2022年半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)研究報(bào)告_第1頁
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2022年半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)研究報(bào)告摘要半導(dǎo)體工業(yè)沿摩爾定律向前發(fā)展，光刻技術(shù)是基石。摩爾定律的延續(xù)離不開光刻技術(shù)的進(jìn)步，目前全球最為頂尖且實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的光刻工藝為臺積電的5nm制程工藝（2020年），3nm制程工藝預(yù)計(jì)將于2022年正式投產(chǎn)。而大陸方面，最為領(lǐng)先的晶圓代工企業(yè)中芯國際已于2021年實(shí)現(xiàn)7nm制程工藝的突破，但仍與世界頂尖水平存在著約2代技術(shù)的差距，對應(yīng)的技術(shù)研發(fā)周期約為3-4年。半導(dǎo)體光刻膠為晶圓制造核心材料，大陸產(chǎn)品仍存較大技術(shù)差距。在所有的晶圓制造材料中，半導(dǎo)體光刻膠憑借其復(fù)雜且精準(zhǔn)的成分組成要求而具有最高的價(jià)值含量。半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品由低端到高端可分為g線、i線、KrF、ArF和EUV光刻膠，最高端的EUV光刻膠基本被日本和美國企業(yè)所壟斷。大陸方面目前僅實(shí)現(xiàn)了KrF光刻膠的量產(chǎn)，ArF光刻膠產(chǎn)品仍處于下游客戶驗(yàn)證階段并未形成實(shí)際

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