SPOS技術(shù)在半導(dǎo)體CMP制程中的應(yīng)用精_第1頁
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#SPOS技術(shù)在半導(dǎo)體CMP制程中的應(yīng)用摘要:使用單粒子光學(xué)傳感技術(shù)進行粒徑分析,具有高分辨率和精確度的特點,將其與激光衍射等整體檢測技術(shù)進行比較,應(yīng)用實例,說明了單粒子光學(xué)傳感技術(shù)對半導(dǎo)體CMP制程的必要性。關(guān)鍵詞:單粒子光學(xué)傳感技術(shù);高分辨率;激光衍射;化學(xué)機械研磨;粒徑分析High-SensitivityParticleSizeAnalysisofColloidalSuspensions(CMPSlurries)bySPOS:WhereLessBecomesMoreAbstract:Thetechniqueofsingleparticleopticalsensing(SPOS)offershighresolutionandsensitivityinparticlesizeanalysiscomparedwithensembletechniqueslikeLaserDiffraction,givesanumberofsamples,describesthenecessityofusingSPOSinCMPprocess.Keywords:SingleParticleOpticalSensing(SPOS);Highresolution;LaserDiffraction;CMP;Particlesizeanalysis膠體混懸液與分散體有著十分廣泛應(yīng)用領(lǐng)域,而決定這些體系質(zhì)量和穩(wěn)定性的重要因素就是其內(nèi)部的粒徑分布,因而準(zhǔn)確掌握這些體系的粒徑分布特征就能確保其在廣泛領(lǐng)域的成功應(yīng)用。相對于一些整體檢測技術(shù),如:激光衍射技術(shù)與超聲衰減技術(shù),單粒子光學(xué)傳感技術(shù)(SingleParticleOpticalSensing,SPOS)在分辨率與精確度方面取得了重大的突破。因此,對多種混懸液和分散體的質(zhì)量與穩(wěn)定性的研究,如:濃縮飲料、傳遞藥物與營養(yǎng)用的水包油乳劑,包衣與粘合用的高分子分散體及半導(dǎo)體CMP制程中使用的slurry等,SPOS方法更有價值。粒徑分析的重要性對多數(shù)膠體混懸液來說,絕大多數(shù)粒子的粒徑小于1gm,典型的平均粒徑范圍(體積/重量分布)為0.1~0.3Mmo然而我們希望得到的是粒徑大于1gm或0.5gm這段量極少且易被忽略的粒子的信息,因為這段偏離主體的尾部粒子決定了膠體乳液或分散體的質(zhì)量和穩(wěn)定性。SPOS應(yīng)用的一個典型例子是半導(dǎo)體制程中的一個工藝過程一化學(xué)機械研磨,即稱CMP。CMPslurry的主要組成是氧化物,包括二氧化硅、氧化鋁或氧化鈰,另外還有一些專屬性添加劑。當(dāng)硅片表面經(jīng)過特定沉積或蝕刻處理后,需用CMPslurry研磨或拋光。通過機械研磨或化學(xué)蝕刻除去表面被覆的部分氧化物或金屬。為獲得超大規(guī)模集成(verylargescaleintegrated,VLSI)電路的高成品率,CMPslurry在拋光過程中決不能引進刮痕或其它缺陷。因此,在粒徑分布圖中監(jiān)測粒子的聚集程度及尾部大粒子的分布信息,對于控制質(zhì)量至關(guān)重要。膠體混懸液或分散體本質(zhì)上皆是不穩(wěn)定體系,有許多因素包括:稀釋與pH突變導(dǎo)致的電荷穩(wěn)定作用降低;兩種組分不適當(dāng)?shù)幕旌?;泵、濾器及管路給予的剪切力;溫度的變化;污染物的引入;貯存期的沉淀等等,皆可加速其粒子聚集。傳統(tǒng)的激光衍射的分析方法早期因為激光衍射儀分析具有動態(tài)粒徑范圍廣(0.1?1000Rm)、檢測時間短及重現(xiàn)性高等特點,所以常用來檢測CMPslurry的粒徑分布特征。激光衍射儀的工作原理是基于不同性質(zhì)的兩個物理量:Fraunhofer衍射(氏2口口卜0£?「diffraction,FD)與Mie散射(Miescattering,MS)。理論上講,對于特定粒徑的粒子,激光衍射會產(chǎn)生一個明暗相間的衍射環(huán)。衍射環(huán)的位置及相鄰光環(huán)間的距離與粒子的粒徑成反比。但是對于粒徑小于2gm的粒子,衍射環(huán)就檢測不到,此時必須以另一種的方法,即MS。該方法描述了一個特定粒子由于各點散射光波的相互干涉導(dǎo)致的大角散射的改變,而這種散射角度的變化不僅取決于粒子粒徑與激光波長,還與粒子的吸光性質(zhì)與折射率有關(guān)。