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文檔簡介
半導(dǎo)體行業(yè)數(shù)字化轉(zhuǎn)型實(shí)踐與實(shí)施方案一、行業(yè)轉(zhuǎn)型背景與核心價值半導(dǎo)體行業(yè)作為信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)的核心,具有技術(shù)迭代快、資金投入高、供應(yīng)鏈協(xié)同復(fù)雜、良率管控嚴(yán)苛等特點(diǎn)。摩爾定律逼近極限、芯片制程向7nm及以下推進(jìn),傳統(tǒng)依賴經(jīng)驗驅(qū)動的生產(chǎn)模式已難以滿足柔性制造、成本優(yōu)化及快速響應(yīng)市場需求的要求。數(shù)字化轉(zhuǎn)型通過數(shù)據(jù)貫通、智能決策與流程重構(gòu),成為破解行業(yè)痛點(diǎn)、提升核心競爭力的關(guān)鍵路徑。其核心價值體現(xiàn)在:生產(chǎn)效率提升(設(shè)備綜合利用率OEE提高15%-25%)、良率優(yōu)化(關(guān)鍵工藝參數(shù)CPK值提升0.3以上)、供應(yīng)鏈韌性增強(qiáng)(物料交付周期縮短20%)、研發(fā)周期壓縮(芯片流片次數(shù)減少30%)。轉(zhuǎn)型并非簡單技術(shù)堆砌,而是以數(shù)據(jù)為紐帶,打通研發(fā)、制造、供應(yīng)鏈、質(zhì)量等全價值鏈的系統(tǒng)性工程。二、核心應(yīng)用場景與實(shí)施方向半導(dǎo)體行業(yè)數(shù)字化轉(zhuǎn)型需聚焦行業(yè)核心痛點(diǎn),圍繞“數(shù)據(jù)驅(qū)動決策、智能提升效率、協(xié)同優(yōu)化資源”三大主線,覆蓋以下典型場景:(一)智能生產(chǎn):從“經(jīng)驗制造”到“數(shù)據(jù)智造”場景痛點(diǎn):晶圓制造過程中,設(shè)備(光刻、刻蝕、薄膜沉積等)多品牌、多協(xié)議并存,數(shù)據(jù)采集率不足60%;工藝參數(shù)依賴人工調(diào)整,異常響應(yīng)滯后;生產(chǎn)排程依賴Excel,無法動態(tài)響應(yīng)訂單變更。實(shí)施方向:設(shè)備數(shù)據(jù)全貫通:部署工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)(IIoT)網(wǎng)關(guān),通過OPC-UA、SECS/GEM等協(xié)議兼容刻蝕機(jī)、光刻機(jī)等設(shè)備,實(shí)時采集設(shè)備狀態(tài)、工藝參數(shù)(如溫度、壓力、流量)、生產(chǎn)指令等數(shù)據(jù),實(shí)現(xiàn)“設(shè)備-系統(tǒng)-數(shù)據(jù)”三層貫通。生產(chǎn)流程可視化:搭建制造執(zhí)行系統(tǒng)(MES),整合設(shè)備數(shù)據(jù)、物料信息、工單狀態(tài),實(shí)時展示產(chǎn)線進(jìn)度、設(shè)備利用率(如OEE)、瓶頸工序等,支持管理者通過“數(shù)字駕駛艙”全局監(jiān)控。工藝參數(shù)智能優(yōu)化:基于歷史工藝數(shù)據(jù)與良率結(jié)果,構(gòu)建機(jī)器學(xué)習(xí)模型(如隨機(jī)森林、神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)),識別關(guān)鍵工藝參數(shù)(如光刻曝光劑量)與良率的關(guān)聯(lián)性,自動推薦最優(yōu)參數(shù)區(qū)間,減少人為試錯成本。