1、原子層沉積操作步驟1、開機：開普氮（壓力0.4-0.6MPa）、高純氮氣瓶（壓力小于0.1MPa）；開總電源；開水冷機。2、放樣品：點擊“進氣”，待壓強升至1個大氣壓后，打開腔體，放 入樣品。點擊“設(shè)置”，將流量重新設(shè)置為：20。3、開機械泵：先打開機械泵電源開關(guān)，然后點擊“泵閥 開”。4、設(shè)置溫度參數(shù)：點擊“設(shè)置”，開始設(shè)置溫度參數(shù)，例如 1： 200 度；2： 230度；11 （水）：50度，或者11 （臭氧）：0度；10（Al 源）：0度。循環(huán)次數(shù)根據(jù)需要設(shè)置。流量：20。點擊“確定”， 開始加熱，加熱時間不少于45min。5、排水：加熱45min后，若之前用過水，而本次實驗用臭氧，則需

2、 排水。點擊“模式1”，將前驅(qū)體4的脈沖時間設(shè)為：1000ms，清 洗時間設(shè)為：5s，關(guān)閉小窗，點擊“開始”，n個循環(huán)后，點擊“結(jié) 束”，排水完成。6、設(shè)置沉積模式參數(shù)：點擊“模式1”或者“模式2”，設(shè)置前驅(qū)體 和水（或者臭氧）的脈沖時間和清洗時間。以沉積氧化鋁為例， 前驅(qū)體3為鋁源，前驅(qū)體4為水（或者臭氧），其他為空置，設(shè)置 前驅(qū)體3的脈沖時間為：60ms，清洗時間設(shè)為：10s；設(shè)置前驅(qū)體 4的脈沖時間為：50ms，清洗時間設(shè)為：30s。7、設(shè)置載氣流量和循環(huán)次數(shù)：點擊“設(shè)置”，流量設(shè)置為：20；循環(huán) 次數(shù)根據(jù)所需樣品厚度而定。8、開始實驗：打開相應(yīng)前驅(qū)體的手動閥，如果使用臭氧作為反應(yīng)源，

3、則需打開臭氧的截止閥。（如果使用臭氧作為反應(yīng)源，請參考臭氧 發(fā)生器操作說明）。點擊“開始”，開始鍍膜。9、取樣品：當(dāng)所設(shè)置的循環(huán)次數(shù)完成后，循環(huán)次數(shù)自動清零。點擊“設(shè)置”將流量重新設(shè)置為：0。關(guān)閉源的手動閥（若用臭氧，還 需關(guān)閉臭氧的截止閥），點擊“泵閥 關(guān)”，點擊“進氣”，大約 5min后氣壓達到1個大氣壓，開腔體，取出樣品。10、抽真空：點擊“泵閥開”，氣壓下降后，點擊“進氣”關(guān)閉高 純氮的減壓閥，流量下降至1位數(shù)時，點“設(shè)置”將將流量重新 設(shè)置為：0。（若下次實驗換另外的源，則需排空，具體操作：點擊“泵閥 開”， 氣壓下降后，點擊“進氣”，點擊“模式1”，將前驅(qū)體3的脈沖 時間設(shè)為：50

4、0ms，清洗時間設(shè)為：5s，將前驅(qū)體4的脈沖時間設(shè) 為：1000ms，清洗時間設(shè)為：10s，關(guān)閉小窗，點擊“開始” 100 個循環(huán)后，點擊“結(jié)束”，排空完成。）11、關(guān)儀器：點擊“設(shè)置”，將1、2和11 （水）的溫度設(shè)為：0，將所用源的溫度設(shè)為：0。點擊“泵閥關(guān)”，關(guān)機械泵，關(guān)總電 源，關(guān)普氮、關(guān)水冷。臭氧發(fā)生器操作步驟1、開水冷。2、氣體調(diào)節(jié)：開氧氣瓶減壓閥（壓力小于0.05MPa）,通過氣體調(diào) 節(jié)旋鈕調(diào)節(jié)進氣壓力（1個小格），調(diào)節(jié)進氣流量為150 NL/h， 等待10min。3、開機與功率調(diào)節(jié)：按下電源開關(guān)開機，屏幕顯示“主電源開啟， 變頻器關(guān)閉，功率10%”后，按下“設(shè)置”鍵，通過牛”或者-”鍵改變設(shè)定值，一般設(shè)置在30%-40%，不能超過53%。按 下“逆變器”鍵2秒鐘啟動