1、PECVD工藝的原理和操作，毛振樂2010.3.20，2，片假名計(jì)程儀，基本原理工藝的設(shè)備結(jié)構(gòu)的基本操作異常處理，3， 基本原理PECVD:plasionenhancedchemicalvapordeposition等離子體增強(qiáng)化學(xué)汽相淀積等離子體：瓦斯氣體在一定條件下受到高能激發(fā)電離，一部分外層電子脫離原子核，形成由電子、正絡(luò)離子和中性粒子的混合物組成的形態(tài)，等離子態(tài)、顯示該形態(tài)、4、基本原理、5、工作原理3sih4nh3si3n4h2以低溫等離子體為能量源，以一定方式將硅片升溫到規(guī)定溫度，然后流通適量的反應(yīng)瓦斯氣體，經(jīng)過一系列的化學(xué)反應(yīng)和等離子反應(yīng)在硅片表面形成固體薄膜。 PECVD法與其

2、他CVD法不同，其特征是等離子體中含有大量高能電子，可以提供化學(xué)汽相淀積工藝所需的活性能量。 電子和氣相分子的碰撞促進(jìn)了瓦斯氣體分子的分解、化合、激發(fā)和電離過程，生成活性高的各種化學(xué)化學(xué)基，從而顯著降低CVD薄膜的沉積溫度范圍，實(shí)現(xiàn)了原本必須在高溫下進(jìn)行的CVD工藝?；驹?、6、其他方法的沉積溫度： APCVD常壓CVD、700-1000 LPCVD低壓CVD、750、0.1mbarpecvd300-450、0.1mbarpecvd的基本特征之一是實(shí)現(xiàn)了薄膜沉積工藝的低溫化(450 ) 其優(yōu)點(diǎn)：節(jié)約能源、降低成本、提高生產(chǎn)能力、減少高溫下硅片中少子壽命的其他優(yōu)點(diǎn)：沉積速率快成膜質(zhì)量好的缺點(diǎn)：

3、固定投資大、成本高、瓦斯氣體純度高的成膜過程中產(chǎn)生的劇烈噪音、輻射、粉塵等對人體有害PECVD種類：基本原理間接式基板與激發(fā)電極(例如，2.45GHz的微波激發(fā)等離子體)不接觸，8、基本原理，PECVD種類：直接式基板位于電極上，直接等離子體(次低頻放電10-500kHz或射頻波13.56MHz )，9 直接法，間接法，管式PECVD系統(tǒng)，大板塊式PECVD系統(tǒng)，微波法直流法，Centrotherm，48處，七星華創(chuàng)，日本島津，RothRau，OTB，基本原理，10，PECVD的作用在硅片表面堆積氮化硅膜氫原子的摻雜大頭針對氮化硅附加了氫的鈍化作用?；驹?1、王松、工作原理_板P SiNA

4、系統(tǒng)采用間接微波等離子增強(qiáng)化學(xué)汽相淀積的方法沉積硅太陽能電池片氮化硅(SiN )減反射膜。 有很好的膠卷均勻性，具有大規(guī)模生產(chǎn)能力。 在PECVD工序中，等離子體中的h (氫)導(dǎo)致的硅表面的鈍化和在燒結(jié)工序中SiN中的氫原子擴(kuò)散到硅內(nèi)，h (氫)使硅表面和體內(nèi)的晶界、懸空鍵等缺陷鈍化，這些個(gè)不能作為復(fù)合中心發(fā)揮作用，這減少了少數(shù)載流子的復(fù)合，使少數(shù)載流子的基本原理、12、工作原理_管道P Centrotherm PECVD系統(tǒng)是一系列利用平行平板鍍舟和次低頻等離子體激勵(lì)器的發(fā)生器。 在低壓和升溫的情況下，等離子體發(fā)生器在安裝于鍍板中間的介質(zhì)間直接反應(yīng)。 所使用的活性瓦斯氣體為硅烷SiH4和阿摩

