PECVD詳細(xì)介紹的教案第1頁(yè)/共92頁(yè)工作原理：CentrothermPECVD系統(tǒng)是一組利用平行板鍍膜舟和高頻等離子激發(fā)器的系列發(fā)生器。在低壓的情況下，等離子發(fā)生器直接在，裝在鍍膜板中間的介質(zhì)的中間發(fā)生反應(yīng)。所用的活性氣體為硅烷SiH4和氨NH3?？梢愿鶕?jù)改變硅烷對(duì)氨的比率，來(lái)得到不同的折射指數(shù)。在沉積工藝中，伴有大量的氫原子和氫離子的產(chǎn)生，使得晶片的氫鈍化性十分良好。PECVD的原理及作用

第2頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD設(shè)備結(jié)構(gòu)晶片裝載區(qū)爐體特氣柜真空系統(tǒng)控制系統(tǒng)第3頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖第4頁(yè)/共92頁(yè)●

上下載部分:有電腦系統(tǒng),凈化風(fēng)機(jī),機(jī)械手等部分;

主要作用:電腦是整個(gè)系統(tǒng)的控制中樞,凈化風(fēng)機(jī)起局部環(huán)境凈化作用同時(shí)也是上料和下料部分.●

廢氣室:有爐門(mén)排風(fēng)系統(tǒng)組成;

主要作用:為了保持?jǐn)U散爐管內(nèi)良好的密封性能,并將未能從尾氣管排出的殘留廢氣及時(shí)抽走,防止廢氣泄露.●

爐體部分:由加熱電阻絲組成;

主要作用:通過(guò)大電流發(fā)熱滿足工藝要求的擴(kuò)散溫度.●

氣柜部分:由所需的各種氣路,流量計(jì)及.

主要作用:為工藝提供所需的氣體流量.簡(jiǎn)要部分介紹第5頁(yè)/共92頁(yè)上下裝載區(qū)：槳、LIFT、抽風(fēng)系統(tǒng)、SLS系統(tǒng)。槳：由碳化硅材料制成，具有耐高溫、防變形等

性能。作用是將石墨舟放入或取出石英管。LIFT：機(jī)械臂系統(tǒng)，使舟在機(jī)械臂作用下在小

車、槳、儲(chǔ)存區(qū)之間互相移動(dòng)。抽風(fēng)系統(tǒng)：位于晶片裝載區(qū)上方，初步的冷卻石

墨舟和一定程度的過(guò)濾殘余氣體SLS系統(tǒng)：軟著陸系統(tǒng)，控制槳的上下，移動(dòng)范圍在2—3厘米PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu)第6頁(yè)/共92頁(yè)載片區(qū)部分介紹

機(jī)械手槳小推車操作平臺(tái)指示燈爐門(mén)第7頁(yè)/共92頁(yè)石墨舟電極口第8頁(yè)/共92頁(yè)爐體：石英管、加熱系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)石英管：爐體內(nèi)有四根石英管，是鍍膜

的作業(yè)區(qū)域，耐高溫、防反應(yīng)。加熱系統(tǒng)：位于石英管外，又五個(gè)溫區(qū)。PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu)第9頁(yè)/共92頁(yè)加熱反應(yīng)室熱電偶1ＴＭＭ６第10頁(yè)/共92頁(yè)爐管內(nèi)部電極熱電偶２窗口第11頁(yè)/共92頁(yè)窗口電極熱電偶2排氣口爐管后段第12頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD設(shè)備結(jié)構(gòu)冷卻系統(tǒng)：是一套封閉的循環(huán)水系統(tǒng)，位于加熱系統(tǒng)的金屬外殼，四進(jìn)四出并有一個(gè)主管道，可適量調(diào)節(jié)流量大小。第13頁(yè)/共92頁(yè)冷卻水系統(tǒng)進(jìn)水口出水口第14頁(yè)/共92頁(yè)特氣柜：MFC氣動(dòng)閥

