(12)發(fā)明專利(65)同一申請的已公布的文獻(xiàn)號(hào)(73)專利權(quán)人惠科股份有限公司G09G3/3241(2016.01)G09G3/3266(2016.01)地址518000廣東省深圳市寶安區(qū)石巖街道石龍社區(qū)工業(yè)二路1號(hào)惠科工業(yè)園層審查員寧忠蘭(72)發(fā)明人唐楊玲謝志生梁琴葉利丹(74)專利代理機(jī)構(gòu)深圳市百瑞專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)44240專利代理師萬瑞杰顯示面板和顯示裝置本申請公開了一種顯示面板和顯示裝置，所述顯示面板還包括襯底基板、驅(qū)動(dòng)電路層、顯示層，所述驅(qū)動(dòng)電路層設(shè)置在所述襯底基板上；所述平坦層設(shè)置在所述封裝膜層上，以及所述觸控走線層設(shè)置在所述平坦層上；其中，所述平坦層在所述封裝阻擋壩所在區(qū)域設(shè)置有過孔，所述觸控走線層沿所述過孔向所述顯示面板的邊緣延伸。本申請通過在平坦層上設(shè)置過孔，在平坦層上的觸控走線層從封裝阻擋層位置處向下延伸，避免了在平坦層的斷面形成觸控走線存在制程原因?qū)е掠|控走線斷線、短路的問題，使得觸控2襯底基板；驅(qū)動(dòng)電路層，設(shè)置在所述襯底基板上；封裝膜層，設(shè)置在所述顯示膜層上，且由所述顯示區(qū)向所述非顯示區(qū)延伸；封裝阻擋壩，設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)電路層與所述封裝膜層之間，且位于所述非顯示區(qū)；其中，所述平坦層在所述封裝阻擋壩所在區(qū)域設(shè)置有過孔，所述觸控走線層沿所述過孔向所述顯示面板的邊緣延伸。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述封裝阻擋壩包括第一阻擋壩和第二阻擋壩，所述第一阻擋壩環(huán)繞所述顯示區(qū)設(shè)置，所述第二阻擋壩環(huán)繞所述第一阻擋壩設(shè)所述第二阻擋壩包括多個(gè)間隔設(shè)置的第二阻擋部，所述第二阻擋部之間相互絕緣；所述襯底基板的正投影下，多個(gè)所述過孔分別與多個(gè)所述第二阻擋部重疊；所述驅(qū)動(dòng)電路層設(shè)置有多條連接線，所述觸控走線層通過所述第二阻擋部與所述連接線電性連接。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述第一阻擋壩包括第一導(dǎo)電部和第一隔斷部，所述第一隔斷部設(shè)置在所述第一導(dǎo)電部上，且所述第一隔斷部的徑向?qū)挾却笥谒龅谝粚?dǎo)電部的徑向?qū)挾?，所述第二阻擋部包括第二?dǎo)電部和第二隔斷部，所述第二隔斷部設(shè)置在所述第二導(dǎo)電部上，且所述第二隔斷部的徑向?qū)挾却笥谒龅诙?dǎo)電部的徑向?qū)挾?；所述觸控走線層通過所述第二導(dǎo)電部與所述連接線電性連接。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述第二隔斷部也采用導(dǎo)電材料形成，所述觸控走線層通過所述第二隔斷部、所述第二導(dǎo)電部與所述連接線電性連接。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)電路層還包括絕緣層，所述絕緣層覆蓋所述連接線設(shè)置；所述絕緣層上設(shè)置有第一通孔，所述第二導(dǎo)電部穿過所述第一通孔連接至所述連接在所述襯底基板的正投影下，所述第一通孔與所述過孔重疊。6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示膜層包括像素定義層，所述像素定義層設(shè)置在非顯示區(qū)，所述像素定義層在所述非顯示區(qū)還設(shè)置有第一像素定義層延伸部和第二像素定義層延伸部，所述第一像素定義層延伸部設(shè)置在第一阻擋壩下，所述第二像素定義層延伸部設(shè)置在所述第二阻擋壩下。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)電路層還包括絕緣層，所述絕緣層覆蓋所述連接線設(shè)置；所述第二阻擋部還設(shè)置有第二阻擋部延伸部，在所述襯底基板的正投影下，所述第二阻擋部延伸部與所述第二像素定義層延伸部不重疊；所述絕緣層上設(shè)置有第二通孔，所述第二通孔設(shè)置在所述第二阻擋部延伸部下，所述3第二導(dǎo)電部穿過所述第二通孔連接至所述連接線；在所述襯底基板的正投影下，所述第二通孔與所述過孔不重疊。