遺憾的是,由于LD技術(shù)綜合了上述兩種物理量的性質(zhì)而限制了儀器的分辨率與靈敏度,也就是說,無論是FD產(chǎn)生的衍射環(huán)的大小與亮度,還是MS帶來的大角散射的變化情況,都是同一時間所有粒徑的粒子產(chǎn)生的單個衍射和/或散射響應(yīng)信號的疊加。所以,這些FD和MS響應(yīng)信號的組合,必須先經(jīng)過一些適當(dāng)?shù)姆绞胶喜?,然后通過相應(yīng)的數(shù)學(xué)運算方法將其轉(zhuǎn)化,目的是得到相對精確且接近真實的粒徑分布圖。眾所周知,任何數(shù)學(xué)運算其本身都有一定的不足,因而在給出粒徑分布圖時將會產(chǎn)生無法避免的誤差與假象。對超小微粒的膠體混懸液與分散體,激光衍射儀對粒徑分布圖中相對較少的尾部大粒子不敏感,而正是這部分粒子對超小微粒的混懸液/分散體至關(guān)重要。舉例來說,“好”與“壞”的CMPslurry間的光散射強度和/或光衍射強度的信號凈變化值很小,小到使用現(xiàn)有的數(shù)學(xué)轉(zhuǎn)換技術(shù)都不能提供可靠的結(jié)果。不幸的是,這少部分“尾部”大粒子分布才能提供CMPslurry是否“安全”的關(guān)鍵性信息。高分辨率和精確度的 技術(shù)相對而言,SPOS技術(shù)對粒子的信號響應(yīng)方式是信號與特定粒子相對應(yīng)的。信號為每一粒子相應(yīng)產(chǎn)生的一定強度的脈沖,而不需要進行轉(zhuǎn)化。粒徑分布圖中的信號直接來自于每次一個粒子的快速檢測(<10,000/sec)。以SPOS為基礎(chǔ)的AccuSizer780粒徑檢測系統(tǒng)(ParticleSizingSystems,SantaBarbara,CA)對濃縮混懸液進行自動稀釋(專利),以確保粒徑在量程范圍內(nèi)的粒子(>0.5|dm)逐個通過光學(xué)傳感器,因而避免粒子重疊并在粒徑分布圖中產(chǎn)生假象。AccuSizer780中的傳感器通過兩種不同性質(zhì)的物理作用(專利)一光消減(lightextinction,LE)與光散射(lightscattering,LS)對通過傳感器的粒子進行測定。光消減技術(shù)檢測通過流動池的光強變化,擁有檢測粒子的粒徑范圍廣且與粒子組份無關(guān)等優(yōu)點。然而,它的靈敏度有限,對于通過橫切面為400Xl000Nm的流動池所能檢測到的最小粒子粒徑為1.3gmo另一方面,光散射技術(shù)具有相對窄的動態(tài)粒徑范圍(取決于檢測器/放大器的飽和值),但能檢測到0.5|dm粒徑的粒子,使用大功率激光光源還能檢測到粒徑更小的粒子。通過合并光消減和光散射響應(yīng)信號,傳感器可同時擁有這兩種方法的優(yōu)點,因而在不損失單粒子分辨率巨大優(yōu)勢的前提下?lián)碛邢鄬^廣的動態(tài)粒徑范圍(即0.5?400Mm)?;赟POS技術(shù)獲得的粒徑分布來自于每一個粒子,因而從根本上杜絕了儀器的不穩(wěn)定性和嚴(yán)重假象的實驗結(jié)果,而這在使用光衍射型儀器時經(jīng)常發(fā)生。由于對單個粒子進行檢測,SPOS技術(shù)對影響CMPslurry質(zhì)量的粒子(如粒徑0.5?20^m)提供了極高的分辨率和靈敏度。當(dāng)然,SPOS方法對CMPslurry的絕大部分(體積比,99.9%)粒徑小于0.5gm的粒子沒有響應(yīng)。這絕大部分粒子在CMP過程中不會對晶片表面造成損害。所以,觀察粒徑分布圖中的很少一部分尾部的大粒子分布,就可獲得許多與CMPslurry“安全性”有關(guān)的信息。在制程中的實例圖1a顯示的是通過SPOS技術(shù)檢測兩份氧化鈰CMPslurry樣品得到的總體粒徑分布圖,由圖可知slurryl的分布較好,而slurry2在容器底部產(chǎn)生沉淀,可視為其不穩(wěn)定。很明顯,slurry2在每一個粒徑通道比slurryl有更多的粒子。這一差異在體積一重量分布圖中表現(xiàn)的更明顯,如圖1b所示。對slurry2來說,粒徑大于2gm的粒子占據(jù)了尾部(粒徑>1]dm)固體粒子體積的大部分。此外,使用SPOS技術(shù)能夠計算出任一特定粒徑范圍內(nèi)被檢測粒子體積的絕對百分比。在slurryl中,粒徑大于1gm的粒子的體積占所有slurry中粒子體積總和的0.25%,而在slurry2中,此值上升為0.68%。這些結(jié)果與實驗現(xiàn)象一致:slurry2比slurryl有更顯著的聚集。雖然對于每一份slurry來說,位于粒徑分布圖尾部的粒子其絕對體積很小,但是它們對slurry性能的影響卻是巨大的。Figure1:a.PopulationDistributionsofCeriumOxideSlurry1(circles)andSlurry2(triangles);b.Volume-WeightedPSDsforSlurry1andSlurry2.圖2a,b顯示的是通過激光衍射對兩

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