(二)研發(fā)協(xié)同:從“孤立設(shè)計”到“全周期協(xié)同”場景痛點(diǎn):芯片研發(fā)涉及設(shè)計、仿真、版圖、驗證等多環(huán)節(jié),EDA工具版本不統(tǒng)一導(dǎo)致數(shù)據(jù)格式差異;仿真數(shù)據(jù)與設(shè)計數(shù)據(jù)脫節(jié),版本管理混亂;跨部門協(xié)作依賴郵件傳遞,需求變更同步效率低。實(shí)施方向:研發(fā)數(shù)據(jù)平臺化:搭建半導(dǎo)體研發(fā)協(xié)同平臺(PLM/PDM),統(tǒng)一管理EDA設(shè)計文件、仿真數(shù)據(jù)、BOM(物料清單)、測試報告等,支持版本追溯與權(quán)限管控,避免“數(shù)據(jù)孤島”。仿真流程自動化:集成HSPICE、Cadence等仿真工具,通過API接口實(shí)現(xiàn)設(shè)計參數(shù)自動導(dǎo)入、仿真任務(wù)批量提交、結(jié)果自動歸檔,縮短單次仿真周期40%以上。需求變更閉環(huán)管理:建立“需求-設(shè)計-驗證”全流程追溯機(jī)制,需求變更時自動關(guān)聯(lián)影響的設(shè)計模塊、仿真任務(wù)及測試用例,保證變更可追溯、責(zé)任可明確。(三)供應(yīng)鏈協(xié)同:從“線性供應(yīng)”到“網(wǎng)絡(luò)協(xié)同”場景痛點(diǎn):半導(dǎo)體供應(yīng)鏈層級多(原材料、設(shè)備、封裝測試等),物料需求計劃(MRP)依賴人工核算;供應(yīng)商交期不透明,異常(如疫情、物流中斷)響應(yīng)滯后;庫存數(shù)據(jù)滯后,導(dǎo)致呆料風(fēng)險或斷料風(fēng)險。實(shí)施方向:需求計劃智能化:基于歷史訂單數(shù)據(jù)、客戶預(yù)測、產(chǎn)能信息,構(gòu)建需求預(yù)測模型(如LSTM時間序列模型),動態(tài)調(diào)整物料采購計劃,將MRP運(yùn)算周期從3天壓縮至2小時。供應(yīng)商協(xié)同透明化:搭建供應(yīng)鏈協(xié)同平臺(SRM),實(shí)時同步采購訂單、交貨計劃、質(zhì)量檢驗結(jié)果,支持供應(yīng)商在線提交生產(chǎn)進(jìn)度與異常預(yù)警,提升供應(yīng)鏈響應(yīng)速度30%。庫存動態(tài)優(yōu)化:結(jié)合物料ABC分類(A類物料價值高、周轉(zhuǎn)慢),設(shè)置安全庫存模型,實(shí)時監(jiān)控庫存水位與在途訂單,通過系統(tǒng)自動觸發(fā)補(bǔ)貨或呆料預(yù)警,降低庫存成本15%。(四)質(zhì)量管控:從“事后檢驗”到“全流程追溯”場景痛點(diǎn):質(zhì)量數(shù)據(jù)分散在MES、QMS(質(zhì)量管理系統(tǒng))中,無法關(guān)聯(lián)工藝參數(shù)與失效原因;異常分析依賴人工經(jīng)驗,定位周期長達(dá)48小時;客戶投訴追溯困難,無法快速定位問題批次。實(shí)施方向:質(zhì)量數(shù)據(jù)貫通:打通MES、QMS、檢測設(shè)備(如AOI、X-Ray)數(shù)據(jù)接口,建立“工藝參數(shù)-生產(chǎn)數(shù)據(jù)-檢測結(jié)果”全鏈路數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián),實(shí)現(xiàn)“一物一碼”追溯。異常智能診斷:基于貝葉斯網(wǎng)絡(luò)或故障樹分析(FTA),構(gòu)建質(zhì)量異常診斷模型,輸入工藝參數(shù)、設(shè)備狀態(tài)等信息,自動輸出根因分析報告(如“某批次晶圓針孔不良源于刻蝕機(jī)chamber壓力異?!保?,將定位周期縮短至8小時??蛻敉对V閉環(huán):建立客戶投訴數(shù)字化處理流程,自動關(guān)聯(lián)投訴產(chǎn)品對應(yīng)的生產(chǎn)批次、工藝參數(shù)、供應(yīng)商信息,推動跨部門協(xié)同解決,提升客戶滿意度20%。