MFC：氣體流量計(jì)（NH3SiH4N2等）氣動(dòng)閥：之所以不用電磁閥是因?yàn)殡姶砰y在工作時(shí)容易產(chǎn)生火花，而氣動(dòng)閥可以最大程度的避免火花。PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu)第15頁(yè)/共92頁(yè)真空系統(tǒng)真空泵：每一根石英管配置一組泵，包括主泵和輔助泵。蝶閥：可以根據(jù)要求控制閥門(mén)的開(kāi)關(guān)的大小，來(lái)調(diào)節(jié)管內(nèi)氣壓的

PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu)第16頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD控制系統(tǒng)主要從事的是下面的四種控制系統(tǒng)1PECVD真空的控制

2PECVD的機(jī)械手的控制

3PECVD的特氣控制

4PECVD的電器控制PECVD控制系統(tǒng)第17頁(yè)/共92頁(yè)控制系統(tǒng)

CMI：是Centrotherm研發(fā)的一個(gè)控制系統(tǒng)，其中界

面包括Jobs、System、Datalog、Setup、Alarms、Help.Jobs:機(jī)器的工作狀態(tài)。System:四根管子的工作狀態(tài)，舟的狀態(tài)以及手

動(dòng)操作機(jī)器臂的內(nèi)容。Datalog:機(jī)器運(yùn)行的每一步。

第18頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD控制系統(tǒng)第19頁(yè)/共92頁(yè)CMI-accessgatetoCESARS第20頁(yè)/共92頁(yè)Menuformanualoperations第21頁(yè)/共92頁(yè)第22頁(yè)/共92頁(yè)第23頁(yè)/共92頁(yè)第24頁(yè)/共92頁(yè)第25頁(yè)/共92頁(yè)第26頁(yè)/共92頁(yè)溫度控制系統(tǒng)第27頁(yè)/共92頁(yè)第28頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD日常報(bào)警說(shuō)明第29頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Processrecipehasterminatedwitherrorstate----AlarmACK----(1)tostore(2)tostoreenableunload(3)Restartrecipe.說(shuō)明：進(jìn)行中的工藝以錯(cuò)誤的狀態(tài)結(jié)束----警報(bào)確認(rèn)----（1）儲(chǔ)存（2）儲(chǔ)存并卸下（3）重新開(kāi)始工藝。(1)用錯(cuò)工藝號(hào)，手動(dòng)結(jié)束工藝，重新開(kāi)始新的其它工藝時(shí)進(jìn)行選擇。(2)多數(shù)情況下選擇此項(xiàng)。；(3)工藝中斷需要重新進(jìn)行時(shí)選擇，選擇前應(yīng)查看鍍膜情況。1第30頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Boatalreadyintube----select:[process=0unload=1].說(shuō)明：石墨舟已經(jīng)在管內(nèi)----選擇[運(yùn)行工藝=0取出卸下=1]。當(dāng)管內(nèi)有石墨舟時(shí)，異常排除后手動(dòng)運(yùn)行工藝時(shí)會(huì)出現(xiàn)這樣的提示，查看鍍膜情況后在做選擇。2第31頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Losthoming,checkposition.說(shuō)明：失去引導(dǎo)，檢查位置。此報(bào)警會(huì)自動(dòng)解除，只需要檢查一下槳是否在原點(diǎn)的位置即可。3第32頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明HFGenoutof1st(2nd)tolerance.說(shuō)明：高頻發(fā)生器超過(guò)第一（二）個(gè)位置，如果在鍍膜中退出，如已經(jīng)沉積到氮化硅，檢查鍍膜時(shí)間后，選擇手動(dòng)工藝輸入剩余時(shí)間。通常出現(xiàn)這樣的報(bào)警有三種情況：(1)石墨舟的電極孔放反。(2)石墨電極內(nèi)有硅片倒落或者小碎片卡在兩片電極的中間。(3)爐內(nèi)的碎片太多，石墨電極底部接觸到碎片形成兩片電極之間的短路。4第33頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Recipeabort2----processabort!TOcontinue:enterAB.說(shuō)明：工藝推出----運(yùn)行終止。繼續(xù)輸入AB。

