材料現(xiàn)代分析方法練習(xí)題及答案

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s1透射子微像中層、相界疇、晶、界衍像何異？什辦及據(jù)么征能它區(qū)開(kāi)？

什是射子微中的厚度衍襯和位度形衍襯像相位度時(shí)物在焦面何同為么

XRD分什是相析物定性析基依與驟何物值值值dd-為么以用x-射線射定塊寸晶畸？簡(jiǎn)述定方和要驟

為D什是譜合構(gòu)修？方修解材中些構(gòu)題i

何標(biāo)投圖極、反圖如分一極？，織織一如表？同表形之關(guān)如？極

請(qǐng)你出種上晶x-射線射術(shù)晶材研中應(yīng)，并要出用理步答（）質(zhì)構(gòu)測(cè)（）構(gòu)性關(guān)的定（）料備加和性件選及品量控

四物在用存的程結(jié)變的測(cè)SEM分掃電中般哪對(duì)樣進(jìn)表形觀、構(gòu)微成分？么息像分率高為么答X分合斷形時(shí)一般用描鏡哪信成？什？發(fā)斷上有雜，何位析成？答深

利特線進(jìn)元分的性定依是么采能法（）波法（WDS）展各何點(diǎn)射射X射射射SEM+EBSD技是何實(shí)多樣中粒向量？向中取差、界及粒小態(tài)如界的試較x-射線射量和EBSD技術(shù)材織測(cè)研中自利。

因影嚴(yán)即譜并這表分部：.簡(jiǎn)述列號(hào)意。（1的K吸限）Mg3P1/2和Mg3P3/2光電子（3）Na的LM1M2俄電子（4的K

射）M4能級(jí)Ni層層層的層層的XK層為l為AES和XPS主用是么？?；煞趾蛒-射能(成分析比，其有不？

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