三、分階段實(shí)施路徑與關(guān)鍵步驟數(shù)字化轉(zhuǎn)型需結(jié)合企業(yè)實(shí)際情況,遵循“頂層設(shè)計-試點(diǎn)驗證-全面推廣-持續(xù)優(yōu)化”的路徑,分四階段推進(jìn):(一)規(guī)劃階段(3-6個月):明確目標(biāo)與路徑核心目標(biāo):完成現(xiàn)狀評估、目標(biāo)設(shè)定及方案設(shè)計,形成可執(zhí)行的轉(zhuǎn)型路線圖。關(guān)鍵步驟:現(xiàn)狀診斷:成立由IT、工藝、生產(chǎn)、供應(yīng)鏈等部門組成的轉(zhuǎn)型專項組,通過流程梳理、數(shù)據(jù)調(diào)研(如設(shè)備數(shù)據(jù)采集率、系統(tǒng)覆蓋率)、標(biāo)桿對標(biāo)(如臺積電、三星轉(zhuǎn)型經(jīng)驗),識別現(xiàn)有流程斷點(diǎn)與數(shù)據(jù)瓶頸。目標(biāo)設(shè)定:結(jié)合戰(zhàn)略定位,制定SMART目標(biāo)(如“1年內(nèi)實(shí)現(xiàn)晶圓制造數(shù)據(jù)采集率提升至90%”“2年內(nèi)將研發(fā)周期縮短30%”),并明確優(yōu)先級(優(yōu)先解決對良率、效率影響最大的場景)。方案設(shè)計:制定技術(shù)架構(gòu)(如采用“邊緣層-平臺層-應(yīng)用層”三層架構(gòu))、實(shí)施計劃(里程碑節(jié)點(diǎn))、預(yù)算投入(軟硬件采購、實(shí)施服務(wù)、人才培訓(xùn))及風(fēng)險預(yù)案(如數(shù)據(jù)安全、系統(tǒng)兼容性)。(二)試點(diǎn)階段(6-9個月):驗證場景可行性核心目標(biāo):選取1-2個高價值場景(如晶圓制造數(shù)據(jù)采集、研發(fā)協(xié)同平臺)進(jìn)行試點(diǎn),驗證技術(shù)方案與實(shí)施效果。關(guān)鍵步驟:場景選擇:優(yōu)先選擇“痛點(diǎn)明確、數(shù)據(jù)基礎(chǔ)好、價值量化容易”的場景(如某條晶圓制造產(chǎn)線的OEE提升),避免貪多求全。系統(tǒng)部署:完成IIoT網(wǎng)關(guān)安裝、MES/PLM系統(tǒng)配置、數(shù)據(jù)接口開發(fā)(如設(shè)備與MES的OPC-UA接口),保證數(shù)據(jù)穩(wěn)定采集與流轉(zhuǎn)。數(shù)據(jù)治理:制定數(shù)據(jù)標(biāo)準(zhǔn)(如設(shè)備參數(shù)命名規(guī)則、數(shù)據(jù)精度要求),開展數(shù)據(jù)清洗(剔除異常值、填補(bǔ)缺失值),構(gòu)建數(shù)據(jù)質(zhì)量監(jiān)控機(jī)制(如數(shù)據(jù)采集率低于95%自動報警)。效果驗證:對比試點(diǎn)前后的關(guān)鍵指標(biāo)(如OEE、良率、研發(fā)周期),計算ROI(投入產(chǎn)出比),形成試點(diǎn)總結(jié)報告,調(diào)整方案后推廣。(三)推廣階段(12-18個月):全面覆蓋全價值鏈核心目標(biāo):將試點(diǎn)成功的經(jīng)驗推廣至全場景,實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)全鏈路貫通。關(guān)鍵步驟:系統(tǒng)擴(kuò)展:基于試點(diǎn)經(jīng)驗,完成其他產(chǎn)線/場景的系統(tǒng)部署(如封裝測試線MES、供應(yīng)鏈SRM),實(shí)現(xiàn)跨系統(tǒng)數(shù)據(jù)集成(如MES與ERP的工單同步)。流程重構(gòu):結(jié)合系統(tǒng)功能,優(yōu)化原有業(yè)務(wù)流程(如用系統(tǒng)自動排程替代人工排程),制定配套制度(如《數(shù)據(jù)管理辦法》《系統(tǒng)操作規(guī)范》)。