ICS7712040 H 13 . . 中華人民共和國(guó)有色金屬行業(yè)標(biāo)準(zhǔn) YS/T8712013 高純鋁化學(xué)分析方法 痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定 輝光放電質(zhì)譜法 Chemicalanalysisofhighpurityaluminium Determinationoftraceimpurities Glowdischargemassspectrometry2013-04-25發(fā)布 2013-09-01實(shí)施 中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部 發(fā) 布 YS/T8712013 前 言 本標(biāo)準(zhǔn)按照 給出的規(guī)則起草 GB/T1.12009 。 本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì) 歸口 (SAC/TC243) 。 本標(biāo)準(zhǔn)起草單位 北京有色金屬研究總院 新疆眾和股份有限公司 金川新材料科技股份有限公司 : 、 、 、山東兗礦輕合金有限公司 。 本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人 李 愛(ài) 嫦 劉 紅 李 繼 東 孫 澤 明 劉 英 洪 濤 肖 麗 梅 周 維 宋 玉 萍 戴 珍 珍 : 、 、 、 、 、 、 、 、 、 、秦芳林 邱平 、 。 YS/T8712013 高純鋁化學(xué)分析方法 痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定 輝光放電質(zhì)譜法1 范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用高質(zhì)量分辨率輝光放電質(zhì)譜法測(cè)定高純鋁中痕量元素的測(cè)試方法 。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于高純 鋁 中 痕 量 元 素 含 量 的 測(cè) 定 各 元 素 測(cè) 定 范 圍 為 -7 -3 。 5.010 % 1.010 % ( %)。2 方法提要 將一個(gè)作為陰極的試樣安裝到等離子體放電室 利用惰性氣體 氬氣 在高壓條件下電離產(chǎn)生的離 , ( ) 子撞擊樣品表面使之發(fā)生濺射 從試樣表面濺射出來(lái)的原子被離子化 通過(guò)雙聚焦扇形磁場(chǎng)質(zhì)量分析儀 , , 聚焦為離子束 進(jìn)而被質(zhì)譜分析器收集檢測(cè) 在每一元素質(zhì)量數(shù)處以預(yù)設(shè)的掃描點(diǎn)數(shù)和積分時(shí)間對(duì)相 , 。 應(yīng)譜峰積分 所得面積即為譜峰強(qiáng)度 依據(jù)式 由儀器軟件計(jì)算出雜質(zhì)元素的含量 , 。 (1) 。3 試劑與材料 31 乙醇 優(yōu)級(jí)純 . (=0.789g/mL), 。32 鹽酸 優(yōu)級(jí)純 . (=1.19g/mL), 。33 鹽酸 . (1+1)。34 氮?dú)?. (N2)99.99%。35 氬氣 . (Ar)99.99%。36 去離子水 電阻率要求達(dá)到 . : 18.2 Mcm。37 高純鋁標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 條件允許的情況下 利用高純鋁標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)生成待測(cè)元素的相對(duì)靈敏度因子RSFx . : , 。4 儀器 41 高分辨率輝光放電質(zhì)譜儀 質(zhì)量分辨率可達(dá)到 . (GDMS): 9000。42 機(jī)械加工設(shè)備 能夠使樣品和參比樣品制成所需的幾何形狀并得到光滑的表面 . , 。5 試樣 51 試樣具有均勻性和代表性 . 。52 試樣不應(yīng)采取母材的表面 將試樣制備成為塊狀 要求至少有一個(gè)用于輝光放電的光滑平面 試樣 . , , ; 大小要求能放入輝