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述封裝膜層包括第一無機(jī)層、有機(jī)封裝層和第二無機(jī)層，所述有機(jī)封裝層設(shè)置在所述第一無機(jī)層與所述第二無機(jī)層之間，所述第二無機(jī)層設(shè)置在所述第一無機(jī)層上；所述有機(jī)封裝層由所述顯示區(qū)向所述非顯示區(qū)延伸，并由所述第一阻擋壩阻擋；所述第一無機(jī)層、所述第二無機(jī)層由所述顯示區(qū)向所述非顯示區(qū)延伸，并覆蓋所述第所述第一無機(jī)層、所述第二無機(jī)層對應(yīng)所述過孔設(shè)置有通孔，所述觸控走線層從所述通孔連接所述第二阻擋部。9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示膜層還包括導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)和像素定義層，所述像素定義層設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)電路層上，所述導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述像素定義層上，所述導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)與所述第一阻擋壩、所述第二阻擋壩同一制程形成。10.一種顯示裝置，其特征在于，包括驅(qū)動(dòng)電路和權(quán)利要求1-9任意一項(xiàng)所述的顯示面4技術(shù)領(lǐng)域[0001]本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板和顯示裝置。背景技術(shù)[0002]OLED(OrganicLightEmittingDiode,有機(jī)發(fā)光二極管)顯示器件由于具有輕領(lǐng)域。由于量產(chǎn)技術(shù)日益成熟，OLED顯示面板逐漸成為主流現(xiàn)[0003]對于觸控顯示面板而言，一般包括嵌入式觸控方式和外掛式觸控方式，嵌入式觸控面板中需要將觸控走線層設(shè)置在顯示面板的膜層中；當(dāng)觸控走線層設(shè)置在OLED顯示面板的平坦層上時(shí)，會(huì)由于平坦層至綁定區(qū)或端子側(cè)的膜層斷面高度差較大，導(dǎo)致觸控走線層出現(xiàn)線路斷開或短路的問題，影響顯示面板的顯示。發(fā)明內(nèi)容[0004]本申請的目的是提供一種顯示面板和顯示裝置，通過在平坦層上設(shè)置過孔，在平坦層上的觸控走線層從封裝阻擋層位置處向下延伸，避免了在平坦層的斷面形成觸控走線存在制程原因?qū)е掠|控走線斷線、短路的問題，使得觸控走線具有良好性能，使得顯示面板[0005]本申請公開了一種顯示面板，包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，所述顯示面板還包括襯底層設(shè)置在所述襯底基板上；所述顯示膜層設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)電路層上；所述封裝膜層設(shè)置在所述顯示膜層上，且由所述顯示區(qū)向所述非顯示區(qū)延伸；所述封裝阻擋壩設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)電路層與所述封裝膜層之間，且位于所述非顯示區(qū)；所述平坦層設(shè)置在所述封裝膜層上，以及所述觸控走線層設(shè)置在所述平坦層上；其中，所述平坦層在所述封裝阻擋壩所在區(qū)域設(shè)置有過孔，所述觸控走線層沿所述過孔向所述顯示面板的邊緣延伸。[0006]可選的，所述封裝阻擋壩包括第一阻擋壩和第二阻擋壩，所述第一阻擋壩環(huán)繞所述顯示區(qū)設(shè)置，所述第二阻擋壩環(huán)繞所述第一阻擋壩設(shè)置；所述第二阻擋壩包括多個(gè)間隔設(shè)置的第二阻擋部，所述第二阻擋部之間相互絕緣；所述襯底基板的正投影下，多個(gè)所述過孔分別與多個(gè)所述第二阻擋部重疊；所述驅(qū)動(dòng)電路層設(shè)置有多條連接線，所述觸控走線層通過所述第二阻擋部與所述連接線電性連接。