對(duì)工藝異常確認(rèn)輸入AB后，會(huì)出現(xiàn)第（一）個(gè)報(bào)警5第34頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Vacuumtubeoutof1st(2nd)tolerance.說(shuō)明：石英管內(nèi)的真空度超過(guò)第一（二）個(gè)限值。系統(tǒng)會(huì)對(duì)石英管內(nèi)的真空度三秒鐘檢查一次，由于某種原因?qū)е鲁檎婵毡谎訒r(shí)，在特定的時(shí)間內(nèi)無(wú)法達(dá)到真空設(shè)定值的要求，系統(tǒng)會(huì)出現(xiàn)這樣的報(bào)警，檢查一下?tīng)顟B(tài)欄中的壓力值和真空泵的工作是否正常，如正常過(guò)幾分鐘后報(bào)警會(huì)自動(dòng)解除；如果此報(bào)警連同第（八）個(gè)報(bào)警一起出現(xiàn)的話，聯(lián)系工序長(zhǎng)和領(lǐng)班。6第35頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Boatsensorofgrabhaschangedwithoutpermission.說(shuō)明：機(jī)械手上的傳感器被非允許移動(dòng)。機(jī)械手喜愛(ài)上下移動(dòng)時(shí)不會(huì)前后移動(dòng)，若這時(shí)前后的位置發(fā)生變化，機(jī)械臂將會(huì)被鎖定，出現(xiàn)報(bào)警。此警報(bào)需要通知工序長(zhǎng)或領(lǐng)班。7第36頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Collectivealertpumpst.1說(shuō)明：真空泵報(bào)警。一般情況下是由于真空泵的負(fù)壓太大，導(dǎo)致報(bào)警。如復(fù)位無(wú)效的話通知工序長(zhǎng)或領(lǐng)班。8第37頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明GasN2(SiH4、NH3)outof1st(2nd)tolerance.說(shuō)明：特氣氮?dú)猓ü柰?、氨氣）超過(guò)第一（二）個(gè)限值。出現(xiàn)這種報(bào)警的原因是多面的：高頻放電失敗、管內(nèi)的壓力不正常或者由于某種原因系統(tǒng)被鎖定（冷卻水報(bào)警），都會(huì)出現(xiàn)這樣的報(bào)警，出現(xiàn)超過(guò)第一個(gè)限值報(bào)警，只是警告；超過(guò)第二個(gè)限值報(bào)警出現(xiàn)后工藝會(huì)自動(dòng)停止，此時(shí)報(bào)警消失，出現(xiàn)第五個(gè)報(bào)警信息9第38頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Warming:checkSiH4distribution.說(shuō)明：警告,檢查硅烷的流量。檢查硅烷的流量是否于設(shè)定值吻合，如果不是退出并重新運(yùn)行工藝10第39頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Recipecouldn’tdestarted.pleasecheckprotocolforreason.。說(shuō)明：工藝不能被運(yùn)行，請(qǐng)檢查原因。原因：此管已有一個(gè)工藝在運(yùn)行；此管沒(méi)有你要選的工藝文件；狀態(tài)不正確11第40頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Thereisalreadyanactiverecipe×××formlocallisting.說(shuō)明：已經(jīng)有×××工藝在此管的工藝列表中。十一、十二倆個(gè)報(bào)警有時(shí)會(huì)一起出現(xiàn)，終止任何一個(gè)報(bào)警都會(huì)解除。12第41頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明TubereadyinundefinedpleaseensurethattheCESARloadingmachineisat“0”positionandsoftlanderis“UP”.說(shuō)明：管子的狀態(tài)無(wú)法被確認(rèn)，請(qǐng)確保CESAR接收到槳在“0”和“UP”的位置。檢查槳是否在上位和原點(diǎn)的位置，如果是的，在空槳的情況下運(yùn)行homing工藝；如果不是，手動(dòng)移動(dòng)槳到上位和原點(diǎn)。