ICS7712099

CCSH.21.

中華人民共和國國家標準

GB/T15078—2021

代替GB/T15078—2008

貴金屬電觸點材料接觸電阻的測量方法

Testingmethodforcontactresistanceofpreciousmetalselectricalcontactmaterials

2021-08-20發(fā)布2022-03-01實施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

國家標準化管理委員會

GB/T15078—2021

前言

本文件按照標準化工作導(dǎo)則第部分標準化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

本文件代替貴金屬電觸點材料接觸電阻的測量方法與

GB/T15078—2008《》,GB/T15078—2008

相比除結(jié)構(gòu)調(diào)整和編輯性修改外主要技術(shù)變化如下

,,:

增加了試驗在下進行見第章

a)10℃~40℃(5);

更改了推薦值為見年版

b)3.3μm/s(6.2.5,20085.2.5);

更改了電位引線的要求見年版

c)(6.4.3,20085.4.3);

增加了對試樣和探頭的要求對試樣表面清潔程度的具體觀察手段見

d)、(7.4);

增加了無明顯氣流流動見

e)(8.1.1);

增加了-2的說明見

f)1cN=10N(8.1.2);

更改了電源閉合和設(shè)備預(yù)熱次序見年版

g)(8.3.3,20087.3.3);

增加了將置于標準電阻選擇位置后間隔再升起探頭見

h)K310s,(8.4.1);

更改了由低到高的順序進行見年版

i)(8.4.3,20087.4.3);

更改了電阻RRRi的單位為歐姆見

j)n,c,c“(Ω)”(9.1);

增加了隨著測量電流測量壓力的變大接觸電阻均會減小且與接觸時間的增長表現(xiàn)為先快速

k)、,

減小而后逐漸穩(wěn)定的衰減過程基于該特征可以選擇適當?shù)慕佑|壓力測試電流和測試時間

,,、

條件降低這些主要因素對接觸電阻測量的影響見

,(9.3);

更改了試驗報告的內(nèi)容見第章年版第章

l)(10,20089)。

請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機構(gòu)不承擔(dān)識別專利的責(zé)任

。。

本文件由中國有色金屬工業(yè)協(xié)會提出

。

本文件由全國有色金屬標準化技術(shù)委員會歸口

(SAC/TC243)。

本文件起草單位貴研鉑業(yè)股份有限公司哈爾濱工業(yè)大學(xué)昆明貴研金峰科技有限公司西北有色

:、、、

金屬研究院西安瑞鑫科金屬材料有限責(zé)任公司貴研中希上海新材料科技有限公司有色金屬技術(shù)

、、()、

經(jīng)濟研究院有限責(zé)任公司

。

本文件主要起草人陳松任萬濱馬駿陳雯鄭晶尹克江謝明王靖坤朱武勛向磊吳慶偉

:、、、、、、、、、、。

本文件所代替文件的歷次版本發(fā)布情況為

:

年首次發(fā)布為年第一次修訂

———1994GB/T15078—1994,2008;

本次為第二次修訂

———。

Ⅰ

GB/T15078—2021

貴金屬電觸點材料接觸電阻的測量方法

警示———使用本文件的人員應(yīng)有正規(guī)實驗室工作的實踐經(jīng)驗本文件并未指出所有可能的安全問

。

題使用者有責(zé)任采取適當?shù)陌踩徒】荡胧┎⒈ＷC符合國家相關(guān)法規(guī)規(guī)定的條件

。,。

1范圍

本文件規(guī)定了貴金屬電觸點材料靜態(tài)接觸電阻的測量方法

()。

本文件適用于貴金屬電觸點材料接觸電阻的測量其他金屬及合金電觸點材料也可參照使用

。。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文

。,

件僅該日期對應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于

,;,()

本文件

。

數(shù)值修約規(guī)則與極限數(shù)值的表示和判定

GB/T8170

3術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本文件

。

31

.

靜態(tài)接觸staticcontact

觸點相互靜止接觸無連續(xù)性的離合動作

、。

32

.

收縮電阻constrictionresistance

電流通過接觸面時因電流線急劇收縮而產(chǎn)生的電阻增量

,。

33

.

膜電阻membraneresistance

觸點表面膜所產(chǎn)生的電阻

。

34

.

接觸電阻contactresistance

電流通過觸點時在接觸處產(chǎn)生的總電阻包括收縮電阻與膜電阻總電阻數(shù)值為兩種電阻之和

,,。

35

.