全員培訓(xùn):針對操作人員(如設(shè)備工程師、工藝員)開展系統(tǒng)操作培訓(xùn),針對管理人員開展數(shù)據(jù)解讀與決策分析培訓(xùn),保證“會用、敢用、想用”。(四)優(yōu)化階段(持續(xù)進(jìn)行):驅(qū)動價值持續(xù)釋放核心目標(biāo):通過數(shù)據(jù)深度挖掘與模型迭代,實(shí)現(xiàn)從“數(shù)字化”到“智能化”的跨越。關(guān)鍵步驟:模型迭代:基于新增數(shù)據(jù)持續(xù)優(yōu)化機(jī)器學(xué)習(xí)模型(如更新工藝參數(shù)優(yōu)化模型、質(zhì)量診斷模型),提升預(yù)測準(zhǔn)確性(如良率預(yù)測準(zhǔn)確率從80%提升至90%)。業(yè)務(wù)創(chuàng)新:摸索數(shù)字化新技術(shù)應(yīng)用(如數(shù)字孿生用于產(chǎn)線仿真、用于缺陷檢測),開發(fā)新業(yè)務(wù)場景(如基于供應(yīng)鏈數(shù)據(jù)的金融科技服務(wù))。生態(tài)協(xié)同:推動供應(yīng)商、客戶接入?yún)f(xié)同平臺,構(gòu)建“企業(yè)-供應(yīng)商-客戶”數(shù)字化生態(tài),實(shí)現(xiàn)需求、庫存、產(chǎn)能信息實(shí)時共享。四、關(guān)鍵保障機(jī)制(一)組織保障成立“數(shù)字化轉(zhuǎn)型領(lǐng)導(dǎo)小組”(由CEO任組長)和“專項執(zhí)行組”(由IT總監(jiān)、各業(yè)務(wù)部門負(fù)責(zé)人組成),明確職責(zé)分工(IT部門負(fù)責(zé)系統(tǒng)建設(shè),業(yè)務(wù)部門負(fù)責(zé)場景落地),避免“IT自嗨、業(yè)務(wù)旁觀”。(二)數(shù)據(jù)安全制定《數(shù)據(jù)分級分類管理制度》,對核心工藝數(shù)據(jù)、客戶數(shù)據(jù)采取加密存儲、權(quán)限隔離(如僅工藝總監(jiān)可訪問光刻參數(shù));部署數(shù)據(jù)防泄漏(DLP)系統(tǒng),定期開展安全審計,保證符合《網(wǎng)絡(luò)安全法》《數(shù)據(jù)安全法》要求。(三)人才梯隊構(gòu)建“數(shù)字化人才池”:引進(jìn)既懂半導(dǎo)體工藝又懂?dāng)?shù)據(jù)科學(xué)(如熟悉Python、TensorFlow)的復(fù)合型人才;與高校合作開展“半導(dǎo)體數(shù)字化”定向培養(yǎng);建立內(nèi)部導(dǎo)師制,由數(shù)字化專家?guī)Ы虡I(yè)務(wù)人員。(四)變革管理通過內(nèi)部宣講、案例分享(如“某產(chǎn)線通過數(shù)據(jù)采集使良率提升5%”)消除員工抵觸心理;建立激勵機(jī)制(如“數(shù)字化轉(zhuǎn)型貢獻(xiàn)獎”),鼓勵員工提出流程優(yōu)化建議;從小處著手(如用系統(tǒng)替代Excel報表),讓員工快速感受到數(shù)字化帶來的便利。本方案聚焦半導(dǎo)體行業(yè)核心場景,從路徑規(guī)劃到落地保障形成閉環(huán),可作為企業(yè)數(shù)字化轉(zhuǎn)型的基礎(chǔ)框架。下一章節(jié)將結(jié)合具體場景提供工具模板與操作細(xì)節(jié),助力企業(yè)高效實(shí)施。