1、介紹Optorun光學鍍膜設(shè)備,設(shè) 備 型 號 講 解,設(shè)備型號舉例：OTFC 1300 DBI,設(shè)備種類,大小,配置,設(shè)備種類分為 OTFC和 Gener 真空室大小分為600、900、1300、1550、1800、2350 配置說明： C: 冷凝泵 D: 擴散泵 B: 電子槍 I: 離子源,設(shè) 備 機 構(gòu) 總 成,真空腔體 抽氣以及排氣系統(tǒng) 真空測量儀器 全自動蒸發(fā)控制系統(tǒng) 真空室加熱、基板系統(tǒng) 基板高速旋轉(zhuǎn)機構(gòu) 電子束蒸發(fā)系統(tǒng) RF射頻離子源 高精度光學監(jiān)控系統(tǒng) 石英晶振以及速率監(jiān)控系統(tǒng) 真空壓力自動控制系統(tǒng) 冷卻水壓縮空氣系統(tǒng) 冷凝器,一、 真 空 腔 體,1. 觀 察 基 板 窗 口

2、,觀察基板窗口,成膜時通過觀察窗可了解真空室內(nèi)的情況,觀察蒸發(fā)源,2. 遙 控 盒 功 能,MASK NO下降、EX抬起 SHUTTER IB:離子源擋板開關(guān) EB1:電子槍1擋板開關(guān) EB2:電子槍2擋板開關(guān) HEARTH HEARTH1:左坩堝臺旋轉(zhuǎn) HEARTH2:右坩堝臺旋轉(zhuǎn) DOME ROTATION 工件盤 順時針方向旋轉(zhuǎn) 工件盤 逆時針方向旋轉(zhuǎn),3. 真 空 室 內(nèi) 部,4. 坩 堝 種 類,點 坩 堝,環(huán) 形 坩 堝,確 認 坩 堝 位 置,標 準,確認坩堝臺中心、坩堝、電子束蒸發(fā)源是否在一條直線上,松開聯(lián)軸器螺絲，調(diào)整編碼器位置，直到補償數(shù)字為0，然后鎖緊螺絲,5. 電 子

3、槍 原 理 及 作 用,電子束蒸發(fā)示意圖,電子槍是加速電子轟擊靶并發(fā)光的一種裝置，它發(fā)射出具有一定能量、一定束流以及速度和角度的電子束，電子受柵極電位的影響，在陽極加速電壓下形成匯聚的電子束，在磁場作用下電子束得到進一步聚焦并偏轉(zhuǎn)180或270射入裝有鍍膜料的坩堝中，其動能變成熱能使蒸鍍材料蒸發(fā)沉積于基片上形成薄膜,電 子 槍 總 裝 圖,真空室,電子槍 1 電子槍 2,高壓導入端子,掃 描 控 制 器,電子槍電控柜,低壓導入端子,控 制 系 統(tǒng),電 子 槍 種 類,電子束蒸發(fā)源種類: 電子束偏轉(zhuǎn)角度180，運行軌跡為“C”的C型槍 電子束偏轉(zhuǎn)角度270，運行軌跡為“e”的e型槍,e 型槍,C

4、 型槍,e型槍U字形燈絲,c型槍蚊香形燈絲,鍍膜前確認上、下犄角是否平行，水平,標 準,標 準,松開此螺絲調(diào)節(jié)犄角平行度,松開螺絲后犄角下方墊銅片，確保犄角的水平,鍍膜前電子槍注意事項,確認坩堝擋板高度是否80mm 坩堝擋板打開角度90左右 坩堝擋板架子需要包鋁箔 鍍膜之前用吸塵器吸取灰塵，確保真空室內(nèi)部清潔,80mm,擋板角度打開90左右,鋁箔包住,6. 離 子 源 的 作 用,離子源輔助電子束示意圖,1.清潔基片表面 2.夯實膜層，使其致密 3.提高膜牢固度,離 子 源 種 類,RF 離子源,GL 離子源,中和器,鍍膜前離子源注意事項,用角度儀確認離子源的水平及內(nèi)外角度 確認坩堝擋板高度

5、離子源擋板打開角度 離子源擋板架子需要包鋁箔 確認地線是否連接（共三根）,接地線,7. 輔正板（MASK）的作用,mask,通過輔正板遮擋部分蒸發(fā)材料，調(diào)整整片傘架的均勻性，使所有基板物理厚度一致。,調(diào)節(jié)MASK升降速度的快慢,鍍膜前MASK注意事項,MASK設(shè)定角度18。當角度不是18時調(diào)節(jié)此螺絲 確認MASK支桿是否卡在MASK槽上,8. 石 英 晶 振 以 及 速 率 監(jiān) 控 系 統(tǒng),XTC/3膜厚控制儀,水晶holder,水晶探頭,水晶旋轉(zhuǎn)機構(gòu),石英晶體振蕩法監(jiān)控膜厚，主要是利用石英晶體的兩個效應(yīng)，壓電效應(yīng)和質(zhì)量負荷效應(yīng)，通過測定固有諧振頻率或與固有諧振頻率有關(guān)的參數(shù)變化來監(jiān)控沉積薄膜

