標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 22461-2008 表面化學(xué)分析 詞匯》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),其主要目的是為表面化學(xué)分析領(lǐng)域提供一套統(tǒng)一的術(shù)語(yǔ)及其定義。這項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)涵蓋了與表面化學(xué)分析相關(guān)的廣泛概念和技術(shù)術(shù)語(yǔ),旨在促進(jìn)該領(lǐng)域的交流、研究以及技術(shù)發(fā)展的一致性。
在具體內(nèi)容上,《GB/T 22461-2008》包含了多個(gè)方面:
- 定義了“表面”、“界面”等基礎(chǔ)概念。
- 對(duì)于常用的表面分析方法如X射線光電子能譜(XPS)、俄歇電子能譜(AES)、二次離子質(zhì)譜(SIMS)等給出了明確的解釋。
- 描述了一些關(guān)鍵參數(shù)或特性,比如分辨率、靈敏度、檢測(cè)限等,在表面化學(xué)分析中的意義。
- 包含了有關(guān)樣品制備、數(shù)據(jù)處理等方面的專業(yè)術(shù)語(yǔ)。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 22461.1-2023
- 2008-10-30 頒布
- 2009-06-01 實(shí)施
文檔簡(jiǎn)介
犐犆犛01.040.71,71.040.40
犌04
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
犌犅/犜22461—2008/犐犛犗18115:2001
表面化學(xué)分析詞匯
犛狌狉犳犪犮犲犮犺犲犿犻犮犪犾犪狀犪犾狔狊犻狊—犞狅犮犪犫狌犾犪狉狔
(ISO18115:2001,IDT)
20081030發(fā)布20090601實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局
發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
書
犌犅/犜22461—2008/犐犛犗18115:2001
目次
前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅰ
引言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅱ
1范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
2縮略語(yǔ)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
3格式!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!2
4表面分析方法的定義!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!2
5表面分析詞匯的定義!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!3
附錄A(資料性附錄)術(shù)語(yǔ)補(bǔ)充說(shuō)明!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!42
參考文獻(xiàn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!44
中文索引!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!45
英文索引!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!50
書
犌犅/犜22461—2008/犐犛犗18115:2001
前言
本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ISO18115:2001《表面化學(xué)分析———詞匯》。
本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A是資料性附錄。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC38)歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位:北京大學(xué)、清華大學(xué)。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:黃惠忠、曹立禮。
Ⅰ
犌犅/犜22461—2008/犐犛犗18115:2001
引言
表面化學(xué)分析是一個(gè)重要的領(lǐng)域,涉及來(lái)自不同領(lǐng)域和有不同背景人們間的相互交流。從事表面
化學(xué)分析的人們可能是材料科學(xué)家、化學(xué)家或物理學(xué)家,具有從事實(shí)驗(yàn)或理論研究的背景。使用表面化
學(xué)數(shù)據(jù)的人們不僅僅是上述人員,也可以是其他學(xué)科的人員。
用現(xiàn)有的表面化學(xué)分析技術(shù),可以獲得來(lái)自接近于表面區(qū)域(一般在20nm內(nèi))的成分信息。隨著
表面層的去除,用該技術(shù)可得到成分深度信息。本標(biāo)準(zhǔn)中包含表面分析技術(shù)的范疇,已從電子能譜和
質(zhì)譜擴(kuò)展到光譜和X射線分析。上述技術(shù)的概念源自核物理和輻射科學(xué)以至物理化學(xué)和光學(xué)等廣泛
領(lǐng)域。
廣泛的學(xué)術(shù)領(lǐng)域和不同國(guó)家獨(dú)特的用法導(dǎo)致了對(duì)專用詞匯不同的解釋,從而會(huì)用不同的詞匯描述
相同的概念。為了避免由此產(chǎn)生的誤解和便于信息的交流,有必要明確概念,采用正確的詞匯以確定其
定義。
Ⅱ
犌犅/犜22461—2008/犐犛犗18115:2001
表面化學(xué)分析詞匯
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)定義的詞匯適用于表面化學(xué)分析。
2縮略語(yǔ)
AESAugerelectronspectroscopy俄歇電子能譜
CDPcompositionaldepthprofile成分深度剖析
CMAcylindricalmirroranalyser筒鏡型能量分析器
eVelectronvolt電子伏
EELSeletronenergylossspectroscopy電子能量損失譜
EIAenergeticionanalysis荷能離子分析
EPMAelectronprobemicroanalysis電子探針顯微分析
ESCAelectronspectroscopyforchemicalanalysis化學(xué)分析用電子能譜
FABMSfastatombombardmentmassspectrometry快原子轟擊質(zhì)譜
FWHMfullwidthathalfmaximum半高峰寬
GDSglowdischargespectrometry輝光放電譜
GDOESglowdischargeopticalemissionspectrometry輝光放電發(fā)射光譜
GDMSglowdischargemassspectrometry輝光放電質(zhì)譜
HEISShighenergyionscatteringspectrometry高能離子散射譜
HSAhemisphericalsectoranalyser半球型能量分析器
IBAionbeamanalysis離子束分析
LEISSlowenergyionscatteringspectrometry低能離子散射譜
MEISSmediumenergyionscatteringspectrometry中能離子散射譜
PTPpeaktopeak峰峰值
RBSRutherfordbackscatteringspectrometry盧瑟福背散射譜
RFAretardingfieldanalyser減速場(chǎng)分析器
SAMscanningAugermicroscope掃描俄歇顯微鏡
SDPsputterdepthprofile濺射深度剖析
SEM
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