13第42頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Boatcollision.說(shuō)明：舟被撞擊。Handling對(duì)話框中將舟移動(dòng)到安全的位置；若是在上下舟，檢查一下小車和儲(chǔ)存架的位置是否于舟的位置匹配。14第43頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Theboatsensorhasdetectednoboatinthegrabalthoughaboatshouldbeinthegrab.pleasecheckboatingrabsensorandtryagain.說(shuō)明：雖然有一個(gè)舟在機(jī)械臂上，但傳感器測(cè)不到，請(qǐng)檢查一下舟是否接觸到傳感器后再試一次。機(jī)械臂上的傳感器沒(méi)有感應(yīng)到舟，將舟放到正確的位置即可。15第44頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Grabsensorundefined.Nomovementpossible!Checkboatposition.說(shuō)明：傳感器不明確，無(wú)法移動(dòng)，檢查舟的位置。機(jī)械臂不在正確的位置，無(wú)法移動(dòng)，若機(jī)械臂沒(méi)有被鎖定在Handling的界面中將機(jī)械臂移至正確的位置。16第45頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Boatposition(speed)outof1st(2nd)tolerance.說(shuō)明：舟的位置（速度）超過(guò)第一（二）限值。通常會(huì)發(fā)生在退舟失敗后，手動(dòng)使槳復(fù)位。17第46頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Boatfailure.說(shuō)明：退舟失敗。檢查舟在槳上的位置，如果正確手動(dòng)將槳復(fù)位；如果不正確，戴上高溫手套把舟拉到正確的位置后手動(dòng)復(fù)位。18第47頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明Waterflowgassidest.1.說(shuō)明：TGA（gasside）冷卻水報(bào)警。將石英管后的冷卻水流量調(diào)整一下即可19第48頁(yè)/共92頁(yè)管式PECVD日常報(bào)警說(shuō)明VN:Noprocessboatinsourceposition.說(shuō)明：在設(shè)定的位置沒(méi)有舟的存在。通常是因?yàn)闄C(jī)械臂將石墨舟放到儲(chǔ)存架上，儲(chǔ)存架上的傳感器沒(méi)有感應(yīng)到。調(diào)節(jié)傳感器或者調(diào)節(jié)舟的位置即可。20第49頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD操作與工藝過(guò)程1開(kāi)機(jī)過(guò)程簡(jiǎn)介2關(guān)機(jī)過(guò)程簡(jiǎn)介3操作過(guò)程簡(jiǎn)介4工藝氣體介紹5工藝過(guò)程介紹第50頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD開(kāi)機(jī)打開(kāi)N2閥。確認(rèn)面板上綠色N2閥已打開(kāi)。壓力值為1kg/cm2左右N2閥PECVD操作簡(jiǎn)介PECVD操作簡(jiǎn)介第51頁(yè)/共92頁(yè)按壓START真空泵啟動(dòng)按鈕，啟動(dòng)真空泵。CBI按鈕START按鈕PECVD操作簡(jiǎn)介PECVD開(kāi)機(jī)第52頁(yè)/共92頁(yè)打開(kāi)設(shè)備冷卻水。先打開(kāi)出水閥，再開(kāi)進(jìn)水閥。壓力在3kg/cm2---6kg/cm2范圍內(nèi)進(jìn)水閥出水閥PECVD操作簡(jiǎn)介PECVD開(kāi)機(jī)第53頁(yè)/共92頁(yè)打開(kāi)并檢查氣源。打開(kāi)壓縮空氣閥，氮?dú)忾y，NH3閥，SiH4閥。機(jī)器上壓縮空氣壓力應(yīng)在6kg/cm2—7kg/cm2。其他氣體為4kg/cm2—10kg/cm2范圍PECVD操作簡(jiǎn)介PECVD開(kāi)機(jī)第54頁(yè)/共92頁(yè)開(kāi)總電源。用手扳住電柜外部的紅色按鈕，順時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)90度。機(jī)器上指示燈

