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文檔簡介

1、激光散斑干涉實驗摘要:激光散斑測量法是在全息方法基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種測量方法,這種方法 具有很強的實用價值。散斑位移測量不僅可以實現(xiàn)離面微位移的測量,也可以進(jìn) 行面內(nèi)微位移測量。主要是對面內(nèi)微位移進(jìn)行了測量研究,利用設(shè)計的測量系統(tǒng) 將物體發(fā)生位移前后的散斑圖由CCD記錄下來,分別用數(shù)字散斑相關(guān)法和散斑照 相法對散斑圖像進(jìn)行了分析處理,并得出了相應(yīng)的結(jié)論。關(guān)鍵詞:激光散斑;位移測量;數(shù)字圖像處理一、引言激光自散射體的粗糙表面漫反射或通過透明散射體(毛玻璃等)時,在散射 表面或附近的光場中會形成無規(guī)則分布的亮暗斑點,稱為激光散斑。激光散斑在全息圖上是一種有害的背景噪聲,但由于散斑攜帶了光束和光束

2、所通過物體的光學(xué)信息,于是產(chǎn)生了廣泛的應(yīng)用。例如,用散斑的對比度測量反 射表面的粗糙度;利用散斑的動態(tài)情況測量物體運動的速度;用散斑進(jìn)行光學(xué)信 息處理,甚至利用散斑驗光等等。但應(yīng)用領(lǐng)域最廣的是散斑干涉測量技術(shù)。散斑 干涉技術(shù)在機械工程方面可以用于測量物體表面的形變和裂紋、損傷和應(yīng)力分 布,在天文學(xué)方面可以測量大氣的擾動和溫度場分布,在醫(yī)學(xué)、力學(xué)和光處理等 領(lǐng)域也有廣泛的影響。二、實驗2.1實驗測試系統(tǒng)散斑干涉測量離面位移光路圖如下圖所示待廁物2.2實驗原理(1)激光散斑當(dāng)相干光照射一個粗糙物體的表面(或通過透明的粗糙面)時,在物體表面前的 空間,可得到一種無規(guī)律分布且明暗相間的顆粒狀光斑,稱為

3、散斑。由于激光的 高度相干性,表面散射光在空間中隨機相干疊加后會形成一些亮暗分明的區(qū)域, 且呈現(xiàn)無規(guī)則分布,按照在散射面有無透鏡,可以將散斑場劃分為主觀散斑和客 觀散斑,由于透鏡的使用,主觀散斑又被稱為成像散斑。(2)利用散斑干涉術(shù)測量面內(nèi)位移散斑干涉計量就是將物體表面空間的散斑記錄下來,當(dāng)物體運動或由于受力而產(chǎn) 生變形時,這些隨機分布的散斑也隨之在空間按一定規(guī)律運動。因此能利用記錄 的散斑圖分析物體運動或變形的有關(guān)信息。當(dāng)測量物體在面內(nèi)發(fā)生位移時,通常 在被測物體位移前,將散斑記錄下來,然后使物體垂直于光軸發(fā)生一微小面內(nèi)位 移d,再次記錄。兩次記錄的圖樣是同一個物體發(fā)生相對位移Md前后的兩個

4、散 斑圖(M為散斑圖的放大倍數(shù)),其上的各斑點都是成對出現(xiàn)的,相當(dāng)于在底片 上布滿了無數(shù)的“雙孔”。與楊氏雙孔衍射相似,在像面上看到的是在一個衍射 暈內(nèi)的等間距平行線,稱為楊氏條紋圖。(3)離面位移(形變)的散斑測量設(shè)A1、A2分別是被測場M1與參考面M2產(chǎn)生的散斑場在P點上的振幅。P點合振 幅為A1+A2,強度取決于A1、A2的位相。當(dāng)物體M1位移(或變形)后,若位相 差的改變?yōu)?n、4n, 相應(yīng)的光程差改變?yōu)槿耄?入,變形前后的散斑場強度一致,稱為相關(guān)。若光程差改變?yōu)槿?2, 3入/2,,亮散斑變成暗散斑,稱為不相關(guān)。將變形前后的圖像拍下來,對兩幅散斑圖像進(jìn)行相減,可得 相關(guān)位移信息。2.

5、3實驗過程(1)搭建并調(diào)整實驗系統(tǒng)按照實驗光路圖在光學(xué)平臺上搭建主觀散斑記錄光路,并調(diào)整系統(tǒng)共軸,要 求激光束與臺面平行,并用針孔濾波器對光束進(jìn)行濾波后,照明待測物體。說明:接收器采用CCD器件,由CCD器件采集的光強信息經(jīng)過采集卡進(jìn)行 AD變換,將模擬信號變成數(shù)字信號,再顯示在計算機屏幕上,此數(shù)字信號同時 存入計算機硬盤上便于數(shù)據(jù)處理。(2)拍攝散斑圖A、采用前面已調(diào)整好的主觀散斑記錄光路,將毛玻璃作為待測物體,物光束經(jīng) 成像透鏡投射到CCD表面,由CCD拍攝的散斑圖顯示在計算機屏幕上。前后移動 CCD,仔細(xì)觀察散斑場的分布情況,重點注意散斑的對比度、形狀和大小與照明 條件的關(guān)系等,繼而得到

