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2025年硬件工程師面試題目及答案Q1:在5nm工藝下設(shè)計(jì)高速數(shù)字芯片時(shí),如何解決時(shí)鐘樹的同步問題?請(qǐng)結(jié)合建立時(shí)間(SetupTime)和保持時(shí)間(HoldTime)的計(jì)算公式,說明具體優(yōu)化方法。A1:5nm工藝下,時(shí)鐘樹同步需重點(diǎn)關(guān)注時(shí)鐘偏移(ClockSkew)、抖動(dòng)(Jitter)及工藝偏差(ProcessVariation)。建立時(shí)間公式為:Tcko(時(shí)鐘到輸出延遲)+Tdata(數(shù)據(jù)路徑延遲)≤Tcycle(時(shí)鐘周期)-Tsetup(建立時(shí)間要求)+Tskew(時(shí)鐘偏移);保持時(shí)間公式為:Tcko+Tdata≥Thold(保持時(shí)間要求)-Tskew。優(yōu)化方法包括:(1)采用H樹或平衡樹結(jié)構(gòu)降低時(shí)鐘偏移,配合緩沖器(Buffer)插入減少傳輸延遲;(2)對(duì)關(guān)鍵路徑使用門控時(shí)鐘(GatedClock)或多電壓域(Multi-VoltageDomain),通過動(dòng)態(tài)電壓調(diào)整(DVS)補(bǔ)償工藝偏差;(3)在保持時(shí)間違反時(shí),插入延遲單元(DelayCell)或調(diào)整數(shù)據(jù)路徑邏輯級(jí)數(shù);建立時(shí)間違反時(shí),可通過邏輯復(fù)制(LogicReplication)縮短數(shù)據(jù)路徑,或使用更高速的單元庫;(4)引入時(shí)鐘抖動(dòng)分析工具(如PrimeTime),在PVT(工藝、電壓、溫度)Corner下驗(yàn)證時(shí)序收斂,確保最壞情況下的時(shí)序余量(TimingSlack)≥20%。Q2:設(shè)計(jì)一款支持10GbpsSerDes的PCB時(shí),需重點(diǎn)關(guān)注哪些信號(hào)完整性(SI)問題?請(qǐng)說明差分對(duì)布線、阻抗控制及過孔設(shè)計(jì)的具體要求。A2:10GbpsSerDes屬于高速串行信號(hào),SI問題主要包括損耗(InsertionLoss)、串?dāng)_(Crosstalk)、反射(Reflection)及眼圖(EyeDiagram)閉合。具體設(shè)計(jì)要求:(1)差分對(duì)布線:需嚴(yán)格等長(zhǎng)(誤差≤5mil),避免90°直角(改用45°或圓?。噜彶罘謱?duì)間距≥3倍線寬(減少串?dāng)_);表層布線時(shí)需添加地屏蔽(GroundShield),避免暴露在參考平面不連續(xù)區(qū)域;(2)阻抗控制:差分阻抗100Ω±10%,單端阻抗50Ω±10%。需通過FieldSolver(如HyperLynx)仿真線寬、線距、介質(zhì)厚度(Er=3.6~4.0),確保阻抗匹配;(3)過孔設(shè)計(jì):采用背鉆(BackDrill)去除Stub(殘樁長(zhǎng)度≤5mil),減少過孔寄生電容(≤0.1pF);過孔焊盤直徑≤20mil,反焊盤(Anti-Pad)≥焊盤直徑+10mil(避免地平面切割導(dǎo)致的阻抗突變);(4)參考平面:差分對(duì)需緊鄰?fù)暾牡仄矫婊螂娫雌矫妫ㄩg距≤10mil),避免跨分割(SplitPlane),若需換層,需在附近添加地過孔(間距≤1/10波長(zhǎng))以提供低阻抗回路。