-2013）則設(shè)4個(gè)等級(jí)，Ⅰ類(lèi)≤2mg/L；Ⅱ類(lèi)≤10mg/L；Ⅲ類(lèi)≤

50mg/L；Ⅳ類(lèi)≤1000mg/L。綜上，本標(biāo)準(zhǔn)A類(lèi)水質(zhì)選取較嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)值為≤1mg/L，

B類(lèi)水質(zhì)和C類(lèi)水質(zhì)分別選取中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)（GB/T11446.1-2013）

Ⅱ類(lèi)和Ⅲ類(lèi)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)，分別為≤10mg/L、Ⅲ類(lèi)≤50mg/L。

表16各參考標(biāo)準(zhǔn)二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)值

參考標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)值

金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)范

≤1mg/L

（HB5472-1991）

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)

≤1mg/L

（ASTMD5127-2007）

中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)（GB/TⅠ類(lèi)≤2mg/L、Ⅱ類(lèi)≤10mg/L、Ⅲ類(lèi)≤50mg/L；Ⅳ

11446.1-2013）類(lèi)≤1000mg/L

?氯化物

采用《金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)范》（HB5472-1991）中氯化

物標(biāo)準(zhǔn)。其中A類(lèi)水質(zhì)要求≤5mg/L，B類(lèi)水質(zhì)要求≤12mg/L。C類(lèi)標(biāo)準(zhǔn)采用

《城市污水再生利用工業(yè)用水水質(zhì)》(GB/T19923-2005)、《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)

準(zhǔn)》(GB5749-2006)標(biāo)準(zhǔn)值取≤250mg/L。

表17各參考標(biāo)準(zhǔn)氯化物標(biāo)準(zhǔn)值

參考標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)氯化物標(biāo)準(zhǔn)值

金屬鍍覆和化學(xué)覆蓋工藝用水水質(zhì)規(guī)

A類(lèi)≤5mg/LB類(lèi)≤12mg/L

范（HB5472-1991）、

中國(guó)實(shí)驗(yàn)室用水國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)一級(jí)≤5mg/L二級(jí)≤12mg/L

15

(GB/T6682-2008)

《城市污水再生利用工業(yè)用水水質(zhì)》

(GB/T19923-2005)、《生活飲用水衛(wèi)生≤250mg/L

標(biāo)準(zhǔn)》(GB5749-2006)

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)

≤1mg/L

（ASTMD5127-2007）E-4型

?硫酸鹽

根據(jù)美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)（ASTMD5127-2007）硫酸鹽標(biāo)準(zhǔn)

為≤0.5mg/L、城市污水再生利用工業(yè)用水水質(zhì)》(GB/T19923-2005)、生活飲用

水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)(GB5749-2006)硫酸鹽標(biāo)準(zhǔn)為≤250mg/L，因此本標(biāo)準(zhǔn)A類(lèi)標(biāo)準(zhǔn)取值

≤1mg/L、B類(lèi)≤5mg/L、C類(lèi)≤250mg/L。

表18各參考標(biāo)準(zhǔn)硫酸鹽標(biāo)準(zhǔn)值

參考標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)硫酸鹽標(biāo)準(zhǔn)值

《城市污水再生利用工業(yè)用水水質(zhì)》

(GB/T19923-2005)、生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)≤250mg/L

準(zhǔn)(GB5749-2006)

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)

≤0.5mg/L

（ASTMD5127-2007）E-4型

?總有機(jī)碳（TOC）

表19各參考標(biāo)準(zhǔn)TOC標(biāo)準(zhǔn)值

參考標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)總有機(jī)碳標(biāo)準(zhǔn)值

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)

≤0.5mg/L

（ASTMD5127-2007）E-4型

電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水（JB/T

特級(jí)0.05mg/L、一級(jí)0.1mg/L、Ⅰ～Ⅲ＜0.5mg/L

7621-1994）

?鋅

根據(jù)電鍍企業(yè)工藝使用需求，對(duì)重金屬要求非常高，因此A類(lèi)和B類(lèi)水質(zhì)

參考中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)（GB/T11446.1-2013）Ⅰ類(lèi)，取值≤0.2mg/L。C

類(lèi)水質(zhì)參考生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)(GB5749-2006)取值≤1mg/L。

表20各參考標(biāo)準(zhǔn)鋅標(biāo)準(zhǔn)值

參考標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)鋅標(biāo)準(zhǔn)值

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)

≤0.5mg/L

（ASTMD5127-2007）E-4型

生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)(GB5749-2006)≤1mg/L

16

中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)（GB/TⅠ類(lèi)≤0.2mg/L、Ⅱ類(lèi)≤1mg/L、Ⅲ類(lèi)≤2mg/L；Ⅳ

