本規(guī)范組織單位、主編單位、參編單位、主要起草人和主要審查人：中聯(lián)西北工程設(shè)計研究院中國聯(lián)合工程公司中國航空規(guī)劃建設(shè)發(fā)展有限公司中機國際工程設(shè)計研究院北方設(shè)計研究院中國電子工程設(shè)計院主要起草人：張軍鋒徐永民郭偉華于寒松主要審查人：胡曉東王維平崔小英周承志趙肇一彭吉興王衛(wèi)政趙興建吳玉華陳士洪阮建林韓永鋒樊振江徐經(jīng)策 2術(shù)語和符號 2.1術(shù)語 2.2符號 3基本規(guī)定 4鍍件的清洗 5化學(xué)處理法 5.1含氰廢水 5.2含鉻廢水 6離子交換處理法 6.1含鎳廢水 6.2含金廢水 7電解處理法 8內(nèi)電解處理法 8.1連續(xù)式處理 8.2間歇式處理 8.3工藝參數(shù) 10廢水處理站設(shè)計 3 1.0.1為貫徹執(zhí)行國家有關(guān)環(huán)境保護(hù)的法律、法規(guī)，使電鍍廢水治理工程設(shè)計達(dá)到防治污染、保護(hù)和改善環(huán)境的要求，并做到技術(shù)1.0.2本規(guī)范適用于新建、擴建和改建的電鍍廢水治理工程的設(shè)計。1.0.3在選擇電鍍廢水治理工程設(shè)計方案時，應(yīng)結(jié)合電鍍工藝、廢水排放條件、環(huán)境保護(hù)要求等具體情況，經(jīng)全面技術(shù)經(jīng)濟比較后確定。1.0.4電鍍廢水治理工程設(shè)計應(yīng)采用新技術(shù)、新工藝、新材料和新設(shè)備，并應(yīng)采用自動化控制和監(jiān)測，嚴(yán)禁采用國家明令淘汰的工1.0.5電鍍廢水治理工程的設(shè)計除應(yīng)符合本規(guī)范外，尚應(yīng)符合國家現(xiàn)行有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定。32.1.1含鉻廢水chromium-containingwastewater電鍍生產(chǎn)工藝中排放的廢水中含有六價鉻離子。2.1.2含氰廢水cyanide-containingwastewater電鍍生產(chǎn)工藝中排放的廢水中含氰離子。2.1.3混合廢水mixedwastewater電鍍生產(chǎn)工藝中排放的廢水中含多種金屬離子、酸和堿。2.1.4廢液wasteelectrobath電鍍生產(chǎn)工藝中因不能滿足工藝要求而廢棄的溶液。2.1.5鍍液electrobath電鍍生產(chǎn)工藝中使用的各類配制液體。2.1.6電解處理法electrolytictreatmentmethod利用電解反應(yīng)處理廢水的方法。2.1.7電流密度currentdensity陽極或陰極通過的電流與極板或工件表面積之比。2.1.8極距electrodedistance電解槽內(nèi)相鄰兩塊陽、陰極板間的凈距離。2.1.9雙極性電極bipolarelectrode一個不與外電源相連的浸入陽極與陰極間電解液中的導(dǎo)體，靠近陽極一邊起著陰極的作用，靠近陰極一邊起著陽極的作用，即同一塊極板一面是陽極而另一面是陰極。2.1.10內(nèi)電解法internal-electrolysistreatmentmethod利用鐵-碳在電解質(zhì)溶液中腐蝕形成的內(nèi)電解過程來處理廢水的電化學(xué)方法。2.1.11有價金屬valuablemetal有回收價值的金屬。d——鍍液帶出量；E——交換容量；Mx——電極析出金屬量；P——發(fā)射功率X——鍍件溶液帶出量與換水量之比；μ—離子交換柱空間流速。33.0.1鍍件用水清洗時，應(yīng)選用清洗效率高、用水量少和能回用鍍件帶出液的清洗工藝。3.0.2電鍍工藝的設(shè)計宜采用低濃度鍍液，并應(yīng)采取減少鍍液帶出量的措施。鍍件單位面積的鍍液帶出量應(yīng)通過試驗確定，當(dāng)無試驗條件時，可按本規(guī)范附錄A的規(guī)定確定。3.0.3回收槽或第一級清洗槽的清洗水水質(zhì)應(yīng)符合電鍍工藝要求。當(dāng)回收槽內(nèi)主要金屬離子濃度達(dá)到回用程度時，宜補入鍍槽回用。