Q3:設(shè)計(jì)一款車規(guī)級(jí)BMS(電池管理系統(tǒng))的模擬前端(AFE)電路,需滿足AEC-Q100Grade2標(biāo)準(zhǔn)(-40℃~125℃),請(qǐng)說明關(guān)鍵指標(biāo)(如采樣精度、共模抑制比、溫漂)的設(shè)計(jì)要點(diǎn)及驗(yàn)證方法。A3:車規(guī)級(jí)BMSAFE需兼顧精度、可靠性與溫度適應(yīng)性,關(guān)鍵指標(biāo)設(shè)計(jì)要點(diǎn)如下:(1)采樣精度:要求電壓采樣誤差≤0.1%(14位以上ADC),需選擇低噪聲運(yùn)放(如ADIAD8628,噪聲密度2.8nV/√Hz),配合RC濾波(截止頻率100Hz)抑制電池紋波;校準(zhǔn)電路需支持自校準(zhǔn)(On-ChipCalibration)和外部校準(zhǔn)(通過MCU定期補(bǔ)償);(2)共模抑制比(CMRR):電池串總壓可達(dá)400V(80節(jié)×5V),需設(shè)計(jì)高CMRR差分放大器(CMRR≥100dB),采用對(duì)稱布局(對(duì)稱電阻、對(duì)稱運(yùn)放)減少失配,地平面單點(diǎn)接地避免地彈(GroundBounce);(3)溫漂(TemperatureDrift):選擇溫漂≤10ppm/℃的精密電阻(如Vishay薄膜電阻),運(yùn)放需支持-40℃~125℃工作(如TIPGA281,溫漂0.5μV/℃);在PCB布局時(shí),將AFE遠(yuǎn)離電源芯片(溫差≤10℃),并添加thermalvia加速散熱;驗(yàn)證方法:通過溫箱(ThermalChamber)進(jìn)行三溫測(cè)試(-40℃、25℃、125℃),每10℃記錄一次采樣誤差;使用高壓源(0~500V)測(cè)試CMRR(注入100Hz共模干擾,測(cè)量差分輸出);通過HALT(高加速壽命測(cè)試)驗(yàn)證1000小時(shí)高溫存儲(chǔ)(150℃)后的參數(shù)漂移(≤0.2%)。Q4:在FPGA開發(fā)中,設(shè)計(jì)一個(gè)支持64位數(shù)據(jù)位寬、讀寫時(shí)鐘分別為200MHz和250MHz的異步FIFO,需計(jì)算最小深度并說明空滿標(biāo)志的設(shè)計(jì)方法,如何避免亞穩(wěn)態(tài)(Metastability)?A4:異步FIFO最小深度計(jì)算需考慮讀寫速率差異及突發(fā)傳輸量。假設(shè)寫端突發(fā)寫入100個(gè)數(shù)據(jù),讀端每周期讀1個(gè)數(shù)據(jù),則:寫周期T_w=1/200MHz=5ns,讀周期T_r=1/250MHz=4ns;突發(fā)時(shí)間T_burst=100×5ns=500ns;讀端在T_burst內(nèi)能讀取的數(shù)據(jù)量=500ns/4ns=125個(gè);因?qū)懚送话l(fā)100個(gè),讀端能讀125個(gè),實(shí)際不會(huì)溢出,故最小深度需覆蓋最大可能的累積差。更通用公式:深度≥(寫速率-讀速率)×最大突發(fā)時(shí)間+1。若寫速率=200MHz×64bit=12.8Gbps,讀速率=250MHz×64bit=16Gbps,讀快于寫,F(xiàn)IFO深度主要由寫突發(fā)決定(如突發(fā)100個(gè),深度≥100)。若寫快于讀(如寫300MHz,讀200MHz),則深度=(300-200)×突發(fā)時(shí)間+1??