6、的厚度。,石英晶體的頻率飄移與附加上的質(zhì)量的關(guān)系： 附加上的質(zhì)量增加，振蕩頻率降低,質(zhì)量 = 密度 X 面積 X 厚度,9. 光 學 監(jiān) 控 系 統(tǒng),光量曲線,光控電源及數(shù)據(jù)處理器,分光器及投光器,監(jiān)控片玻璃,實時監(jiān)測光反射率（或透射率）的變化，并將實時反射率（或透射率）數(shù)據(jù)提供給主機，從而實現(xiàn)薄膜的光學厚度控制 。 電腦(相當于人體大腦)根據(jù)光學膜厚計提供的反射率實時變化曲線，在反射率變化到事先設(shè)定的停止位置的一瞬間停止材料蒸鍍，從而得到所需要的膜厚。,監(jiān)控片罩殼,10. 加 熱 絲,側(cè)壁加熱,真空室門加熱,監(jiān)控片及工件盤加熱,溫度對膜層原子或分子提供額外能量補充，在膜層折射率、應(yīng)力、附著力

7、、硬度和不溶性都會因基片溫度的不同而有較大差異,升溫優(yōu)點： 排除基片表面的剩余氣體分子，增加基片與沉積分子之間的結(jié)合力 促使膜層物理吸附向化學吸附轉(zhuǎn)化，增加分子之間相互作用，使膜層緊密，附著力增加，提高機械強度 減少蒸汽分子再結(jié)晶溫度與基片溫度之間的差異，提高膜層致密度，增加硬度，消除內(nèi)應(yīng)力,溫度過高弊端：使膜層結(jié)構(gòu)變化或膜料分解,11. 真 空 室 內(nèi) 部 相 關(guān) 部 件,百葉窗,冷凝管,主閥蓋,工件盤 （DOME）,防止膜料污染到真空室,二、 OTFC 電 控 柜 總 圖,光控投光器電源,光控數(shù)據(jù)處理器,觸摸屏,RF離子源控制器,電子槍控制器,真空顯示器,膜厚控制儀,電腦顯示器及主機,Ge

8、ner 電 控 柜 總 圖,GL離子源控制器,緊急停止按鈕,監(jiān)控片和工件盤的加熱絲電流,充氧壓力控制器,其它部分與OTFC電控柜相同,光 學 監(jiān) 控 系 統(tǒng) 1,光 學 監(jiān) 控 系 統(tǒng) 2,離 子 源 總 裝 圖,AMVG-600RUN2 Matching Box,Mass Flow Controller 3 line,OISC-Ion source Controller,中和器電源,離子源直流電源,AX-300 中和器射頻電源,AX-1000 RF Generator離子源射頻電源,OIS-Two RF Ion Source (17cm),RFN-3A Neutralizer,AM-200R

9、UN Matching Box,PC,氣體控制器,目前，我司使用的冷凍機有兩種，Telemark和Polycold,在一個完全封閉的環(huán)境下，通過壓縮機制造循環(huán)，并使用特殊配方的介質(zhì)，從而使電能轉(zhuǎn)化為熱能，達到制冷和化霜的功能。,電子槍控制器,離子源控制器,真空計種類,BPG:熱電離真空計,PEG:冷電離真空計,SC2：管道真空計,SC1：愛發(fā)科真空計,抽氣以及排氣硬件系統(tǒng)-（圖1）,機械泵,油吸附塔,羅茨泵,排氣管道,粗抽閥,FV閥,油擴散泵,高真空閥,高真空閥,PLC抽氣以及排氣軟件系統(tǒng)（圖2）,真空泵,機械泵 羅茨泵 擴散泵,機械泵,作用： 前期抽氣,為達到低真空的設(shè)備.還是羅茨泵的前級泵 原理：建立在玻意耳-馬涅特定律的基礎(chǔ)上的。PV=K（P-壓強 V-體積 K-溫度）,羅茨泵,作用：用來提高中間壓力范圍的抽氣量 原理：羅茨泵是一種無內(nèi)壓縮的真空泵，通常壓縮比很低，故高、中真空泵需要前級泵。羅茨泵的極限真空除取決于泵本身結(jié)構(gòu)和制造精度外，還取決于前級泵的極限真空。為了提高泵的極限真空度，可將羅茨泵串聯(lián)使用。,擴散泵,作用：后期抽氣，為達到高真空的設(shè)備，是整個真空抽氣系統(tǒng)的主