五、核心場景工具模板與操作指南(一)智能生產(chǎn)場景:設(shè)備數(shù)據(jù)采集與優(yōu)化工具工具1:設(shè)備數(shù)據(jù)采集表(簡化版)設(shè)備類型協(xié)議標(biāo)準(zhǔn)采集數(shù)據(jù)點(diǎn)采集頻率數(shù)據(jù)用途光刻機(jī)OPC-UA曝光劑量、焦距、對準(zhǔn)精度實(shí)時(1Hz)工藝參數(shù)優(yōu)化、良率分析刻蝕機(jī)SECS/GEM刻蝕速率、腔室壓力、氣體流量5分鐘/次設(shè)備狀態(tài)監(jiān)控、異常預(yù)警離子注入機(jī)ModbusTCP注入能量、劑量束流10分鐘/次工藝一致性校驗操作步驟:協(xié)議適配:通過IIoT網(wǎng)關(guān)協(xié)議轉(zhuǎn)換模塊(如西門子工業(yè)邊緣設(shè)備),將不同協(xié)議數(shù)據(jù)統(tǒng)一轉(zhuǎn)換為JSON格式。點(diǎn)位映射:在MES系統(tǒng)中創(chuàng)建“數(shù)據(jù)點(diǎn)-工藝參數(shù)”映射關(guān)系(如{"point":"EDP001","param":"光刻劑量"}),保證數(shù)據(jù)與工藝參數(shù)一一對應(yīng)。數(shù)據(jù)校驗:設(shè)置數(shù)據(jù)閾值規(guī)則(如光刻劑量范圍:25-35mJ/cm2),超出范圍自動觸發(fā)報警并記錄至QMS系統(tǒng)。工具2:OEE計算與優(yōu)化模板指標(biāo)計算公式基準(zhǔn)值優(yōu)化目標(biāo)行動項設(shè)備利用率實(shí)際運(yùn)行時間/計劃運(yùn)行時間×100%≥85%≥92%減少換型時間(目標(biāo):15分鐘/次)功能效率理論產(chǎn)量/實(shí)際產(chǎn)量×100%≥90%≥95%優(yōu)化設(shè)備工藝參數(shù)(如刻蝕速率提升5%)良品率合格品數(shù)/總產(chǎn)量×100%≥98%≥99.2%降低關(guān)鍵缺陷(如針孔)發(fā)生率操作步驟:數(shù)據(jù)采集:從MES系統(tǒng)提取設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)、生產(chǎn)工單、檢驗記錄,每日自動計算OEE三大指標(biāo)。根因分析:當(dāng)OEE低于基準(zhǔn)值時,調(diào)用“異常診斷看板”(如圖1),定位主因(如設(shè)備故障占比60%)。閉環(huán)改進(jìn):制定改進(jìn)計劃(如更換老化部件、優(yōu)化換型流程),并在MES中跟蹤改進(jìn)效果(記錄OEE變化曲線)。圖1:OEE異常診斷看板(示例:設(shè)備故障、換型時間、工藝波動三維度分析)(二)研發(fā)協(xié)同場景:半導(dǎo)體研發(fā)全流程管理工具工具1:版本追溯表(PLM系統(tǒng)應(yīng)用)文件ID文件名稱版本號修改人修改內(nèi)容摘要關(guān)聯(lián)需求ID狀態(tài)A00114nmFinFET設(shè)計文件V2.1某工程師調(diào)整柵極長度至28nmRQ20230045已發(fā)布B002HSPICE仿真模型V3.0某仿真師更新漏電流參數(shù)模型RQ20230078驗證中操作步驟:文件歸檔:設(shè)計文件提交時,系統(tǒng)自動唯一ID并關(guān)聯(lián)需求編號(如RQ20230045)。變更控制:修改文件需提交變更申請,審批通過后系統(tǒng)自動更新版本號并通知關(guān)聯(lián)人員(如仿真師)。影響分析:版本變更時,PLM自動關(guān)聯(lián)受影響的設(shè)計模塊、仿真任務(wù)及測試用例,影響報告。工具2:仿真自動化任務(wù)模板任務(wù)名稱輸入?yún)?shù)仿真工具輸出結(jié)果預(yù)計耗時NMOS閾值電壓仿真柵氧厚度=2nm、溝道長度=20nmHSPICEVth曲線、漏電流數(shù)據(jù)表45分鐘互連RC參數(shù)分析金屬層數(shù)=6、線寬=0.1μm、間距=0.2μmCadenceRC延遲矩陣、功耗報告120分鐘操作步驟:參數(shù)配置:在PLM中創(chuàng)建仿真任務(wù)模板,定義輸入?yún)?shù)范圍及默認(rèn)值(如柵氧厚度2±0.1nm)。