諠M標(biāo)志設(shè)計(jì):采用格雷碼(GrayCode)跨時(shí)鐘域傳輸?shù)刂罚瑢懼羔槪℅ray碼)經(jīng)兩級(jí)D觸發(fā)器同步到讀時(shí)鐘域,比較同步后的寫指針與讀指針判斷空;同理,讀指針同步到寫時(shí)鐘域判斷滿。需注意:(1)格雷碼僅1位變化,降低亞穩(wěn)態(tài)概率;(2)同步器(Synchronizer)的第二級(jí)觸發(fā)器需使用高閾值電壓(HVT)單元,減少亞穩(wěn)態(tài)傳播;(3)滿標(biāo)志需預(yù)留1個(gè)空位(避免寫滿后繼續(xù)寫),空標(biāo)志需預(yù)留1個(gè)空位(避免讀空后繼續(xù)讀)。避免亞穩(wěn)態(tài):除格雷碼外,同步器需使用三級(jí)觸發(fā)器(第一級(jí)捕獲亞穩(wěn)態(tài),第二、三級(jí)穩(wěn)定輸出),關(guān)鍵路徑(如空滿標(biāo)志)需添加斷言(Assertion)在仿真中驗(yàn)證;實(shí)際測(cè)試時(shí),通過偽隨機(jī)碼(PRBS)激勵(lì),監(jiān)測(cè)10^9個(gè)周期內(nèi)是否出現(xiàn)亞穩(wěn)態(tài)導(dǎo)致的錯(cuò)誤。Q5:設(shè)計(jì)一款5V轉(zhuǎn)3.3V的DC-DC變換器,輸入電流最大2A,要求紋波≤50mV,效率≥90%,請(qǐng)選擇拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)、關(guān)鍵器件(電感、電容)并說明環(huán)路補(bǔ)償設(shè)計(jì)方法。A5:5V轉(zhuǎn)3.3V屬降壓場(chǎng)景,選擇Buck拓?fù)洌ㄐ矢?、電路?jiǎn)單)。輸入電壓5V,輸出3.3V,占空比D=Vout/Vin=0.66,開關(guān)頻率f=300kHz~1MHz(折中效率與體積,選500kHz)。關(guān)鍵器件選型:(1)電感L:L=(Vin-Vout)×D/(ΔI×f),ΔI取輸出電流的30%(0.6A),則L=(5-3.3)×0.66/(0.6×500k)=(1.7×0.66)/(300)=3.74μH(選4.7μH,飽和電流≥2A+ΔI/2=2.3A);(2)輸入電容Cin:濾除輸入紋波,C≥Iin×Δt/ΔVin,Δt=1/f=2μs,ΔVin≤0.1V(輸入紋波),則C≥2×2μs/0.1V=40μF(選100μF陶瓷電容,ESR≤100mΩ);(3)輸出電容Cout:降低輸出紋波,C≥ΔI/(8×f×ΔVout)(Buck輸出紋波主要由ESR決定),ΔVout=50mV,ESR≤ΔVout/ΔI=50mV/0.6A≈83mΩ,選2×100μF陶瓷電容(ESR=20mΩ×2并聯(lián)=10mΩ,紋波=0.6A×10mΩ=6mV,滿足要求);(4)MOS管:上管(高邊)選耐壓10V、導(dǎo)通電阻Rds≤20mΩ(5V驅(qū)動(dòng)),下管選耐壓10V、Rds≤10mΩ(低邊接地),降低導(dǎo)通損耗。環(huán)路補(bǔ)償設(shè)計(jì):Buck的開環(huán)傳遞函數(shù)包含雙極點(diǎn)(電感-電容諧振),需添加零點(diǎn)抵消其中一個(gè)極點(diǎn),提升相位裕度(≥45°)。采用TypeII補(bǔ)償(運(yùn)放+RC網(wǎng)絡(luò)),零點(diǎn)頻率f_z=1/(2πRc×Cc),設(shè)置在電感-電容諧振頻率(f_res=1/(2π√(L×Cout))=1/(2π√(4.7μH×200μF))≈16kHz),極點(diǎn)頻率f_p=1/(2πR1×C1),設(shè)置在開關(guān)頻率的1/10(50kHz),避免高頻噪聲影響。