目錄IIISTYLEREF標(biāo)題基于西門子S7-300的真空鍍膜控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)基于西門子S7-300的真空鍍膜控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)摘要在日常生活中我們經(jīng)常會(huì)用到各式各樣的玻璃制品，如玻璃杯、玻璃窗、玻璃移門等。玻璃制品既美觀又實(shí)用，藝術(shù)家甚至創(chuàng)作出一些玻璃藝術(shù)品，使之具有收藏價(jià)值和人文價(jià)值。而真空鍍膜又具有膜厚均勻，膜層牢固，純度極高，不污染環(huán)境等一系列優(yōu)點(diǎn),使之既可以在金屬材料的表面進(jìn)行鍍膜,又可以在非金屬材料的表面鍍膜，適用性極廣,這也決定了其應(yīng)用場(chǎng)合非常豐富?？傮w來說,真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。因此近年來我國真空鍍膜在鍍膜工業(yè)生產(chǎn)過程中,占據(jù)了越來越多的比重。我國對(duì)玻璃鍍膜工藝技術(shù)的不斷革新，使之與傳統(tǒng)鍍膜相比具有潔凈導(dǎo)電等許多優(yōu)良性能。本設(shè)計(jì)采用西門子S7-300系列PLC來完成系統(tǒng)中磁控濺射、信息處理、參數(shù)檢測(cè)和閥門控制等功能。并通過WinCC上位機(jī)監(jiān)控界面來完成對(duì)整個(gè)生產(chǎn)工藝流程的實(shí)時(shí)監(jiān)控和各類參數(shù)的在線采集，以保證生產(chǎn)車間的有序運(yùn)行和安全穩(wěn)定。考慮到在提高玻璃鍍膜生產(chǎn)效率的同時(shí)相應(yīng)的降低成本，本設(shè)計(jì)運(yùn)用了模糊PID算法，優(yōu)化了控制系統(tǒng)，減少了污染氣體的排放，以呼吁國家節(jié)能減排、綠色發(fā)展的新政策。關(guān)鍵詞：玻璃真空鍍膜;S7-300PLC;模糊自適應(yīng)PID;WinCC上位機(jī)目錄摘要 基于西門子S7-300的真空鍍膜控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)附錄參考文獻(xiàn)曹帥.基于PLC和WinCC的玻璃鍍膜控制系統(tǒng)優(yōu)化設(shè)計(jì)[D].昆明理工大學(xué),2015.田曉娟.玻璃真空鍍膜生產(chǎn)線控制系統(tǒng)的研究和設(shè)計(jì)[D].蘭州交通大學(xué),2013.馬軍.變頻多傳動(dòng)系統(tǒng)在帶鋼連續(xù)真空鍍膜生產(chǎn)線中的應(yīng)用研究[D].蘭州交通大學(xué),2013.魏昌盛.真空鍍膜機(jī)的設(shè)備綜合效率（OEE）研究[D].上海交通大學(xué),2011.孫清,魏海波,霍燚.基于PLC和TD400C的建筑玻璃真空鍍膜生產(chǎn)線電氣系統(tǒng)控制[J].遼寧大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版),2011,38(02):135-138.何力革.真空鍍膜卷繞系統(tǒng)設(shè)計(jì)研究[D].沈陽工業(yè)大學(xué),2008.姜燮昌.真空鍍膜技術(shù)的最新進(jìn)展[J].真空,1999(05):1-7.郭立楠.基于S7-400和WinCC的玻璃鍍膜控制系統(tǒng)[D].安徽理工大學(xué),2012.郝向東.基于以太網(wǎng)的工業(yè)控制技術(shù)在南玻玻璃鍍膜控制系統(tǒng)上的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)[D].合肥工業(yè)大學(xué),2006.王曉晨,朱釗.基于S7-300PLC鍍膜控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與應(yīng)用[J].制造業(yè)自動(dòng)化,2014,36(03):146-149.SiemensAutomationandDrivesGroup.SystemandStandardFunctionsforS7-300/400[M].Germany:siemensAutomationandDrivesGroup,2005.GokhayKw.DesignofPLCControlSystem[J].ElectricTransmission,2001,33(7):13-15.SiemensAutomationandDrivesGroup.SystemandStandardFunctionsforS7-300/400[M].Germany:SiemensAutomationandDrivesGroup,2005.KellyPJ,ArnellRD.Magnetronsputtering:areviewofrecentdevelopmentandapplication[J].Vacuum,2000,(56):159-172.NAOMITUSURASAKI,TOMONOBUSENJYU,KATSUMIUEZATO.Anaccuratemodelingfor