1、精選優(yōu)質文檔-傾情為你奉上1.X射線管主要由陽極，陰極，和窗口構成。2.X射線透過物質時產(chǎn)生的物理效應有：散射，光電效應，熒光輻射，俄歇效應。3.德拜照相法中的底片安裝方法有：正裝，反裝，和偏裝三種。4.X射線物相分析方法分：定性分析和定量分析兩種。5.透射電子顯微鏡的分辨率主要受衍射效應和像差兩因素影響。7.電子探針包括波譜儀和能譜儀成分分析儀器。8.掃描電子顯微鏡常用的信號是二次電子和背散射電子。9.人眼的分辨率本領大約是：0.2mm10.掃描電鏡用于成像的信號：二次電子和背散射電子，原理：光柵掃描，逐點成像。11.TEM的功能是：物相分析和組織分析（物相分析利用電子和晶體物質作用可發(fā)生衍

2、射的特點；組織分析；利用電子波遵循阿貝成像原理）12.DTA：定性分析（或半定量分析），測溫范圍大。 DSC：定量分析，測溫范圍常在800以下。13.放大倍數(shù)（掃描電鏡）：M=b/B（b：顯像管電子束在熒光屏上的掃描幅度，通常固定不變；B：入射電子束在樣品上的掃描幅度，通常以改變B來改變M）14.X射線衍射分析方法中，應用最廣泛、最普通的是衍射儀法。15.透射電鏡室應用透射電子來成像。16.TEM無機非金屬材料大多數(shù)以多相、多組分的非導電材料，直到60年代初產(chǎn)生了離子轟擊減薄法后，才使無機非金屬材料的薄膜制備成為可能。17.適合透射電鏡觀察的試樣厚度小于200nm的對電子束“透明”的試樣。18

3、.掃描電鏡是用不同信號成像時分辨率不同，分辨率最高的是二次電子成像。19.在電子與固體物質相互作用中，從試樣表面射出的電子有背散射電子，二次電子，俄歇電子。20.影響紅外光譜圖中譜帶位置的因素有誘導效應，鍵應力，氫鍵，物質狀態(tài)。1. 電離能：在激發(fā)光源作用下，原子獲得足夠的能量就發(fā)生電離，電離所必須的能量稱為電離能。2. 原子光譜分析技術：是利用原子在氣體狀態(tài)下發(fā)射或吸收特種輻射所產(chǎn)生的光譜進行元素定性和定量分析的一種分析技術。3. X射線光電效應：當X射線的波長足夠短時，其光子的能量就很大，以至能把原子中處于某一能級上的電子打出來，而它本身則被吸收，它的能量就傳遞給電子了，使之成為具有一定能

4、量的光電子，并使原子處于高能的激發(fā)態(tài)。這種過程稱為光電吸收或光電效應。4. 衍射角：入射線與衍射線的夾角。5. 背散射電子：電子射入試樣后，受到原子的彈性和非彈性散射，有一部分電子的總散射角大于90，重新從試樣表面逸出，成為背散射電子。6. 磁透鏡：產(chǎn)生旋轉對稱磁場的線圈裝置稱為磁透鏡。7. 俄歇電子：當外層電子躍入內層空位時，其多余的能量也可以不以X射線的形式放出，而是傳遞給其他外層電子，使之脫離原子，這樣的電子稱為俄歇電子。8. 熱重法：把試樣置于程序控制的加熱或冷卻環(huán)境中，測定試樣的質量變化對溫度活時間作圖的方法。9. 相干散射：X 射線光子與原子內的緊束縛電子相碰撞時，光子的能量可以認

5、為不受損失，而只改變方向。因此這種散射的波長與入射線相同，并且有一定的位相關系，它們可以相互干涉，形成衍射圖樣，稱為相干散射。10. 質厚襯度：對于無定形或非晶體試樣，電子圖像的襯度是由于試樣各部分的密度（或原子序數(shù)Z）和厚度t不同形成的，這種襯度稱為質量厚度（Pt）襯度，簡稱質厚襯度。11. 景深：指透鏡高低不平的樣品各部位能同時聚焦成像的一個能力范圍，這個范圍用一段距離來表示。12. 復型法：用對電子束透明的薄膜把材料表面或斷口的形貌復制下來的方法叫復型法，次薄膜即為復型。13. 差熱分析：在程序控制溫度下測定物質和參比物之間的溫度差隨時間或溫度變化的一種分析技術。14. 質譜分析：是通過