VAT控制器燈亮，可確定總電源已開(kāi)啟。該狀態(tài)為已經(jīng)扳過(guò)90度PECVD操作簡(jiǎn)介PECVD開(kāi)機(jī)第55頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD的操作流程戴好無(wú)紡布口罩戴好潔凈手套取來(lái)待鍍膜的硅片在刻蝕處檢查硅片數(shù)量把石墨舟推到潔凈工作臺(tái)下取出承片盒放入潔凈工作臺(tái)取出石英吸筆，并擦拭干凈把硅片一片片插入石墨舟內(nèi)注意硅片的擴(kuò)散方向一舟插完后，用小車推到設(shè)備的上料口對(duì)計(jì)算機(jī)進(jìn)行相應(yīng)的操作后，讓其自動(dòng)運(yùn)行工藝結(jié)束（鍍膜結(jié)束）開(kāi)門(mén)退舟（設(shè)備自動(dòng)運(yùn)行）待報(bào)警后，按退車按鈕退車把裝有石墨舟的小車推到冷卻房?jī)?nèi)進(jìn)行冷卻冷卻結(jié)束后，把小車推到插片房?jī)?nèi)卸片結(jié)束后，放入指定的承載盒內(nèi)把放滿的承載盒拿到絲網(wǎng)上料，準(zhǔn)備進(jìn)行印刷開(kāi)始卸片。注意工藝點(diǎn)的一致性第56頁(yè)/共92頁(yè)啟動(dòng)CMI程序。開(kāi)總電源后計(jì)算機(jī)自動(dòng)啟動(dòng)。輸入密碼后自動(dòng)進(jìn)入Windows桌面。用鼠標(biāo)左鍵雙擊“CMI”圖標(biāo)，啟動(dòng)CMI。進(jìn)入CMI畫(huà)面，檢查設(shè)備狀態(tài)：SLS=UP，DOOR=CLOSED，PLC=OK，LIFT=READY，TUBE=READY，TGAFREE=YESSET/ACTPOSITION=0，PROCFLAG=OK選擇工藝程序，生產(chǎn)。2PECVD操作簡(jiǎn)介第57頁(yè)/共92頁(yè)用手推車槳舟移動(dòng)到固定位置查看爐管的工作，并等待爐管的工作編寫(xiě)LOTNUMBER號(hào)，并用機(jī)械手放到要去的槳上，并將機(jī)械手回位將舟進(jìn)入到爐管內(nèi)第58頁(yè)/共92頁(yè)撤舟，撤舟的后關(guān)門(mén)運(yùn)行已經(jīng)調(diào)處的程序siNx鍍膜程序運(yùn)行完進(jìn)行吹掃沖氮?dú)獬分鄣却隣t管溫度均勻，此時(shí)沖氮?dú)獬檎婵眨诸A(yù)抽與主抽氨氣進(jìn)入，先輝光放電