實(shí)際調(diào)試時(shí),用網(wǎng)絡(luò)分析儀(如KeysightE5061B)測(cè)量環(huán)路增益,調(diào)整Rc、Cc使0dB交越頻率在f_res與f/2(250kHz)之間,確保穩(wěn)定性。Q6:在硬件調(diào)試中,發(fā)現(xiàn)某MCU的I2C接口無法通信,用邏輯分析儀抓取波形后,SCL和SDA均為高電平,無任何跳變。請(qǐng)列出可能的故障點(diǎn)及排查步驟。A6:I2C總線無信號(hào)跳變的可能故障點(diǎn)及排查步驟如下:(1)電源問題:檢查MCU和從機(jī)的VCC是否正常(如3.3V是否≤±5%),地(GND)是否共地(用萬用表測(cè)電壓差≤50mV);(2)上拉電阻:I2C需外部上拉電阻(通常4.7kΩ~10kΩ),檢查上拉電阻是否焊接(用萬用表測(cè)SCL/SDA到VCC的電阻是否為標(biāo)稱值),是否存在短路(如SCL與GND短路導(dǎo)致始終低電平,但題目中為高電平,故排除);(3)MCU配置:檢查GPIO是否配置為開漏(OpenDrain)模式,是否啟用內(nèi)部上拉(若外部無上拉,內(nèi)部上拉需足夠強(qiáng));用示波器測(cè)MCU的SCL/SDA引腳輸出(斷開外部電路),確認(rèn)是否有信號(hào)輸出(如無,可能是軟件配置錯(cuò)誤或MCU損壞);(4)從機(jī)故障:斷開所有從機(jī),僅保留MCU和上拉電阻,測(cè)試SCL/SDA是否可拉低(MCU發(fā)送信號(hào)時(shí),SCL/SDA應(yīng)從高電平跳變到低電平);若仍無變化,可能是MCU的I2C模塊損壞(更換MCU測(cè)試);若斷開從機(jī)后正常,逐個(gè)接入從機(jī),排查是否有從機(jī)引腳短路(如SCL/SDA被從機(jī)強(qiáng)制拉高或拉低);(5)線路問題:檢查PCB走線是否斷路(用萬用表測(cè)SCL/SDA線路通斷),是否存在與其他信號(hào)的串?dāng)_(如附近有高速時(shí)鐘線,導(dǎo)致SCL/SDA被耦合干擾,但此情況通常表現(xiàn)為信號(hào)畸變而非無跳變);(6)時(shí)序問題:檢查I2C速率是否與從機(jī)匹配(如從機(jī)僅支持標(biāo)準(zhǔn)模式100kHz,而MCU配置為快速模式400kHz),用邏輯分析儀測(cè)量SCL的頻率是否符合協(xié)議要求(誤差≤±10%)。Q7:在AIoT設(shè)備設(shè)計(jì)中,如何平衡低功耗(目標(biāo)待機(jī)電流≤10μA)與邊緣計(jì)算能力(需支持輕量級(jí)CNN推理)?請(qǐng)說明硬件架構(gòu)選擇、電源管理策略及軟件優(yōu)化方法。A7:AIoT設(shè)備需在低功耗與算力間權(quán)衡,具體策略如下:硬件架構(gòu):(1)主芯片選擇:采用RISC-V或ARMCortex-M系列低功耗MCU(如STM32L5,待機(jī)電流1.2μA)+專用NPU(如華為昇騰Nano,TOPS/W≥10),NPU僅在推理時(shí)喚醒,平時(shí)處于休眠;(2)傳感器:選擇支持低功耗模式的MEMS傳感器(如BoschBMA456,中斷模式電流0.6μA),僅在檢測(cè)到運(yùn)動(dòng)時(shí)喚醒MCU;(3)無線模塊:采用BLE5.3或Zigbee3.0(待機(jī)電流≤2μA),數(shù)據(jù)批量傳輸(而非實(shí)時(shí))以減少喚醒次數(shù)。