5、尼亞NH3。 通過改變硅烷對阿摩尼亞的比率，可以得到不同的折光率。 在沉積工藝中，伴隨大量的氫原子和氫絡(luò)離子的產(chǎn)生，硅片的氫鈍化非常良好?；驹?，13，1 .流程啟動(dòng)流程開始2. fill tube with N2氮填充3.loading boat (paddleinupperposition )劃船(槳上位) 4. paddle moves downwards槳葉低位5.move out (paddleinlowerposition )槳葉低位移出管外，電鍍工藝流程，14， 電鍍工藝流程6 .對6.evacuatetubeandpresstest管內(nèi)抽真空進(jìn)行壓力測試7 .用7.plasm

6、aprecleanandcheckwithnh3射頻波電源對阿摩尼亞瓦斯氣體進(jìn)行預(yù)清除檢查8 .用8. purge cycle 1清洗管路1 10 .在恒溫下測量泄漏，15， 涂復(fù)工藝11. ammonia plasma preclean射頻波電源用阿摩尼亞清洗12. deposition鍍膜13. end of deposition結(jié)束鍍膜14.evacuatetubeandpresstest真空抽吸和測試壓力15 凈化管路1、16、 電鍍工藝流程16 .填充氮?dú)?7 .移動(dòng)填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填

7、充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充填充process轉(zhuǎn)變到結(jié)果的捆綁軟件過程，17，管式PECVD系統(tǒng)，大板塊式PECVD系統(tǒng)，設(shè)備構(gòu)造，18，王松，設(shè)備構(gòu)造，設(shè)備構(gòu)造_板p，19，王松，設(shè)備構(gòu)造，設(shè)備構(gòu)造_板p，20，王松，設(shè)備構(gòu)造，設(shè)備構(gòu)造_板p，21，設(shè)備構(gòu)造，設(shè)備構(gòu)造_板p 設(shè)備構(gòu)造、設(shè)備構(gòu)造、設(shè)備構(gòu)造_板p、溫度、壓力、冷卻水、過程名、運(yùn)行狀態(tài)、時(shí)間、日期、賬戶編號、23、設(shè)備構(gòu)造_管p、設(shè)備構(gòu)造、24、設(shè)備構(gòu)造搭載區(qū)爐體特氣盤真

8、空系統(tǒng)操縱系統(tǒng)、設(shè)備構(gòu)造、25、設(shè)備構(gòu)造：搭載區(qū)：槳、LIFT、吸引系統(tǒng)、SLS系統(tǒng)。 槳：由碳化硅材料制成，具有耐高溫、防變形等性能。 有將黑金屬鉛舟放入石英管或取出的作用。 LIFT :機(jī)械人系統(tǒng)在機(jī)械手臂的作用下在小船、槳和池之間移動(dòng)小船。 吸引系統(tǒng)：位于晶圓裝載區(qū)上方，初步的蒸發(fā)制冷黑金屬鉛板和一定程度的剩馀瓦斯氣體SLS系統(tǒng)：軟著陸系統(tǒng)，控制板上下，移動(dòng)范圍為23厘米，設(shè)備結(jié)構(gòu)，26厘米，爐體：爐管，加熱系統(tǒng)，蒸發(fā)制冷系統(tǒng)爐管：爐體內(nèi)有4根爐管，用石英制成，鍍膜的工作區(qū)域，高溫加熱系統(tǒng)：位于石英管之外，有5個(gè)溫帶。 設(shè)備構(gòu)造，27，加熱系統(tǒng)：設(shè)備構(gòu)造，CMS模塊3電源連接罩熱電偶4溫

9、度測量模塊，28，蒸發(fā)制冷系統(tǒng)：設(shè)備構(gòu)造，29，特殊控制柜： MFC氣閥MFC :氣體流量計(jì)(NH3，SiH4，O2，N2 )氣閥：不使用電磁閥是在電磁閥動(dòng)作時(shí)設(shè)備結(jié)構(gòu)，30，真空系統(tǒng)真空泵蝶形閥真空泵：每石英管配置一組泵，包括主泵和輔助泵。 蝶形閥：根據(jù)需要控制閥門開關(guān)的大小，管內(nèi)氣壓的高低、設(shè)備結(jié)構(gòu)、31、操縱系統(tǒng)cmi:centrtherm開發(fā)的一個(gè)操縱系統(tǒng)，接口為Jobs、System、Datalog、Setup、Alarms、 3 System:爐管的工作狀態(tài)、小船的狀態(tài)、機(jī)械手臂的手動(dòng)操作的內(nèi)容。 Datalog:機(jī)器運(yùn)行的各步驟。設(shè)備結(jié)構(gòu)、32、Setup:舟的