通氨氣與硅烷停止通氨氣與硅烷，通入氮?dú)?/p>

抽真空

通氮?dú)獾酱髿鈮旱?9頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD關(guān)機(jī)檢查確認(rèn)生產(chǎn)已完畢。機(jī)器中舟已卸出。PECVD每個(gè)真空管壓力設(shè)定為10000mToor,等每管實(shí)際壓力達(dá)到10000mToor。關(guān)閉CMI程序。再關(guān)計(jì)算機(jī)。關(guān)主電源。用手扳住電柜外部的紅色按鈕，逆時(shí)針?lè)较蜣D(zhuǎn)90度。關(guān)閉氣源。注意：除N2外關(guān)閉所有氣體。關(guān)閉冷卻水。等待二十分鐘后關(guān)閉冷卻水。先關(guān)進(jìn)水，再關(guān)出水。關(guān)閉真空泵。按壓真空泵面板“OFF”按鈕停泵。等待20分鐘后關(guān)閉冷卻水和N2閥第60頁(yè)/共92頁(yè)工藝氣體特點(diǎn)介紹從上面的工藝氣體的反應(yīng)來(lái)看,對(duì)于硅烷和氨氣的鍵能來(lái)看,氨氣的鍵能大于硅烷的鍵能,所以在輝光放電時(shí),要先通氨氣,在通硅烷,這樣才能使之共同進(jìn)行輝光放電.第61頁(yè)/共92頁(yè)硅烷SiH4危險(xiǎn)性概述爆炸危險(xiǎn)：易燃，暴露在空氣中能自燃。健康危害：吸入硅烷蒸氣后，引起頭痛、頭暈、發(fā)熱、惡心、多汗，嚴(yán)重者面色蒼白，脈搏微弱，陷入半昏迷狀態(tài)。脫離現(xiàn)場(chǎng)至空氣新鮮處，保持呼吸道通暢，必要時(shí)進(jìn)行人工呼吸，就醫(yī)。第62頁(yè)/共92頁(yè)消防措施危險(xiǎn)特性：易燃，遇明火、高熱極易燃燒，暴露在空氣中能自燃，與氟、氯等發(fā)生劇烈的化學(xué)反應(yīng)。滅火方法：切斷氣源，若不能立即切斷氣源，則不允許熄滅正在燃燒的氣體，噴水冷卻容器，可能的話將容器從火場(chǎng)移至空曠處。滅火劑：二氧化碳。硅烷SiH4第63頁(yè)/共92頁(yè)泄漏應(yīng)急處理迅速撤離泄漏污染區(qū)，人員至上風(fēng)處，并隔離至氣體散去，切斷火源。建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿一般消防護(hù)服，切斷氣源，噴灑霧狀水稀釋、抽排(室內(nèi))或強(qiáng)力通風(fēng)(室外)。如有可能，將殘余氣或漏出氣用排風(fēng)機(jī)送至水洗塔或與塔相連的通風(fēng)櫥內(nèi)，漏氣容器不能再用，且要經(jīng)過(guò)技術(shù)處理，以除去可能剩下的氣體。硅烷SiH4第64頁(yè)/共92頁(yè)爆炸危險(xiǎn)：易燃，能與空氣混合形成爆炸性氣體，遇明火及高熱會(huì)燃燒、爆炸。健康危害：低濃度氨對(duì)粘膜有刺激作用，高濃度可造成組織溶解壞死。急性中毒：輕度者出現(xiàn)眼淚、咽痛、聲音嘶啞、咳嗽、咯痰等，眼結(jié)膜、鼻粘膜、咽部充血、水腫、胸部X線癥象符合支氣管炎或支氣管周圍炎。中度中毒：上述癥狀加重，出現(xiàn)呼吸困難、紫紺、胸部X線癥象符合肺炎或間質(zhì)性肺炎，嚴(yán)重者可發(fā)生中毒性肺水腫，或有呼吸道窘迫綜合癥，患者劇烈咳嗽，咯大量粉紅色泡沫痰，呼吸窘迫，譫意、昏迷、休克，可發(fā)生喉頭水腫或支氣管粘膜壞死脫落窒息，高濃度NH3可引起反射性呼吸停止。濃氨或高濃度氨可致眼灼傷，濃氨可致皮膚灼傷。氨氣NH3第65頁(yè)/共92頁(yè)環(huán)境危害：對(duì)環(huán)境有嚴(yán)重危害，應(yīng)特別注意對(duì)地表水、土壤、大氣和飲用水的污染。皮膚接觸：立即脫去被污染的衣著，應(yīng)用2%硼酸液或大量清水沖洗，就醫(yī)。眼睛接觸：立即提起眼瞼，用大量流動(dòng)清水或生理鹽水徹底清洗，至少15分鐘，就醫(yī)。吸入：迅速脫離現(xiàn)場(chǎng)至空氣新鮮處，保持呼吸道通暢，如呼吸困難，給輸氧；如呼吸停止，立即進(jìn)行人工呼吸，就醫(yī)。危險(xiǎn)特性：易燃，與空氣混合能形成爆炸性混合物，遇明火、高熱能引起燃燒、爆炸，與氟、氯等接觸會(huì)發(fā)生劇烈的化學(xué)反應(yīng)，若遇高熱，容器內(nèi)壓增大，有開(kāi)裂和爆炸的危險(xiǎn)。氨氣NH3第66頁(yè)/共92頁(yè)滅火方法:消防人員必須穿戴全身防火防毒服，切斷氣源，若不能立即切斷氣源，則不允許熄滅正在燃燒的氣體，噴水冷卻容器，可能的話將容器從火場(chǎng)移至空曠處。滅火劑：霧狀水、抗溶性泡沫、二氧化碳、砂土.氨氣NH3第67頁(yè)/共92頁(yè)泄漏應(yīng)急處理迅速撤離泄漏污染區(qū)，人員至上風(fēng)向，并立即隔離150米，嚴(yán)格限制出入，切斷火源，建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器，穿防毒服，盡可能切斷泄漏源，合理通風(fēng)，加速擴(kuò)散，高濃度泄漏區(qū)，噴含HCl的噴霧水中和、稀釋、溶解，構(gòu)筑圍堤或挖坑收容產(chǎn)生的大量廢水。如可能將殘余氣或漏出氣體用排風(fēng)機(jī)送至水洗塔或與塔相連的通風(fēng)櫥內(nèi)。儲(chǔ)罐區(qū)最好設(shè)稀酸噴灑設(shè)施。漏氣容器要妥善處理，修復(fù)，檢驗(yàn)后再用。氨氣NH3第68頁(yè)/共92頁(yè)Si3N4的認(rèn)識(shí):Si3N4膜的顏色隨著它的厚度的變化而變化，其理想的厚度是73—77nm之間，表面呈現(xiàn)的顏色是深藍(lán)色，Si3N4膜的折射率在1.9—2.1之間為最佳，與酒精的折射率相乎，通常用酒精來(lái)測(cè)其折射率。