6、對樣品離子的質量和強度的測定來進行成分和結構分析的一種方法。15. 分辨率：兩個埃利斑中心間距等于埃利斑半徑Ro時，平面上相應的兩物點的間距ro為透鏡能分辨最小間距。1. X射線衍射儀法中對粉末多晶樣品的要求？要求粉末粒度要大小適中，在1um-5um之間，粉末不能有應力和織構，樣品有一個最佳厚度。2. 透射電子顯微鏡的主要組成部分，功能，應用？組成部分：電子光學系統(tǒng)，真空系統(tǒng)和電源與控制系統(tǒng)。功能：觀察材料內部組織形貌和進行電子衍射以了解選區(qū)的晶體結構。應用：可以進行材料組織形貌觀察，研究材料的相變的規(guī)律，探索晶體缺陷對材料性能的影響，分析材料失效原因，剖析材料成分，組成及經(jīng)過的加工工藝等。3

7、. TEM與 SEM的原理，結構，用途不同？TEM透射電鏡:原理：阿貝成像原理，平行入射波受到有周期性特征物體的散射作用在物鏡的后焦面上形成衍射譜，各級衍射波通過干涉重新在像平面上形成反映物的特征像。結構：由電子光學系統(tǒng)，真空系統(tǒng)及電源與控制系統(tǒng)組成。用途：微區(qū)物相分析。SEM掃描電鏡：原理：即光柵掃描，逐點成像，電子束受到掃描系統(tǒng)的控制在樣品表面上做逐行掃描。結構：由電子光學系統(tǒng)，掃描系統(tǒng)，信號檢測盒放大系統(tǒng)，圖像顯示與記錄系統(tǒng)，真空系統(tǒng)和電源系統(tǒng)組成。用途：物體表面形貌分析。6. TEM式樣的制備方法？1塊體材料制備薄膜試樣（離子減薄，電解雙噴減薄）利用超薄砂輪片，金屬絲鋸等方法從試樣切取

8、0.7mm左右的薄片，利用機械研磨，化學拋光等方法將薄片試樣減薄至100-150um，離子減薄儀或雙噴裝置對薄片試樣進行最后減薄直至試樣穿孔。2粉末試樣，通常將粉末顆粒放入蒸餾水或其他合適的溶液中，形成懸浮液，最好將懸浮液放在超聲波攪拌器中攪拌，使得顆粒盡可能的分散，然后用滴管將懸浮液滴在支持膜上，待其干燥后再蒸上一局碳膜，成為觀察用的粉末樣品。3復型法4超薄切片法7. DSC與DTA測量原理不同點？DSC是在控制溫度變化情況下，以溫度或時間為橫坐標，以樣品與參比物溫差為零所需供給的熱量為縱坐標所得的掃描曲線，為差示掃描量熱曲線或DSC曲線，DAT是測量T-T的關系，而DSC是保持T=0，測定

9、H-T的關系。兩者最大的差別是DTA只能定性或半定量，而DSC的結果可用于定量分析。8. 原子發(fā)射與原子吸收原理？原子發(fā)射：元素受到熱或電擊發(fā)時，由基態(tài)躍遷到激發(fā)態(tài)，在返回基態(tài)時，發(fā)射出特征光譜。原子吸收：基態(tài)原子吸收其共振輻射，外層電子由基態(tài)躍遷到激發(fā)態(tài)而產(chǎn)生原子吸收光譜。9. 差熱分析DTA的 基本原理？將樣品和參比物同時升溫，由于樣品在加熱或冷卻過程中產(chǎn)生的熱變化而導致樣品盒參比物間產(chǎn)生溫度差，這個溫度差通過差熱電偶測出，溫差的大小主要決定于樣品本身的熱特性，通過信號放大系統(tǒng)和記錄儀記下的差熱曲線，便能如實的反映出樣品本身的特性，通過對差熱曲線的分析，可以實現(xiàn)物相鑒定的目的。10. 掃描