6、對激光散斑的定性認(rèn)識;B、將毛玻璃換作名片、請柬重復(fù)以上實驗。(3)散斑干涉測量A、測量微小面內(nèi)位移 利用前面已經(jīng)調(diào)整好的主觀散斑的拍攝光路,將毛玻璃更換為待測物,物光束經(jīng) 成像鏡頭投射到CCD表面。調(diào)整物距,找到成像最清晰的位置并且固定待測物。 利用待測物調(diào)整架上的千分頭使待測物體在自身平面內(nèi)做微小位移,用計算機上 的圖像采集程序控制CCD攝像機,對物體發(fā)生位移前后的散斑圖進(jìn)行記錄并相 減,通過散斑條紋計算散斑位移量,并與待測物體的手動位移量作比較。B、測量微小離面位移a按照實驗原理圖搭建好光路,要求激光束與臺面平行,各器件同軸等高,分光 棱鏡分出的物光均勻照射離面位移待測物,參考光經(jīng)同光程

7、反射后與物光波匯合 同時進(jìn)入CCD;b把圓形壓力盒作為被測物,壓力盒表面有微小的突起和回復(fù),通過軟件實時剪 切,觀察條紋的產(chǎn)生以及變化情況,據(jù)此定性分析圓形壓力盒的表面實時突起變 化的情況;c將圓形壓力盒(變形物)換成剛性推板俯仰物,通過推動千分絲桿使推板前傾 產(chǎn)生離面位移,觀測條紋,通過軟件定量計算俯仰板上各點較原位置的位移量, 并通過絲桿讀書計算驗證。(4)設(shè)計性實驗壓電陶瓷的熱變形測量:通過對壓電陶瓷施加不同的電壓,實驗中為3.0V、6.0V、9.0V、12.0V、15.0V, 用軟件實時剪切,觀察條紋的產(chǎn)生以及變化情況,據(jù)此分析壓電陶瓷的熱變形情 況。3、結(jié)果與討論(1)等傾干涉圖1圖

8、2圖3圖4討論:面內(nèi)位移越大,等傾干涉條紋越密(2)等厚干涉實驗數(shù)據(jù):實驗數(shù)據(jù):四四圖一圖二圖三圖四圖五環(huán)數(shù)108643表格:環(huán)數(shù)與離面位移的關(guān)系數(shù)據(jù)分析:離面位移越大,環(huán)數(shù)越多。壓電陶瓷y第幾環(huán)5432112345x位置(cm)-9.2-8.5-7.5-6.5-4.53.54.56.7589牛頓環(huán)1x位置(cm)-13.5-12-10.5-8-447.510牛頓環(huán)2圖2 6V圖3 9V圖 4 12V圖 5 15V圖1 3Vx位置(cm)-13-10.5-7.5-338牛頓環(huán)3x位置(cm)-11-8.5-32.57.510.5牛頓環(huán)4x位置(cm)-14-8-1.52.58牛頓環(huán)5表格:用P

9、PT標(biāo)尺標(biāo)定第幾環(huán)所在的位置折線圖:用PPT標(biāo)尺標(biāo)定第幾環(huán)所在的位置4、 思考題什么叫散斑和成像散斑?散斑干涉技術(shù)有何用途?答:當(dāng)一束激光射到物體的粗糙表面上時,由該物體上各點散射的光強位相是隨 機分布的,他們相加以后的振幅與位相都是隨機的,故在粗糙表面前面的空間將 布滿明暗相同的亮斑與暗斑,這些亮斑與暗斑的分布是雜亂的,所以稱為散斑, 散斑布滿整個空間。散斑經(jīng)過一個光學(xué)系統(tǒng),在它的像平面上形成的散斑,即為 成像散斑。本實驗采用成像散斑,有利于利用透鏡從空間散斑中確定所需的散斑 采樣面,同時也方便利用CCD進(jìn)行數(shù)據(jù)采集。被激光照明的粗糙物面在透鏡的像面上形成散資圖,此法稱為散斑照相。若 這時另

10、外加一個相干的參考光,該相干的參考光可以是平面波、球面波.甚至是 另一粗糙面的散斑場,這種組合散斑場的技術(shù),就稱為散斑干涉術(shù)。激光散斑干 涉在許多領(lǐng)域得到應(yīng)用。包括:測量縱向位移的散斑干涉技術(shù),測量橫向位移的 散斑干涉技術(shù),激光散射法測量圓柱內(nèi)孔表面質(zhì)量,測量粗糙表面光潔度等等。從實驗觀察到的現(xiàn)象,說出散斑的基本性質(zhì)。答:當(dāng)相十光照射一個粗糙物體的表面(或通過透明的粗糙面)時,在物體表面前的空間,可得到一種無規(guī)律分布且明暗相間的顆粒狀光斑,稱為散斑。散 斑顆粒的大小定義是兩相鄰亮斑間距離的統(tǒng)計平均值,此值是由產(chǎn)生散斑的激光 波長及粗糙表面圓形照明區(qū)域?qū)υ撋叩目讖浇撬鶝Q定。散斑的強度分布為負(fù)指

11、 數(shù)概率密度函數(shù),這種完全雜亂無章的隨機散斑圖稱為正常散斑圖。怎樣從數(shù)據(jù)圖讀出被測面位移量?答:使散斑樣品產(chǎn)生微弱的離面位移,將位移后得到的散斑圖像與位移前的圖像 進(jìn)行“圖像相減”,得到所要的散斑形變量。參考文獻(xiàn):Hung Y Y. Shearography: a Novel and Practical Approach for Nondestructive Testing【J】 .Journal of Nondestructive Testing, 1998, 8 (2):55一67L i X, Wang K, D eng B. Matched Correlation Sequence Analysis in Temporal Speckle Pattern 1nterferom a try【J】 .Optics&Laser Technology,2004,36(4):315一 322楊國光.近代光學(xué)測試技

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