Si/N比對(duì)SiNx薄膜性質(zhì)的影響:

電阻率隨x增加而降低

折射率n隨x增加而增加

腐蝕速率隨密度增加而降低鍍膜的作用與膜的要求第69頁(yè)/共92頁(yè)SiNx的優(yōu)點(diǎn)：

優(yōu)良的表面鈍化效果;

高效的光學(xué)減反射性能（厚度折射率匹配）低溫工藝（有效降低成本）;

反應(yīng)生成的H離子對(duì)硅片表面進(jìn)行鈍化.Si3N4膜的作用:

減少光的反射:良好的折射率和厚度可以促進(jìn)太陽(yáng)光的吸收。

防氧化:結(jié)構(gòu)致密保證硅片不被氧化。第70頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD機(jī)械手操作界面第71頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD整個(gè)程序的運(yùn)行過(guò)程中的控制第72頁(yè)/共92頁(yè)影響PECVD膜的因素沉積溫度沉積壓強(qiáng)氣體流量、比例微波功率：最大功率，ton，toff傳輸速度第73頁(yè)/共92頁(yè)微波功率：較高的P-mean－稍微提高沉積速率。P-peak－調(diào)整等離子體分布長(zhǎng)度。

壓強(qiáng)：較高壓強(qiáng)－較低的沉積速率。

溫度：較高溫度－稍微降低沉積速率。

氣流量：較高氣流量－較高的沉積速率。氣體比例：更多SiH4－提高折射率。各個(gè)條件影響分析第74頁(yè)/共92頁(yè)1影響PECVD膜厚的有

程序運(yùn)行時(shí)間太長(zhǎng)