10、電鏡圖像的忖度？1形貌忖度由于樣品表面形貌差別而形成的忖度（二次電子）。2成分忖度由于樣品表面化學成分差別而形成的忖度（背散射電子像）。3電壓忖度樣品表面電位差別而形成的忖度。11. 影響差熱曲線的因素？1樣品方面：熱容量和熱導率變化，樣品的用量，樣品的顆粒度和裝填情況，樣品的結晶度和純度，參照物 。 2儀器方面3實驗條件：升溫速率，氣氛，壓力。12. 光源：1X射線衍射儀X射線。2光學顯微鏡電子束。3透射電子顯微鏡高速電子束。4掃描電子顯微鏡高速電子束。13. 綜合熱分析的優(yōu)點？利用多種熱分析方法聯(lián)用形成的綜合熱分析，可以獲取更多的熱分析信息，同時，多種熱分析技術集中在一個儀器上，實驗條件相

11、同，使用方便，實驗誤差小，可對物理或化學進行簡單的判斷。14. 原子吸收光譜儀由光源，原子化系統(tǒng)，單色器，檢測器等部分組成（重點：光源的原理，霧化器的作用及原理）光源的原理：光源的作用是發(fā)射被測元素的共振輻射，對光源的要求：銳線光源，輻射強度大，穩(wěn)定性高，背景小等。霧化器的作用及原理：使氣溶膠的霧粒更小，更均勻并與燃燒和助燃氣混合均勻后進入燃燒器。15. 分析紫外可見吸收光譜，可以得到的結論？1同一種物質對不同波長光的吸光度不同，吸光度最大處對應的波長稱為最大吸收波長。2不同濃度的同種物質，吸收曲線形狀相似，而最大吸收波長不變，而對于不同物質，它們的吸收曲線形狀和最大吸收波長則不同。3吸收曲線

12、可以提供物質的結構信息，并作為物質定性分析的依據(jù)之一。4不同濃度的同種物質，在某一定波長下吸光度A有差異，在最大吸收波長處吸光度A的差異最大，此特性可作為物質定量分析的依據(jù)。5在最大吸收波長處吸光度隨濃度變化的幅度最大，所以測定靈敏度最高，吸收曲線是定量分析中選擇入射光波長的重要依據(jù)。16. 紅外吸收光譜產(chǎn)生的條件？1輻射應具有剛好能滿足物質躍遷時所需的能量。2輻射與物質之間有相互作用。17. 關于對峰位，峰數(shù)與峰強的理解？峰位:化學鍵的力常數(shù)K越大，原子折合質量越小，鍵的振動頻率越大，吸收峰將出現(xiàn)在高頻率區(qū)(短波長區(qū)），反之出現(xiàn)在低頻率區(qū)（高波長區(qū))。峰數(shù)：峰數(shù)與分子自由度有關，無瞬間偶極矩

13、變化時，無紅外吸收。峰強：瞬間偶極矩變化大，吸收峰強，鍵兩端原子電負性相差越大，吸收峰越強，由基態(tài)躍遷到第一激發(fā)態(tài)，產(chǎn)生一個強的吸收峰位基頻峰，由基態(tài)直接躍遷到第二激發(fā)態(tài)，產(chǎn)生一個弱的吸收峰稱為倍頻峰。18. 色譜分析技術？一類相關分離方法的總稱，利用不同組分在兩相間物化性質的差別，通過兩相不斷的相對運動，是使各組分以不同的速率移動，從而達到將各組分分離檢測的目的的技術。19. 差熱分析中，參比物的要求？常用什么物質作為參比物？要求：1在整個測溫范圍內無熱效應2比熱和導熱性能與試樣接近3粒度與試樣相近（50-150um）物質：-Al2O3（1720K煅燒過的高純Al2O3粉）。20. 二次電子是怎樣產(chǎn)生的？主要特點？產(chǎn)生：單電子激發(fā)過程中被入射電子轟擊出的試樣原子核外電子，二次電子像主要反映試樣表面的形貌特征。