ICS1722020 N 26 . . 中 華 人 民 共 和 國 國 家 標(biāo) 準(zhǔn) GB/T314702015 俄歇電子能譜與 X 射線光電子能譜測試 中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則 Standardpracticefordeterminationofthespecimenareacontributingto thedetectedsignalinAugerelectronspectrometersandsome X-rayphotoelectronspectrometers2015-05-15發(fā)布 2016-01-01實(shí)施 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局 發(fā) 布 中 國 國 家 標(biāo) 準(zhǔn) 化 管 理 委 員 會 GB/T314702015 前 言 本標(biāo)準(zhǔn)按照 給出的規(guī)則起草 GB/T1.12009 。 本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會 提出并歸口 (SAC/TC203) 。 本標(biāo)準(zhǔn)起草單位 信息產(chǎn)業(yè)專用材料質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心 中國電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究院 蘇州晶瑞化 : 、 、學(xué)有限公司 天津中環(huán)領(lǐng)先材料技術(shù)有限公司 、 。 本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人 李雨辰 何秀坤 劉筠 劉兵 李翔 : 、 、 、 、 。 GB/T314702015 引 言 俄歇電子能譜和 射線光電子能譜廣泛地應(yīng)用于材料的表面分析 本標(biāo)準(zhǔn)總結(jié)了對于具有聚焦 X 。 電子束或聚焦 射線束功能的儀器 當(dāng)可掃描區(qū)域大于樣品被分析器檢測到的區(qū)域 使得通過選擇電 X , , 子能量分析器的運(yùn)行條件來確定觀察到的樣品區(qū)域的方法 樣品被觀察到的區(qū)域依賴于電子在能量分 。 析之前是否被減速 分析器的通過能或者減速比 如果電子在能量分析之前被減速 所選擇的狹縫或孔 、 , , 徑及電子能量值可以被測出 被觀察到的區(qū)域依賴電子能量分析器運(yùn)行條件的選擇也可能與樣品的適 。 當(dāng)?shù)恼{(diào)整有關(guān) 。 本標(biāo)準(zhǔn)可以給出電子能量分析器在特定的運(yùn)行條件下成像特性的信息 這個信息對將分析器性能 。 與廠商說明書中所描述的進(jìn)行比較具有一定幫助 。 GB/T314702015 俄歇電子能譜與 X 射線光電子能譜測試 中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則1 范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了俄歇電子能譜和部分類型的 射線光電子能譜檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的確定方法 X 。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于俄歇電子能譜儀和具有以下條件的 射線光電子能譜 入射 光束激發(fā)的樣品區(qū)域 X : X 大于分析器可檢測到的樣品區(qū)域 光電子從樣品到分析器入口的過程中經(jīng)過自由空間 裝配有輔助電子 ; ; 槍可以產(chǎn)生一束可變能量的電子束照射到樣品上 。2 規(guī)范性引用文件 下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的 凡是注日期的引用文件 僅注日期的版本適用于本文 。 , 件 凡是不注日期的引用文件 其最新版本 包括所有的修改單 適用于本文件 。 , ( ) 。 表面化學(xué)分析 詞匯 GB/T224612008 (ISO18115:2001,IDT) 俄歇電子能譜術(shù)和 射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則 SJ/T104581993 X3 術(shù)語和定義 界定的術(shù)語和定義適用于本文件 GB/T224612008 。4 縮略語 下列縮略語適用于本文件 。 俄歇電子能譜 AES: (Augerelectronspectrometer) 射線光電子能譜 XPS:X (X-rayphotoelectronspectrometer) 半高峰寬 FWHM: (fullwidthathalfmaximum)5 儀器 51 試樣 . 建議被測樣品是金屬箔一類的導(dǎo)體 橫向的尺寸大于電子能量分析器檢測區(qū)域的尺寸 試樣晶粒 , 。 尺寸應(yīng)小于分析器預(yù)期的空間分辨率或者入射電子束的直徑 以避免溝道效應(yīng)或衍射效應(yīng)造成的假象 , 。 樣品表面應(yīng)光滑 沒有刮痕 以及憑肉眼可以觀察到的類似缺陷 使用離子濺射或其他方法來清除 , , 。 樣品表面沾污 例如 氧化物 吸附的碳?xì)浠衔锏?表面潔凈度可以用