電源管理:(1)多電源域:將MCU、NPU、傳感器、無線模塊分為獨(dú)立域,通過PMIC(如TITPS65132)控制各域供電,空閑模塊斷電;(2)動(dòng)態(tài)電壓頻率調(diào)整(DVFS):MCU在空閑時(shí)降至1MHz(電壓1.2V),推理時(shí)升至100MHz(電壓1.5V);NPU僅在需要時(shí)啟用(電壓1.8V);(3)能量收集:添加太陽能電池(50mW)或熱電發(fā)生器(TEG),配合超級(jí)電容(1F)存儲(chǔ)能量,減少電池更換頻率。軟件優(yōu)化:(1)任務(wù)調(diào)度:采用事件驅(qū)動(dòng)(Event-Driven)架構(gòu),僅當(dāng)傳感器觸發(fā)中斷時(shí)喚醒系統(tǒng),完成推理后立即進(jìn)入深度睡眠(Stop模式);(2)模型壓縮:對(duì)CNN模型進(jìn)行量化(8位→4位)、剪枝(去除冗余神經(jīng)元)、知識(shí)蒸餾(用小模型模擬大模型),降低計(jì)算量(如MobileNetV3剪枝后參數(shù)減少60%,精度損失≤2%);(3)數(shù)據(jù)本地化:僅傳輸推理結(jié)果(如分類標(biāo)簽)而非原始數(shù)據(jù)(如圖像),減少無線傳輸時(shí)間(從100ms降至10ms)。實(shí)測(cè)驗(yàn)證:通過功耗分析儀(如KeysightN6705B)監(jiān)測(cè)各模式電流(待機(jī)10μA、活動(dòng)10mA、傳輸50mA),確保平均功耗≤50μW(假設(shè)每天喚醒100次,每次100ms);用TensorFlowLiteMicro測(cè)試推理延遲(≤100ms),驗(yàn)證實(shí)時(shí)性。Q8:設(shè)計(jì)一款工業(yè)級(jí)PLC(可編程邏輯控制器)的數(shù)字量輸入模塊(DI),需支持24V輸入、隔離電壓2500VAC、抗干擾(ESD±15kV接觸放電),請(qǐng)說明電路設(shè)計(jì)、隔離器件選擇及防護(hù)措施。A8:工業(yè)DI模塊需滿足高可靠性與抗干擾,設(shè)計(jì)要點(diǎn)如下:電路設(shè)計(jì):(1)輸入保護(hù):24V輸入經(jīng)TVS管(如LittelfuseSMAJ33A,鉗位電壓41.6V)抑制浪涌,串聯(lián)電阻(1kΩ)限制短路電流(≤24mA);(2)電平轉(zhuǎn)換:24V通過光耦(如VishayPC817)隔離,光耦輸出經(jīng)RC濾波(10kΩ+100nF,截止頻率160Hz)后接施密特觸發(fā)器(如74HC14)整形,輸出3.3V邏輯電平給MCU;(3)隔離設(shè)計(jì):光耦原副邊間距≥8mm(滿足2500VAC隔離),PCB布局時(shí)隔離帶(CreepageDistance)≥6mm(根據(jù)IEC61131-2標(biāo)準(zhǔn)),添加阻焊層(SolderMask)防止爬電。隔離器件選擇:(1)光耦:選高速光耦(如AvagoACPL-372J,響應(yīng)時(shí)間≤1μs),隔離電壓≥3750VAC(留20%余量),CTR(電流傳輸比)≥100%(確保24V輸入時(shí)(24V-1.2V)/1kΩ=22.8mA,光耦原邊電流≥5mA即可觸發(fā));(2)磁隔離:若需更高速度(如100kHz),可選數(shù)字隔離器(如SiliconLabsSi8641,隔離電壓2500VAC,傳輸延遲≤25ns),但成本高于光耦。