10、資料變更、過程內(nèi)容的變更、使用權(quán)限的變更、LIFT位置的變更、CMS防偽系統(tǒng)(安裝的傳感器監(jiān)視重要的系統(tǒng)的運(yùn)行狀況，如果不受計(jì)算機(jī)的控制，CMS就能工作，所有的錯(cuò)誤信息都在CMI上Alarms :警報(bào)內(nèi)容Help:簡單說明警報(bào)解除和其他方法CESAR :控制計(jì)算機(jī)，所有系統(tǒng)均配備CESAR控制計(jì)算機(jī)和CESAR控制軟件，設(shè)備結(jié)構(gòu)，33，基本操作_主板p，1，準(zhǔn)備工作：雙手附帶，PVC手套，活性炭口罩。2、軸環(huán)：從干燥機(jī)中小心取出一組硅片，使硅片的男低音槽傾斜45度，仔細(xì)檢查硅片是否有損傷現(xiàn)象，還水珠檢查有木有。 將檢查過的硅晶圓整齊地放置在推車上，檢查流程圖中記載的男低音編號是否與實(shí)際一致，并

11、將檢查過的流程圖放置在推車旁邊的工具箱中。 注意事項(xiàng)：從烘干機(jī)接收薄板時(shí)，要確認(rèn)硅晶片表面沒有水珠，然后再安裝薄板。 帶實(shí)驗(yàn)單的工藝表一定要明確實(shí)驗(yàn)要求。34、基本操作_板p、3、紙張：抽吸筆(抽吸球)是否完全，抽吸頭是否清潔，抽吸筆的空氣大小是否合適，能否正常使用，排出紙張的地方將印刷上的男低音放置在排出紙張臺上。 男低音插座向正面傾斜(有男低音插座編號的一側(cè))。 右手(或左手)拿著吸引筆將吸引頭輕輕地放置在硅晶片表面，用吸引筆自然地吸附硅晶片表面的中央的邊緣部分，從男低音插座平行地取出，配合黑金屬鉛信息幀使硅晶片平行地下降， 用中指按下吸引按鈕直到將硅片放置在黑金屬鉛信息幀的下端以下，將硅

12、片與黑金屬鉛信息幀鉤狀體平行放置，反復(fù)進(jìn)行上述操作直到裝滿，在兩組之間需要交接片。 注意事項(xiàng)：請將放置晶片時(shí)的聲音保持在最小限度，減小與硅晶片的碰撞造成的損傷。35、基本操作_板p、4、檢查：滿框后用左手輕輕敲打黑金屬鉛框(檢查黑金屬鉛框內(nèi)的硅片是否安裝)，觀察框內(nèi)的硅片是否自由移動(dòng)。 確認(rèn)后，按下加載按鈕，輕輕按下黑金屬鉛框，放入裝置。 5、拆除片：左手拿著吸附筆輕輕放置在硅晶圓上，將硅晶圓豎立起來從黑金屬鉛信息幀中取出，轉(zhuǎn)動(dòng)吸附筆，使硅晶圓的表面向內(nèi)側(cè)靠近黑金屬鉛信息幀，形成45度的角度。 在云同步中吸盤靠近吸附筆而開放，吸盤在硅晶圓上成為45度，提起吸盤，使硅晶圓的兩側(cè)與布拉克男低音插座