[0007]可選的，所述第一阻擋壩包括第一導(dǎo)電部和第一隔斷部，所述第一隔斷部設(shè)置在所述第一導(dǎo)電部上，且所述第一隔斷部的徑向?qū)挾却笥谒龅谝粚?dǎo)電部的徑向?qū)挾?，所述第二阻擋部包括第二?dǎo)電部和第二隔斷部，所述第二隔斷部設(shè)置在所述第二導(dǎo)電部上，且所述第二隔斷部的徑向?qū)挾却笥谒龅诙?dǎo)電部的徑向?qū)挾?；所述觸控走線層通過所述第二導(dǎo)電部與所述連接線電性連接。[0008]可選的，所述第二隔斷部也采用導(dǎo)電材料形成，所述觸控走線層通過所述第二隔斷部、所述第二導(dǎo)電部與所述連接線電性連接。5[0009]可選的，所述驅(qū)動(dòng)電路層還包括絕緣層，所述絕緣層覆蓋所述連接線設(shè)置；所述絕緣層上設(shè)置有第一通孔，所述第二導(dǎo)電部穿過所述第一通孔連接至所述連接線；在所述襯底基板的正投影下，所述第一通孔與所述過孔重疊。[0010]可選的，所述顯示膜層包括像素定義層，所述像素定義層設(shè)置在非顯示區(qū)，所述像素定義層在所述非顯示區(qū)還設(shè)置有第一像素定義層延伸部和第二像素定義層延伸部，所述第一像素定義層延伸部設(shè)置在第一阻擋壩下，所述第二像素定義層延伸部設(shè)置在所述第二阻擋壩下。[0011]可選的，所述驅(qū)動(dòng)電路層還包括絕緣層，所述絕緣層覆蓋所述連接線設(shè)置；所述第二阻擋部還設(shè)置有第二阻擋部延伸部，在所述襯底基板的正投影下，所述第二阻擋部延伸部與所述第二像素定義層延伸部不重疊；所述絕緣層上設(shè)置有第二通孔，所述第二通孔設(shè)置在所述第二阻擋部延伸部下，所述第二導(dǎo)電部穿過所述第二通孔連接至所述連接線；在所述襯底基板的正投影下，所述第二通孔與所述過孔不重疊。[0012]可選的，所述封裝膜層包括第一無機(jī)層、有機(jī)封裝層和第二無機(jī)層，所述有機(jī)封裝層設(shè)置在所述第一無機(jī)層與所述第二無機(jī)層之間，所述第二無機(jī)層設(shè)置在所述第一無機(jī)層上；所述有機(jī)封裝層由所述顯示區(qū)向所述非顯示區(qū)延伸，并由所述第一阻擋壩阻擋；所述第一無機(jī)層、所述第二無機(jī)層由所述顯示區(qū)向所述非顯示區(qū)延伸，并覆蓋所述第一阻擋壩、所述第二阻擋壩設(shè)置；所述第一無機(jī)層、所述第二無機(jī)層對應(yīng)所述過孔設(shè)置有通孔，所述觸控走線層從所述通孔連接所述第二阻擋部。[0013]可選的，所述顯示膜層還包括導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)和像素定義層，所述像素定義層設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)電路層上，所述導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述像素定義層上，所述導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)與所述第一阻擋壩、所述第二阻擋壩同一制程形成。[0014]本申請公開了一種顯示裝置，包括驅(qū)動(dòng)電路和上述的顯示面板，其中，所述驅(qū)動(dòng)電路用于驅(qū)動(dòng)所述顯示面板顯示。[0015]本申請通過在平坦層上設(shè)置過孔，利用封裝阻擋層具有一定的高度，使得平坦層與封裝阻擋層形成的斷面高度差較低，在平坦層上的觸控走線層從封裝阻擋層位置處向下延伸的過程中，特別是刻蝕制程時(shí)，存在的過曝或弱爆、光刻膠不均勻、觸控走線層材料刻蝕不完全等問題。本申請通過降低斷面高度差的方式，降低了過曝或弱爆的概率，改善了觸控走線層圖案化工藝中光刻膠不均勻的觸控走線層材料刻蝕不完全現(xiàn)象，使得觸控走線層中的觸控走線的線寬更為均勻，且避免了在平坦層的斷面形成觸控走線存在制程原因?qū)е掠|控走線斷線、短路的問題，使得觸控走線具有良好性能，使得顯示面板的顯示、觸控效果附圖說明[0016]所包括的附圖用來提供對本申請實(shí)施例的進(jìn)一步的理解，其構(gòu)成了說明書的一部分，用于例示本申請的實(shí)施方式，并與文字描述一起來闡釋本申請的原理。顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。