防護(hù)措施:(1)ESD防護(hù):在輸入接口添加雙向ESD二極管(如NexperiaPESD5V0S1BA,電容0.5pF),接觸放電±15kV時(shí)鉗位電壓≤10V;(2)共模干擾:輸入側(cè)添加共模電感(如TDKZCAT1812,阻抗100Ω@100MHz),配合Y電容(1nF,耐壓2500VAC)濾除共模噪聲;(3)浪涌測(cè)試:按IEC61000-4-5標(biāo)準(zhǔn),注入1.2/50μs電壓浪涌(2kV),TVS管需承受峰值電流50A(2kV/40Ω源阻抗),驗(yàn)證后DI模塊無損壞或誤動(dòng)作。Q9:在硬件設(shè)計(jì)中,如何進(jìn)行DFM(可制造性設(shè)計(jì))檢查?請(qǐng)列出至少10項(xiàng)關(guān)鍵檢查點(diǎn),并說明其對(duì)生產(chǎn)良率的影響。A9:DFM檢查需覆蓋PCB設(shè)計(jì)、器件選型、工藝匹配等,關(guān)鍵檢查點(diǎn)及影響如下:(1)焊盤尺寸:SMD焊盤長(zhǎng)度需≥元件引腳長(zhǎng)度+0.2mm(如0402元件焊盤長(zhǎng)0.8mm,元件引腳長(zhǎng)0.5mm),過短會(huì)導(dǎo)致焊接不牢,過長(zhǎng)會(huì)增加橋接風(fēng)險(xiǎn)(良率降低5%~10%);(2)絲印清晰度:絲印字符距焊盤≥0.3mm(避免阻焊覆蓋),字體高度≥0.8mm(機(jī)器視覺識(shí)別),模糊絲印會(huì)導(dǎo)致貼片機(jī)識(shí)別錯(cuò)誤(貼裝不良率上升3%);(3)過孔與焊盤間距:過孔邊緣距SMD焊盤≥0.3mm(避免過孔吃錫導(dǎo)致虛焊),BGA焊盤內(nèi)過孔需蓋油(Mask)或塞孔(Plug),否則錫膏會(huì)流入過孔(焊接空洞率增加15%);(4)拼板設(shè)計(jì):拼板間距≥5mm(便于V-Cut分割),工藝邊(ToolingEdge)寬度≥5mm(貼片機(jī)夾持),無工藝邊會(huì)導(dǎo)致無法上板(產(chǎn)線停機(jī)風(fēng)險(xiǎn));(5)元件布局方向:同一類型元件(如電阻)方向統(tǒng)一(水平或垂直),混裝會(huì)導(dǎo)致貼片機(jī)換吸嘴時(shí)間增加(效率降低20%);(6)BGA焊盤大?。築GA焊盤直徑=球徑×0.8(如0.4mm球徑對(duì)應(yīng)0.32mm焊盤),過大焊盤會(huì)導(dǎo)致錫球塌陷(短路率上升),過小會(huì)導(dǎo)致虛焊(開路率上升);(7)阻焊開窗:阻焊層比焊盤大0.05mm(單邊),避免焊盤被阻焊覆蓋(漏焊率增加);BGA焊盤阻焊橋(SolderMaskDam)寬度≥0.1mm(防止橋接);(8)最小線寬/線距:4層板線寬≥6mil(152μm),線距≥6mil(避免蝕刻不凈導(dǎo)致短路),超細(xì)線(≤4mil)需使用HDI工藝(成本增加30%);(9)元件高度:貼片機(jī)最大吸嘴高度≤25mm,過高元件(如散熱器)需放置在拼板邊緣(避免與其他元件碰撞);(10)測(cè)試點(diǎn)(TestPoint):每網(wǎng)絡(luò)至少1個(gè)測(cè)試點(diǎn),直徑≥0.8mm,間距≥1.27mm(探針接觸),無測(cè)試點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致ICT測(cè)試覆蓋率下降(故障檢測(cè)率降低40%)。Q10:請(qǐng)解釋Chiplet(小芯片)設(shè)計(jì)的核心優(yōu)勢(shì)及面臨的挑戰(zhàn),在硬件設(shè)計(jì)中需重點(diǎn)解決哪些技術(shù)問題?A10:Chiplet設(shè)計(jì)通

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