爐內(nèi)的壓力太大

輝光放電時(shí)的電壓太大

真空度有泄露

去PSG清洗不干凈2影響鍍膜的薄的原因有

程序運(yùn)行時(shí)間短

爐內(nèi)的壓力小

輝光放電時(shí)的電壓小

氣體流量少3影響膜的折射率低的原因有

氣體流量不穩(wěn)定影響膜不均勻的主要因素第75頁(yè)/共92頁(yè)4影響電池片在片內(nèi)不均勻的有輝光放電時(shí)電壓控制不準(zhǔn)確、氣體流量不準(zhǔn)確爐內(nèi)氣體壓強(qiáng)不準(zhǔn)確真空有泄露舟已經(jīng)超過(guò)最大位置槳上的舟已經(jīng)丟失5電池片上沒(méi)有膜的出現(xiàn)輝光放電的電極關(guān)閉沒(méi)有氣體流過(guò)第76頁(yè)/共92頁(yè)更改資料

打開(kāi)SETUP菜單，點(diǎn)擊BOAT更改或刪除舟的資料。選擇你要更改或刪除的舟的資料。輸入密碼后顯示〔設(shè)定〕Setboatactactiveforhandling.〔刪除〕Deleteloadinformationofthisboat選擇Deleteloadinformationofthisboat.刪除石墨舟的信息第77頁(yè)/共92頁(yè)更改資料選擇Setboatactactiveforhandling點(diǎn)擊NEXT在BOATID

中更改舟號(hào)，在PROCESSTUBE中選擇運(yùn)行工藝的管號(hào)。點(diǎn)擊NEXT在Actualboatlocation中選擇舟的實(shí)際的位置，在BOATSTATE—NOTACTIVE中選擇舟的狀況。點(diǎn)擊NEXT在Recipe中選擇工藝文件，在Lotsinboat中輸入操作者。點(diǎn)Finish完成設(shè)定。第78頁(yè)/共92頁(yè)厚度的均勻性(nominal約75nm)同一硅片+/-5%同一片盒內(nèi)的硅片+/-5%不同片盒內(nèi)的硅片+/-5%折射率(nominal約2.05)同一硅片+/-0.5%同一片盒內(nèi)的硅片+/-0.5%不同片盒內(nèi)的硅片+/-0.5%PECVD對(duì)膜的要求第79頁(yè)/共92頁(yè)第80頁(yè)/共92頁(yè)第81頁(yè)/共92頁(yè)P(yáng)ECVD安全注意事項(xiàng)人身安全舟和槳從爐管中出來(lái)后帶有高溫，移動(dòng)小車時(shí)要注意不要被燙傷。機(jī)器在自動(dòng)運(yùn)行狀態(tài)下嚴(yán)禁進(jìn)入機(jī)器內(nèi)部。進(jìn)入機(jī)器前，需把選擇開(kāi)關(guān)打到手動(dòng)“HAND”，待機(jī)械手執(zhí)行完命令停下后，方可進(jìn)入機(jī)器。清理管內(nèi)碎片時(shí)需戴上高溫手套和防護(hù)眼鏡。接觸到碎片時(shí)，務(wù)必戴好乳膠手套，以防刺到手。做吸筆時(shí)，要防止吸筆切斷的部分對(duì)自己或他人造成傷害。上班要精神飽滿，動(dòng)作嚴(yán)禁“自主創(chuàng)新”，必須按章操作第82頁(yè)/共92頁(yè)

設(shè)備設(shè)施工夾具的安全機(jī)器在生產(chǎn)的過(guò)程中需有人看護(hù)。未經(jīng)培訓(xùn)合格不得操作設(shè)備，未經(jīng)授權(quán)嚴(yán)禁使用工序長(zhǎng)得權(quán)限操作機(jī)器。推小車進(jìn)機(jī)器時(shí)，要首先確定電極孔的位置對(duì)內(nèi)向爐體，否則有可能撞壞高頻的兩根電極。在SLS處于UP位置時(shí)，管內(nèi)有舟不可手動(dòng)進(jìn)槳。在SLS處于DOWN位置時(shí)，槳上有舟不得手動(dòng)進(jìn)舟。槳上有舟時(shí)，舟不在正確位置，不準(zhǔn)切換到自動(dòng)運(yùn)行狀態(tài)。

PECVD安全注意事項(xiàng)第83頁(yè)/共92頁(yè)舟位于儲(chǔ)存架時(shí)