在附圖中：[0017]圖1是本申請的示例性顯示面板的示意圖；[0018]圖2是本申請的第一實(shí)施例的顯示面板的示意圖；6[0019]圖3是本申請的顯示面板的俯視示意圖；[0020]圖4是本申請圖3的M放大示意圖；[0021]圖5是本申請圖4的AA切割線的截面示意圖；[0022]圖6是本申請圖4的BB切割線的截面示意圖；[0023]圖7是本申請第二實(shí)施例的又一種顯示面板的截面示意圖；[0024]圖8是本申請的顯示裝置的示意圖。阻擋壩；153、第二阻擋部；1531、第二導(dǎo)電部；1532、第二隔斷部；154、第二阻擋部延伸部；具體實(shí)施方式[0026]需要理解的是，這里所使用的術(shù)語、公開的具體結(jié)構(gòu)和功能細(xì)節(jié)，僅僅是為了描述具體實(shí)施例，是代表性的，但是本申請可以通過許多替換形式來具體實(shí)現(xiàn)，不應(yīng)被解釋成僅受限于這里所闡述的實(shí)施例。重要性，或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，除非另有說明，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個(gè)或者更多個(gè)該特征；“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)于附圖所示的方位或相對位置關(guān)系描述的，僅是為了便于描述本申請的簡化描述，而不是指示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本申請的限制。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本申請中的具體含義。[0028]下面參考附圖和可選的實(shí)施例對本申請作詳細(xì)說明。[0029]圖1是本申請的示例性顯示面板的示意圖，圖2是本申請的第一實(shí)施例的顯示面板的示意圖，參見圖1-2所示，本申請公開了一種顯示面板，顯示面板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，所述顯示面板還包括襯底基板110、驅(qū)動(dòng)電路層120、顯示膜層、封裝膜層140、封裝阻擋壩150、平坦層160和觸控走線層170,所述驅(qū)動(dòng)電路層120設(shè)置在所述襯底基板110上；所述顯示膜層設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)電路層120上；所述封裝膜層140設(shè)置在所述顯示膜層上，且由所述顯示區(qū)向所述非顯示區(qū)延伸；所述封裝阻擋壩150設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)電路層120與所述封裝膜層140之間，且位于所述非顯示區(qū)；所述平坦層160設(shè)置在所述封裝膜層140上，以及所述觸控走線層170設(shè)置在所述平坦層160上；其中，所述平坦層160在所述封裝阻擋壩150所在區(qū)域設(shè)置有過孔180,所述觸控走線層170沿所述過孔180向所述顯示面板的邊緣延伸。[0030]本申請通過在平坦層160上設(shè)置過孔180,利用封裝阻擋層具有一定的高度，使得平坦層160與封裝阻擋層形成的斷面高度差較低，在平坦層160上的觸控走線層170從封裝阻擋層位置處向下延伸的過程中，特別是刻蝕制程時(shí)，存在的過曝或弱爆、光刻膠不均勻、7觸控走線層170材料刻蝕不完全等問題。本申請通過降低斷面高度差的方式，降低了過曝或弱爆的概率，改善了觸控走線層170圖案化工藝中光刻膠不均勻的觸控走線層170材料刻蝕不完全現(xiàn)象，使得觸控走線層170中的觸控走線171的線寬更為均勻，且避免了在平坦層160的斷面形成觸控走線171存在制程原因?qū)е掠|控走線171斷線、短路的問題，使得觸控走線[0031]其中，參見圖1所示，平坦層160的上表面與封裝阻擋層的上表面之間的斷面高度差小于平坦層160的上表面與顯示面板綁定側(cè)的上表面的斷面高度差。具體的來說，顯示面板的襯底基板110與平坦層160之間包括驅(qū)動(dòng)電路層120、顯示膜層和封裝膜層140,當(dāng)平坦層160在顯示面板的邊緣位置處直接下降至綁定區(qū)，會(huì)存在較大的膜層段差，形成上述斷面，即平坦層160的側(cè)面。當(dāng)平坦層160上設(shè)置的觸控走線層170從平坦層160延伸至顯示面板綁定區(qū)時(shí)的膜層界面較為陡峭，即平坦層160與襯底基板110上的綁定區(qū)的斷面較為陡光刻膠不均勻，容易往低處堆積，造成越靠近上部的光刻膠越薄。