當(dāng)回用液對鍍液質(zhì)量產(chǎn)生影響時，應(yīng)采用過濾、離子交換等方法凈化后再回用。3.0.4末級清洗槽中主要的金屬離子允許濃度宜根據(jù)電鍍工藝1中間鍍層清洗為5mg/L～10mg/L。2最終鍍層清洗為20mg/L～50mg/L。3.0.5當(dāng)電鍍槽鍍液蒸發(fā)量與清洗用水量相平衡時，宜采用自然封閉循環(huán)工藝流程；當(dāng)蒸發(fā)量小于清洗用水量時，可采用強制封閉循環(huán)工藝流程。鍍液蒸發(fā)量宜通過試驗確定。3.0.6鍍件預(yù)處理的清洗，宜采用串聯(lián)清洗工藝流程，其酸洗清洗水可復(fù)用于堿洗清洗水。3.0.7廢液不應(yīng)直接進(jìn)入廢水處理系統(tǒng)。3.0.8含氰廢水、含鉻廢水、含有價金屬的廢水應(yīng)分質(zhì)分管排至廢水處理站處理。3.0.9含氰廢水嚴(yán)禁與酸性廢水混合。3.0.10廢水與投加的化學(xué)藥劑混合、反應(yīng)方式可采用機械、水力或空氣。當(dāng)廢水含有氰化物或所投加的藥劑在反應(yīng)過程中產(chǎn)生有害氣體時，不宜采用空氣攪拌。3.0.11當(dāng)廢水需要進(jìn)行過濾時，濾料層的沖洗排水應(yīng)排入調(diào)節(jié)3.0.12廢水中同時含有氰化物和六價鉻處理六價鉻。3.0.13采用離子交換法處理某一鍍種的清洗廢水時，不應(yīng)混入其他鍍種或地面散水等廢水。當(dāng)離子交換樹脂的洗脫回收液回用于鍍槽時，不得混入不同鍍液配方的廢水。3.0.14進(jìn)入離子交換柱的廢水，其懸浮物濃度不應(yīng)超過15mg/L,當(dāng)超過時，在進(jìn)入離子交換柱前應(yīng)進(jìn)行預(yù)處理。3一級清洗槽鍍槽一級清洗槽鍍槽n級清洗槽二級清洗槽4鍍件的清洗4.1回收清洗法4.1.1回收清洗法，可采用圖4.1.1的基本工藝流程。工藝流程中的一級或二級回收槽的設(shè)置，應(yīng)根據(jù)回收槽的最高允許濃度確定?；厥找簯?yīng)回用。二級回收槽級回收槽清洗槽鍍槽4.1.2回收清洗法，鍍件單位面積的清洗用水量宜小于100L/m3。4.2連續(xù)逆流清洗法4.2.1連續(xù)逆流清洗法可采用圖4.2.1的基本工藝流程。末級清洗槽廢水濃度不得超過允許濃度。4.2.2連續(xù)逆流清洗法的小時清洗用水量可按下式計算，并應(yīng)以小時電鍍鍍件面積的產(chǎn)量進(jìn)行復(fù)核，其鍍件單位面積的清洗用水量應(yīng)小于50L/m2:d——單位時間鍍液帶出量(L/h);n——清洗槽級數(shù)：Co——電鍍槽鍍液中金屬離子濃度(mg/L);Cn——末級清洗槽廢水中金屬離子濃度(mg/L);S濃度修正系數(shù)，指每級清洗槽的理論計算濃度與實測濃度的比值。4.2.3濃度修正系數(shù)宜通過試驗確定，當(dāng)無試驗條件時，可按表4.2.3的規(guī)定確定。123454.2.4連續(xù)逆流清洗的各級清洗槽之間應(yīng)設(shè)置溢流擋板、溢流窄縫、溢流導(dǎo)管等防止水流短路的措施。清洗槽底部宜設(shè)置排空管。4.3間歇逆流清洗法4.3.1間歇逆流清洗法可采用圖4.3.1的基本工藝流程。當(dāng)末級清洗槽廢水濃度達(dá)到允許濃度時，應(yīng)逆流逐級全部換水或部分換水。3n級清洗槽n級清洗槽二級清洗槽級清洗槽鑊槽圖4.3.1間歇逆流清洗法的基本工藝流程4.3.2間歇逆流清洗法每清洗周期換水量可按下列公式計算，并應(yīng)以每周期電鍍鍍件面積的產(chǎn)量進(jìn)行復(fù)核，其鍍件單位面積的清洗用水量的計算結(jié)果不應(yīng)大于30L/m2:式中：q?——每清洗周期換水量(L);X鍍件溶液帶出量與換水量之比；T-——清洗周期(h);n!——清洗槽級數(shù)階乘；(4.3.2-1)S濃度修正系數(shù)。4.3.3濃度修正系數(shù)宜通過試驗確定，當(dāng)無條件試驗時，可按表4.3.3的規(guī)定確定。表4.3.3濃度修正系數(shù)123454.4反噴洗清洗法4.4.1反噴洗清洗法可采用圖4.4.1的基本工藝流程。鍍件每次浸洗后應(yīng)用后一級槽的清洗水進(jìn)行反噴洗，鍍件從末級清洗槽提出時，宜用補充水噴洗。