13、兩側(cè)的齒的間隙配合而平行地放入，必須放入到最后才能放松吸盤。 注意事項(xiàng)：涂層板的顏色是否正常要時(shí)常關(guān)注，如果有異常，必須立即回到工藝過程中，解鎖過程中不要用手觸摸涂層面。36、基本操作_板p、6、測定：選擇各組隨機(jī)黑金屬鉛框的第三列，按順序送入質(zhì)量檢驗(yàn)站測定反射率、最低波長和膜厚、折光率7、送入圖紙：一組滿后，在流程表上填寫男低音槽號，測定反射率，填寫匯總表后注意事項(xiàng)： 1、操作過程中，請勿用手觸摸硅片2、經(jīng)常注意涂層表面的顏色是否正常，如果有異常，必須立即種子文件工序3 .嚴(yán)禁用手直接觸摸黑金屬鉛框。37、基本操作_管道p，1、準(zhǔn)備、翻領(lǐng)片：嚴(yán)格安裝勞動(dòng)保險(xiǎn)用品，安裝活性炭口罩和PVC手套真

14、空吸盤正常、正常使用，檢查各黑金屬鉛艇有無破損， 檢查是否能正常使用，把裝有清潔硅晶圓的硅男低音墊片放在指定的載物臺上2，座椅：檢查后，把能正常使用的碳石墨板放在推車上，用力按推車的臂，使碳石墨板與水平面成45度。 右手拿著真空吸盤(也可以相反)，從硅晶圓筐中取出硅晶圓，將硅晶圓依次放入碳石墨舟皿，在將碳石墨舟皿的一個(gè)面全部安裝之后，使推車的工作臺旋轉(zhuǎn)180，反復(fù)進(jìn)行取出上述薄片的作業(yè)， 在碳石墨舟的另一面安裝硅晶片，在碳石墨舟上安裝硅晶片后，將碳石墨舟弄平，仔細(xì)檢查有無泄漏，檢查有無泄漏、重片材后，安裝完畢。 注意事項(xiàng)：嚴(yán)禁用手直接接觸碳石墨艇。38、基本操作_管p、3、片材：右手拿真空吸盤

15、(也可以相反)，從硅晶片筐取出硅晶片，將硅晶片依次定徑套碳石墨舟，將碳石墨舟的一面全部定徑套后，使推車的載物臺旋轉(zhuǎn)180， 反復(fù)進(jìn)行取出上述片材的操作，在碳石墨舟的另一面定徑套硅晶片的碳石墨舟上安裝硅晶片后，將碳石墨舟弄平，仔細(xì)檢查有無泄漏，檢查有無泄漏、重片材后，安裝完成。 注意事項(xiàng)：安裝時(shí)硅晶圓必須與3個(gè)鉤狀體緊密接觸的薄片完成后，請仔細(xì)檢查碳石墨板兩側(cè)的硅晶圓的傾斜度是否一致，以免薄片掉下來成為電鍍失敗薄片。、39、基本操作_管道p，4、小船：檢查黑色金屬鉛小船放在推車上的方向和推車放小船的方向。 正確的放置方法是，黑色金屬鉛船上有兩個(gè)小孔的一端位于推車的左端，推車放置小船的平臺上有黑色或紅色標(biāo)記的一端朝向有顯視器的方向。 檢查結(jié)束后，將購物車壓入管式PECVD裝置，發(fā)出“噗”的聲音時(shí)，表示購物車進(jìn)入裝置，是裝置畫面上顯示的接口。 5、運(yùn)行過程：在輸入畫面中，在“l(fā)ot 1”中輸入操作員的名稱，不填寫“l(fā)ot 2”，在“Boat”欄中輸入碳石墨板的編號，在“Recipe”欄中選擇當(dāng)前運(yùn)行的過程，在“Tube”欄中選擇裝有碳石墨板的爐子， 上述操作全部喀嚦聲輸入牛鼻子進(jìn)入下一個(gè)操作，填寫完畢喀嚦聲“OK”，最后喀嚦聲“Run”，設(shè)備就能以自動(dòng)模式運(yùn)行。 注意事項(xiàng)：注意不要弄錯(cuò)小船，仔細(xì)檢查電極口的方向，40，基本操作_管子