在后續(xù)曝光時(shí)造成過曝或弱爆的現(xiàn)象，導(dǎo)致觸控走線層170越靠近上部被刻蝕越多，越靠近下部被刻蝕越少，導(dǎo)致觸控走線171存在上窄下寬的問題，更有甚者上部被完全刻蝕，容易出現(xiàn)短路或斷路的問題。[0032]本申請一方面是利用了封裝阻擋層的高度，在封裝阻擋層位置對平坦層160進(jìn)行刻蝕形成過孔180,該過孔180的斷面不會(huì)很陡峭，而且距離較短，出現(xiàn)上述問題的可能性大大降低，從而改善觸控走線層170出現(xiàn)短路和短路的現(xiàn)象。另一方面利用封裝阻擋層位置可以預(yù)設(shè)連接線121,在刻蝕過孔180的時(shí)候，該連接線121從過孔180處與觸控走線171進(jìn)行連接，實(shí)現(xiàn)對觸控走線層170的電性連接。[0033]在一實(shí)施例中，過孔180可以設(shè)置為一個(gè)大的通槽，也可以為多個(gè)獨(dú)立的通孔。當(dāng)過孔180為一個(gè)大的通槽時(shí)，觸控走線層170中的多條觸控走線171分別通過通槽后連接至對應(yīng)的連接線121上。當(dāng)過孔180為多個(gè)獨(dú)立的通孔時(shí)，則每一條觸控走線171通過一個(gè)通孔連接至一條連接線121上。相對來說，獨(dú)立的通孔方式使得每一條觸控走線171單獨(dú)設(shè)置，絕緣性更好，但是工藝難度更大。[0034]具體地，驅(qū)動(dòng)電路層120包括多層導(dǎo)電層和多層絕緣層的疊層設(shè)置，在驅(qū)動(dòng)電路層120形成有薄膜晶體管和驅(qū)動(dòng)線路，通過薄膜晶體管和驅(qū)動(dòng)線路形成驅(qū)動(dòng)發(fā)光單元顯示的像素驅(qū)動(dòng)電路。[0035]圖3是本申請的顯示面板的俯視示意圖，圖4是本申請圖3的M放大示意圖，圖5是本申請圖4的AA切割線的截面示意圖，圖6是本申請圖4的BB切割線的截面示意圖，參見圖3-6所示，對于一般的顯示面板100而言，該觸控走線層170設(shè)置的膜層位置還可以設(shè)置在平坦層160下方，即從封裝層上方平坦層160下方走線設(shè)置，從而可以避免平坦層160的斷面導(dǎo)致的觸控走線層170短路和斷路的問題。但是對于采用隔斷結(jié)構(gòu)在非顯示區(qū)102用以隔斷發(fā)光單元中的有機(jī)發(fā)光單元或在非顯示區(qū)102設(shè)置隔斷結(jié)構(gòu)來增加水汽入侵路徑或在非顯示區(qū)102設(shè)置隔斷結(jié)構(gòu)來說，在非顯示區(qū)102設(shè)置隔斷結(jié)構(gòu)后，在隔斷結(jié)構(gòu)上形成觸控走線層170時(shí)，會(huì)由于隔斷結(jié)構(gòu)導(dǎo)致觸控走線171斷線。[0036]本申請通過設(shè)置平坦層160,可以通過平坦層160來平坦化隔斷結(jié)構(gòu)，使其觸控走線層170設(shè)置在平坦層160上，避免出現(xiàn)隔斷結(jié)構(gòu)所在位置觸控走線171的斷線問題。當(dāng)然，本實(shí)施例并不僅限于觸控走線層170,當(dāng)需要在隔斷結(jié)構(gòu)的上方形成金屬走線，需要平坦層8160來平坦化金屬走線時(shí)，該金屬走線也屬于本實(shí)施的保護(hù)范圍。[0037]在本實(shí)施例中，可以利用平坦層160,將隔斷結(jié)構(gòu)中的導(dǎo)電部和隔斷部之間的凸出于導(dǎo)電部的隔斷部填充，使其不再具有隔斷作用，使得平坦層160上方的觸控走線171能夠順利通過。當(dāng)存在上一實(shí)施例中的平坦層160斷面問題時(shí)，同樣可以采用實(shí)施例一中的方[0038]在另一實(shí)施例中，可以設(shè)計(jì)多層平坦層160,當(dāng)最下層的平坦層160完成平坦化隔斷結(jié)構(gòu)之后，形成觸控走線層170后再形成一層平坦層160,以減少平坦層160在靠近綁定區(qū)位置的膜層高度，以便觸控走線171能夠直接延伸至綁定區(qū)。[0039]本實(shí)施例中具體以隔斷結(jié)構(gòu)作為封裝阻擋壩150來具體舉例進(jìn)行說明。