批量執(zhí)行:通過API接口將參數(shù)導(dǎo)入仿真工具,提交至計算集群(如某超算中心),任務(wù)狀態(tài)實(shí)時更新。結(jié)果歸檔:仿真完成后,結(jié)果自動存入數(shù)據(jù)庫并關(guān)聯(lián)設(shè)計版本,支持在線查看與對比分析。(三)供應(yīng)鏈協(xié)同場景:智能計劃與庫存管理工具工具1:MRP運(yùn)算參數(shù)表物料代碼名稱ABC分類提前期(天)安全庫存(片)經(jīng)濟(jì)訂貨量(片)S-00112英寸硅片(N型)A類30500010000C-045光刻膠(BARC)B類14200500操作步驟:數(shù)據(jù)輸入:在SRM系統(tǒng)中導(dǎo)入BOM清單、庫存數(shù)據(jù)(當(dāng)前庫存2000片)、訂單預(yù)測(未來3個月需求量)。MRP運(yùn)算:系統(tǒng)根據(jù)“毛需求=凈需求+安全庫存-在途量”自動采購計劃(如S-001物料需補(bǔ)充8000片)。異常處理:若供應(yīng)商提前期延長(如因疫情延遲至40天),系統(tǒng)自動觸發(fā)預(yù)警并建議調(diào)整安全庫存至8000片。工具2:供應(yīng)商交付監(jiān)控看板供應(yīng)商ID物料名稱訂單號計劃交付日實(shí)際交付日延遲原因處理狀態(tài)V-123硅片PO20230122023-03-152023-03-18物流管制已協(xié)調(diào)V-456化學(xué)試劑PO20230152023-03-20—產(chǎn)線故障緊急調(diào)貨中操作步驟:實(shí)時同步:供應(yīng)商通過SRM平臺提交生產(chǎn)進(jìn)度,系統(tǒng)自動更新計劃與實(shí)際交付日期。延遲分析:延遲超48小時自動觸發(fā)警報,系統(tǒng)推送延遲原因分類(物流/生產(chǎn)/質(zhì)量)及解決方案(如尋找替代供應(yīng)商)??冃гu估:每月根據(jù)交付準(zhǔn)時率、質(zhì)量合格率供應(yīng)商評分,作為下季度訂單分配依據(jù)。(四)質(zhì)量管控場景:全流程追溯與智能診斷工具工具1:質(zhì)量追溯數(shù)據(jù)鏈表晶圓ID生產(chǎn)批次工藝步驟設(shè)備ID關(guān)鍵參數(shù)檢測日期檢測結(jié)果W-001-456B2023021光刻L-012曝光劑量=30mJ/cm22023-03-10良W-007-892B2023021刻蝕E-008刻蝕速率=500nm/min2023-03-11針孔(缺陷數(shù)=3)操作步驟:數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián):MES系統(tǒng)將“晶圓ID”與生產(chǎn)批次、設(shè)備參數(shù)、檢測結(jié)果綁定,存儲于數(shù)據(jù)庫。追溯查詢:輸入客戶投訴的晶圓ID(如W-007-892),系統(tǒng)自動回溯該晶圓所有工藝參數(shù)與檢測結(jié)果。根因定位:對比良品與缺陷晶圓的參數(shù)差異(如發(fā)覺缺陷晶圓刻蝕速率超容差),關(guān)聯(lián)設(shè)備E-008的歷史維護(hù)記錄。工具2:質(zhì)量異常診斷模板異常類型關(guān)聯(lián)參數(shù)診斷模型根因概率改進(jìn)建議針孔缺陷刻蝕速率、腔室壓力隨機(jī)森林(決策樹)85%清理腔室顆粒物,調(diào)整壓力至15±0.5Pa晶圓翹曲退火溫度、升溫速率貝葉斯網(wǎng)絡(luò)92%優(yōu)化升溫速率(5℃/min→3℃/min)操作步驟:數(shù)據(jù)輸入:將異?,F(xiàn)象(如針孔缺陷)、相關(guān)參數(shù)(刻蝕速率、壓力)輸入診斷系統(tǒng)。模型分析:系統(tǒng)調(diào)用歷史訓(xùn)練模型
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