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IntroductiontoMicroelectronicsThirdEdition《微電子概論》(第3版)郝躍賈新章史江一1.什么是設(shè)計規(guī)則4.1集成電路版圖設(shè)計規(guī)則2.相對尺寸設(shè)計規(guī)則3.絕對尺寸設(shè)計規(guī)則目錄4.等比例縮?。╯hrink)技術(shù)2.相對尺寸設(shè)計規(guī)則又稱λ設(shè)計規(guī)則,或者比例設(shè)計規(guī)則該設(shè)計規(guī)則對集成電路版圖圖形的約束方式是以λ為基準(zhǔn),所有尺寸取λ的整數(shù)倍。
λ通常取工藝特征尺寸的1/2。2.相對尺寸設(shè)計規(guī)則
優(yōu)點:便于進(jìn)行版圖縮放。只需通過重新定義λ代表的尺寸大小,即可獲取不同尺寸的版圖,便于在臨近工藝節(jié)點之間進(jìn)行版圖移植,節(jié)省人力。主要用于集成電路早期,版圖設(shè)計工程師人力匱乏階段。令:λ=1μm工藝進(jìn)步,令λ=0.5μm2λ8λ2λ8λ2λ(2μm)(2μm)(2μm)(8μm)(8μm)2λ8λ2λ8λ2λ(1μm)(1μm)(1μm)(4μm)(4μm)2λ8λ2λ8λ2λ(1μm)(1μm)(1μm)(4μm)(4μm)2.相對尺寸設(shè)計規(guī)則
缺點:
所有圖形尺寸及間距必須是λ的整數(shù)倍,影響版圖圖形設(shè)計靈活性。為了滿足λ整數(shù)倍要求,需要適當(dāng)放大圖形尺寸,無法充分挖掘工藝制造的能力,導(dǎo)致電路性能、面積損失。工藝進(jìn)步過程中,可加工的集成電路版圖圖形尺寸難于保證所有數(shù)據(jù)的變化保持嚴(yán)格一致,相對尺寸設(shè)計規(guī)則對λ的整數(shù)倍要求導(dǎo)致設(shè)計規(guī)則偏保守。2.相對尺寸設(shè)計規(guī)則
版圖繪制時由于對λ的強(qiáng)依賴,圖形尺寸取λ整數(shù)倍,需要對圖形適當(dāng)放大,從而影響集成電路的性能與面積。1.5μm6μm2.25μm9μm1.5μmλ=0.9μmλ=0.75μm7.2μm1.8μm7.2μm1.8μm1.8μm1.5μm6μm1.8μm7.2μm1.5μm2.相對尺寸設(shè)計規(guī)則
2λ8λ2λ8λ2λ已有版圖λ=1μm工藝進(jìn)步后能夠加工尺寸1.5μm6μm1.8μm7.2μm1.5μmλ=0.75μm?λ=0.9μm符合規(guī)則的版圖工藝移植時,只能取減少最小的圖形縮小比例,導(dǎo)致無法充分利用能夠?qū)崿F(xiàn)的較大縮小圖形帶來的收益,從而影響集成電路的性能與面積。
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