[0040]本申請公開了一種顯示面板，顯示面板100包括顯示區(qū)101和非顯示區(qū)102,所述顯示面板還包括襯底基板110、驅(qū)動(dòng)電路層120、顯示膜層130、封裝膜層140、封裝阻擋壩150、平坦層160和觸控走線層170,所述驅(qū)動(dòng)電路層120設(shè)置在所述襯底基板110上；所述顯示膜層130設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)電路層120上；所述封裝膜層140設(shè)置在所述顯示膜層130上，且由所述顯示區(qū)101向所述非顯示區(qū)102延伸；所述封裝阻擋壩150設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)電路層120與所述封裝膜層140之間，且位于所述非顯示區(qū)；所述平坦層160設(shè)置在所述封裝膜層140上，以及所述觸控走線層170設(shè)置在所述平坦層160上；其中，所述平坦層160在所述封裝阻擋壩150所在區(qū)域設(shè)置有過孔180,所述觸控走線層170沿所述過孔180向所述顯示面板的邊緣延[0041]具體地，所述封裝阻擋壩150包括第一阻擋壩151和第二阻擋壩152,所述第一阻擋壩151環(huán)繞所述顯示區(qū)101設(shè)置，所述第二阻擋壩152環(huán)繞所述第一阻擋壩151設(shè)置。[0042]其中，所述封裝膜層140包括第一無機(jī)層141、有機(jī)封裝層142和第二無機(jī)層143,所述有機(jī)封裝層142設(shè)置在所述第一無機(jī)層141與所述第二無機(jī)層143之間，所述第二無機(jī)層143設(shè)置在所述第一無機(jī)層141上；所述有機(jī)封裝層142由所述顯示區(qū)101向所述非顯示區(qū)102延伸，并由所述第一阻擋壩151阻擋；所述第一無機(jī)層141、所述第二無機(jī)層143由所述顯示區(qū)101向所述非顯示區(qū)102延伸，并覆蓋所述第一阻擋壩151、所述第二阻擋壩152設(shè)置。[0043]本實(shí)施例中的封裝阻擋壩150的主要作用是防止有機(jī)封裝層142向外擴(kuò)散溢出，有機(jī)封裝層142的制程方式采用噴墨打印時(shí)，需要一定的時(shí)間流平后進(jìn)行固化，在流平的過程中需要封裝阻擋壩150進(jìn)行阻擋，防止擴(kuò)散到顯示面板100的邊緣。[0044]對于顯示面板100采用無掩膜蒸鍍技術(shù)來形成發(fā)光膜層時(shí)，本實(shí)施例中的封裝阻擋壩150通過利用無掩膜蒸鍍技術(shù)中的隔斷結(jié)構(gòu)，來實(shí)現(xiàn)對有機(jī)封裝層142的流平阻擋。即與顯示區(qū)101的隔斷結(jié)構(gòu)同步形成。[0045]顯示膜層130則包括像素定義層131、導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)134和多個(gè)發(fā)光單元。顯示區(qū)內(nèi)可劃分為開口區(qū)和非開口區(qū)，發(fā)光單元設(shè)置在開口區(qū)內(nèi)，相鄰兩個(gè)發(fā)光單元通過像素定義層131和導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)134隔開，所述像素定義層131設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)電路層120上，導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)134設(shè)置在像素定義層131上；所述導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)134與所述第一阻擋壩151、所述第二阻擋壩152同一制程形成。[0046]所述第一阻擋壩151包括第一導(dǎo)電部1511和第一隔斷部1512,所述第一隔斷部1512設(shè)置在所述第一導(dǎo)電部1511上，且所述第一隔斷部1512的徑向?qū)挾却笥谒龅谝粚?dǎo)電部1511的徑向?qū)挾?，所述第二阻擋?53包括第二導(dǎo)電部1531和第二隔斷部1532,所述第二9隔斷部1532設(shè)置在所述第二導(dǎo)電部1531上，且所述第二隔斷部1532的徑向?qū)挾却笥谒龅诙?dǎo)電部1531的徑向?qū)挾?