11446.1-2013）類(lèi)≤500mg/L

?鉀

A類(lèi)和B類(lèi)水質(zhì)不得檢出。C類(lèi)水質(zhì)參考中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)（GB/T

11446.1-2013）取值≤0.5mg/L。

表21各參考標(biāo)準(zhǔn)鉀標(biāo)準(zhǔn)值

參考標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)鉀標(biāo)準(zhǔn)值

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)

≤1mg/L

（ASTMD5127-2007）E-4型

中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)（GB/TⅠ類(lèi)≤0.5mg/L、Ⅱ類(lèi)≤2mg/L、Ⅲ類(lèi)≤5mg/L；Ⅳ

11446.1-2013）類(lèi)≤500mg/L

電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水（JB/T

特級(jí)0.0002mg/L、一級(jí)0.001mg/L

7621-1994）

?硼

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)（ASTMD5127-2007）標(biāo)準(zhǔn)對(duì)硼指標(biāo)有

特別要求，標(biāo)準(zhǔn)提到硼僅作為監(jiān)測(cè)離子交換床的一個(gè)可操作性參數(shù)進(jìn)行監(jiān)測(cè)。但

是在企業(yè)工藝用水調(diào)研中，部分塑膠電鍍、半導(dǎo)體、精密儀器、高精端產(chǎn)業(yè)要求

鍍槽或者水洗水中硼含量需滿(mǎn)足使用要求，否則會(huì)影響產(chǎn)品質(zhì)量。因此，A類(lèi)和

B類(lèi)水質(zhì)均要求達(dá)生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)(GB5749-2006)標(biāo)準(zhǔn)，取值≤0.5mg/L。對(duì)

某電鍍園區(qū)再生水硼指標(biāo)檢測(cè)濃度為15mg/L。因此，考慮將再生水硼指標(biāo)濃度

作為參考并作為C類(lèi)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)，從嚴(yán)格限制，取值10mg/L。

表22各參考標(biāo)準(zhǔn)硼標(biāo)準(zhǔn)值

參考標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)硼標(biāo)準(zhǔn)值

生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)(GB5749-2006)≤0.5mg/L

?鈉

A類(lèi)水質(zhì)參考美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)（ASTMD5127-2007）E-4

型和中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)（GB/T11446.1-2013）Ⅰ類(lèi)水質(zhì)要求，取值≤

0.5mg/L。B類(lèi)水質(zhì)中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)（GB/T11446.1-2013）Ⅱ類(lèi)水質(zhì)要

求，取值≤2mg/L。C類(lèi)水質(zhì)參考生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)(GB5749-2006)標(biāo)準(zhǔn)值，取

≤200mg/L。

表23各參考標(biāo)準(zhǔn)鈉標(biāo)準(zhǔn)值

17

參考標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)鈉標(biāo)準(zhǔn)值

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)

≤0.5mg/L

（ASTMD5127-2007）E-4型

生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)(GB5749-2006)≤200mg/L

中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)（GB/TⅠ類(lèi)≤0.5mg/L、Ⅱ類(lèi)≤2mg/L、Ⅲ類(lèi)≤5mg/L；Ⅳ

11446.1-2013）類(lèi)≤1000mg/L

電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水（JB/T

特級(jí)0.0002mg/L、一級(jí)0.001mg/L

7621-1994）

?鈣

結(jié)合實(shí)際調(diào)研情況，ABC類(lèi)水質(zhì)取值≤1mg/L。

表24各參考標(biāo)準(zhǔn)鈣標(biāo)準(zhǔn)值

參考標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)鈣標(biāo)準(zhǔn)值

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)

≤1mg/L

（ASTMD5127-2007）E-4型

電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水（JB/T

特級(jí)0.0005mg/L、一級(jí)0.001mg/L

7621-1994）

?銅

A類(lèi)和B類(lèi)水質(zhì)不得檢出。C類(lèi)水質(zhì)參考生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)(GB5749-2006)

取值≤1mg/L。

表25各參考標(biāo)準(zhǔn)銅標(biāo)準(zhǔn)值

參考標(biāo)準(zhǔn)名稱(chēng)銅標(biāo)準(zhǔn)值

美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)電子及半導(dǎo)體工業(yè)用水質(zhì)

≤0.5mg/L

（ASTMD5127-2007）E-4型

生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)(GB5749-2006)≤1mg/L

中國(guó)電子行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)（GB/TⅠ類(lèi)≤0.2mg/L、Ⅱ類(lèi)≤1mg/L、Ⅲ類(lèi)≤2mg/L；Ⅳ

11446.1-2013）類(lèi)≤500mg/L

電力半導(dǎo)體器件工藝用高純水（JB/T

特級(jí)0.0001mg/L、一級(jí)0.001mg/L