；[0047]導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)134包括第三導(dǎo)電部1341和第三隔斷部1342,所述第三隔斷部1342設(shè)置在所述第三導(dǎo)電部1341上，且所述第三隔斷部1342的徑向?qū)挾却笥谒龅谌龑?dǎo)電部1341的徑向?qū)挾?。[0048]上述三者的第一導(dǎo)電部1511、第二導(dǎo)電部1531和第三導(dǎo)電部1341同一制程形成，第一隔斷部1512、第二隔斷部1532和第三隔斷部1342同一制程形成。具體來說，在驅(qū)動(dòng)電路層120上形成像素定義層131后，依次沉積整面的導(dǎo)電部材料和隔斷部材料，完成沉積后進(jìn)行圖案化工藝，保留顯示區(qū)101內(nèi)的非開口區(qū)的隔斷部和非顯示區(qū)102位于封裝阻擋壩150區(qū)域的隔斷部，形成第一隔斷部1512、第二隔斷部1532和第三隔斷部1342;利用第一隔斷部1512、第二隔斷部1532和第三隔斷部1342為保護(hù)層，對導(dǎo)電部材料進(jìn)行濕刻工藝，從而形成第一隔斷部1512、第二隔斷部1532和第三隔斷部1342的寬度分別大于第一導(dǎo)電部1511、第二導(dǎo)電部1531和第三導(dǎo)電部1341的寬度。[0049]可以理解的是，在顯示區(qū)101內(nèi)所提及的第三隔斷部1342的寬度指的是相鄰兩個(gè)發(fā)光單元之間的第三隔斷部1342的寬度。在非顯示區(qū)102內(nèi)所提及的第一隔斷部1512的寬度指的是由顯示區(qū)101向非顯示區(qū)102且垂直于顯示面板100的邊的方向上的寬度，換句話說，第一隔斷部1512是環(huán)繞顯示區(qū)101設(shè)置的，以環(huán)繞延伸方向?yàn)殚L度方向，則垂直于長度方向即為寬度方向，其膜層堆疊的方向?yàn)楹穸确较?。[0050]在本實(shí)施例中，隔斷部是一種無掩膜蒸鍍技術(shù)中所使用的關(guān)鍵結(jié)構(gòu)，利用導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)134中的上部(第三隔斷部1342)大于下部(第三導(dǎo)電部1341)的寬度，使得在蒸鍍過程中，不需要掩膜板，使得發(fā)光膜層制程中，形成圖案化的多個(gè)發(fā)光單元。特別是形成發(fā)光單元中的有機(jī)發(fā)光層時(shí)，利用導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)134,將不同位置的發(fā)光單元的有機(jī)發(fā)光層間隔開，形成多個(gè)獨(dú)立封裝的發(fā)光單元，上述導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)134又被稱為懸垂結(jié)構(gòu)或屋檐結(jié)構(gòu)。對于發(fā)光單元中的陰極層而言，可通過導(dǎo)電隔斷結(jié)構(gòu)134中的第三導(dǎo)電部1341連接起來，從而形成正面的陰極層布線，降低陰極的阻降。[0051]由于第一阻擋壩151、第二阻擋壩152分別采用了隔斷結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)。因此，在封裝阻擋壩150上方形成觸控走線171時(shí)，由于第一阻擋壩151、第二阻擋壩152具有的隔斷功能，會(huì)導(dǎo)致觸控走線171斷線。本實(shí)施例中，在封裝阻擋壩150上還設(shè)置有平坦層160,使其觸控走線171沿平坦層160進(jìn)行走線設(shè)計(jì)。[0052]進(jìn)一步地，所述第二阻擋壩152包括多個(gè)間隔設(shè)置的第二阻擋部153,所述第二阻擋部153之間相互絕緣；所述襯底基板110的正投影下，多個(gè)所述過孔180分別與多個(gè)所述第二阻擋部153重疊；所述驅(qū)動(dòng)電路層120設(shè)置有多條連接線121,所述觸控走線層170通過所述第二阻擋部153與所述連接線121電性連接。[0053]在本實(shí)施例中，第一阻擋壩151主要用于阻擋有機(jī)封裝層142,第二阻擋壩152主要用于搭接觸控走線層170。其中，由于每條觸控走線171之間需要單獨(dú)連接，因而需要將第二阻擋壩152設(shè)置為多個(gè)第二阻擋部153,每一個(gè)第二阻擋部153用于連接一條觸控走線171與連接線121。值得一提的是，第二阻擋部153的數(shù)量與觸控走線171的數(shù)量一致，在未設(shè)置有觸控走線層170的區(qū)域，第二阻擋壩152依舊為連續(xù)的環(huán)繞式結(jié)構(gòu)，僅在觸控走線層170所在區(qū)域設(shè)置有多個(gè)間隔設(shè)置的第二阻擋部153。[0054]在一實(shí)施例中，所述觸控走線層170通過所述第二導(dǎo)電部1531與所述連接線121電性連接。即在形成過孔180時(shí)，將第二導(dǎo)電部1531上方的第二隔斷部1532、第一無機(jī)層141、第二無機(jī)層143都打通，使得觸控走線層170中的觸控走線171直接連接至第二導(dǎo)電部1531,通過第二導(dǎo)電部1531連接至驅(qū)動(dòng)電路層120設(shè)置的連接線121上，由驅(qū)動(dòng)電路層120上設(shè)置的連接線121將電信號(hào)傳輸至外部驅(qū)動(dòng)芯片上。[0055]在另一實(shí)施例中，所述第二隔斷部1532也采用導(dǎo)電材料形成，所述觸控走線層170通過所述第二隔斷部1532、所述第二導(dǎo)電部1531與所述連接線121電性連接。本實(shí)施例中，第二隔斷部1532無需再打孔，直接可以通過第二隔斷部1532、第二導(dǎo)電部1531連接至第二導(dǎo)電部1531下方的連接線121。[0056]在本實(shí)施例中，不再需要給第二隔斷部1532進(jìn)行打孔，直接利用第二隔斷部1532進(jìn)行電性連接。但值得注意的是，第二導(dǎo)電部1531的材料與第二隔斷部1532所采用的導(dǎo)電材料不同，例如第二隔斷部1532的材料為Ti材料，第二導(dǎo)電部1531的材料為鋁或鉬材料。在對第二導(dǎo)電部1531刻蝕時(shí)，不會(huì)影響第二隔斷部1532。[0057]具體地，所述第一無機(jī)層141、所述第二無機(jī)層143對應(yīng)所述過孔180設(shè)置有通孔，所述觸控走線層170從所述通孔連接所述第二阻擋部153。[0058]在此過程中，本實(shí)施例中的過孔180與通孔分別采用刻蝕制程完成，當(dāng)?shù)诙魯嗖?532采用導(dǎo)電材料形成時(shí)，則不需要對第二隔斷部1532再進(jìn)行進(jìn)一步刻蝕，直接將第二隔斷部1532上方的第一無機(jī)層141、第二無機(jī)層143挖孔即可。[0059]具體地，所述驅(qū)動(dòng)電路層120還包括絕緣層122,所述絕緣層122覆蓋所述連接線121設(shè)置；所述絕緣層122上設(shè)置有第一通孔123,所述第二導(dǎo)電部1531穿過所述第一通孔123連接至所述連接線121;在所述襯底基板110的正投影下，所述第一通孔123與所述過孔[0060]在本實(shí)施中，直接在第二阻擋部153的第二導(dǎo)電部1531下方設(shè)置有第一通孔123,使得在第二導(dǎo)電部1531形成的時(shí)候直接與下方設(shè)置的連接線121電性連接。本實(shí)施例的優(yōu)勢在于，當(dāng)連接線121與第二阻擋部153之間僅設(shè)置有一層絕緣層122時(shí)，在絕緣層122上形成第一通孔123的制程較為方便，且可以直接連接。[0061]但是，當(dāng)?shù)诙钃醪?53下方還設(shè)置有其他膜層時(shí)，則需要將過孔180與絕緣層122上的通孔設(shè)置為不重疊的方式。[0062]圖7是本申請第二實(shí)施例的又一種顯示面板的截面示意圖，參見圖7所示，所述顯示膜層130包括像素定義層131,所述像素定義層131設(shè)置在顯示區(qū)101,所述像素定義層131在所述非顯示區(qū)102還設(shè)置有第一像素定義層延伸部132和第二像素定義層延伸部133,所述第一像素定義層延伸部132設(shè)置在第一阻擋壩151下，所述第二像素定義層延伸部133設(shè)置在所述第二阻擋壩152下。[0063]在本實(shí)施例中，像素定義層131、第一像素定義層延伸部132和第二像素定義層延伸部133同制程形成，在封裝阻擋壩150區(qū)域設(shè)置像素定義層131的延伸部材料來墊高第一阻擋壩151和第二阻擋壩152?？梢岳斫獾氖?，在墊高第一阻擋壩151和第二阻擋壩152的過程中，還可以使用驅(qū)動(dòng)電路層120中的平坦化膜層來提升第一阻擋壩151和第二阻擋壩152的高度，由此來形成更好的阻擋作用。其中，平坦化膜層與上述的平坦層160采用的材料可以一致或有區(qū)別，在驅(qū)動(dòng)電路層12