所有清洗和噴洗應(yīng)采用自動控制，并應(yīng)與電鍍自動生產(chǎn)線相協(xié)調(diào)。水水補n級清洗槽二級清洗槽級清洗槽鍍槽圖4.4.1反噴洗清洗法的基本工藝流程4.4.2反噴洗清洗法，鍍件單位面積的清洗用水量宜通過試驗確定，且不宜大于10L/m2。4.4.3反噴洗清洗法的噴洗泵取水口高度宜設(shè)在槽體中下部。4.5超聲波清洗法4.5.1超聲波清洗采用的功率密度宜通過試驗確定，也可按下式計算確定，且不宜小于0.5W/cm2:4.5.2超聲波發(fā)生器的發(fā)射功率宜通過試驗確定，亦可按鍍件清洗槽容積進(jìn)行計算，其單位容積的發(fā)射功率值宜為15W/L。35化學(xué)處理法5.1.1化學(xué)法處理含氰廢水宜采用堿性氯化法，其廢水中氰離子的濃度不宜大于50mg/L。5.1.2采用堿性氯化法處理含氰廢水時，應(yīng)避免鐵、鎳離子混入含氰廢水處理系統(tǒng)。5.1.3堿性氯化法處理含氰廢水應(yīng)采用二級氧化處理，當(dāng)受納水體的水質(zhì)許可時，可采用一級氧化處理，5.1.4采用二級氧化處理含氰廢水時，可采用圖5.1.4的基本工藝流程。第一級氧化和第二級氧化所需氧化劑應(yīng)分階段投加，pH]調(diào)節(jié)池酸5.1.5采用一級氧化處理含氰廢水時，可采用圖5.1.5的基本工藝流程。采用間歇式處理，當(dāng)設(shè)置兩格反應(yīng)沉淀池交替使用時，可不設(shè)調(diào)節(jié)池不設(shè)調(diào)節(jié)池調(diào)節(jié)池堿5.1.6含氰廢水經(jīng)氧化處理后，應(yīng)根據(jù)其含其他污染物的情況進(jìn)行后續(xù)處理。5.1.7處理含氰廢水的氧化劑可采用次氯酸鈉、漂白粉和二氧化氯等。氧化劑的投入量應(yīng)通過氧化還原電位控制；也可按氰離子與活性氯的質(zhì)量比計算確定，采用一級氧化處理時，質(zhì)量比宜為1:3～1:4;采用二級氧化處理時，質(zhì)量比宜為1:7~5.1.8采用一級氧化處理含氰廢水時，當(dāng)采用次氯酸鈉、漂白粉作氧化劑，反應(yīng)過程pH值宜控制為10～11,當(dāng)采用二氧化氯作氧化劑，反應(yīng)過程pH值宜控制為11～11.5;當(dāng)采用次氯酸鈉、二氧化氯作氧化劑，反應(yīng)時間宜為10min～15min,當(dāng)采用漂白粉干投時，反應(yīng)時間宜為30min～40min。采用二級氧化處理含氰廢水，第二級氧化反應(yīng)過程pH值宜控制為6.5～7.0,反應(yīng)時間宜為10min～15min。5.1.9連續(xù)處理含氰廢水時，反應(yīng)pH值的控制和氧化劑的投藥量應(yīng)采用在線自動監(jiān)控和自動加藥系統(tǒng)，第一級氧化階段氧化還原電位應(yīng)為300mV～350mV,第二級氧化階段氧化還原電位應(yīng)5.1.10反應(yīng)池應(yīng)采取防止有害氣體逸出的封閉和通風(fēng)措施。I鐵氧體法處理含鉻廢水5.2.1鐵氧體法處理含鉻廢水，其廢水中六價鉻離子濃度宜大于5.2.2采用間歇式處理含鉻廢水時，可采用圖5.2.2的基本工藝流程。3反應(yīng)沉淀池鐵氧體脫水調(diào)節(jié)池轉(zhuǎn)化槽堿5.2.3采用連續(xù)式處理含鉻廢水時，可采用圖5.2.3的基本工藝流程。池鐵氧體脫水調(diào)節(jié)池反應(yīng)池轉(zhuǎn)化槽沉淀堿5.2.4處理含鉻廢水的還原劑應(yīng)采用硫酸亞鐵，且應(yīng)采用濕5.2.5硫酸亞鐵的投入量應(yīng)按六價鉻離子與七水合硫酸亞鐵的1當(dāng)廢水中六價鉻離子濃度小于25mg/L時，應(yīng)為1:40~2當(dāng)廢水中六價鉻離子濃度為25mg/L～50mg/L時，應(yīng)為1:35～1:40。4當(dāng)廢水中六價鉻離子濃度大于100mg/L時，應(yīng)為1:30。2硫酸亞鐵與廢水混合反應(yīng)均勻后，應(yīng)將pH值調(diào)整至?xí)r間宜為5min～10min。3當(dāng)廢水中六價鉻離子濃度大于50mg/L時，通氣時間宜為沉淀時間可采用40min～60min,相應(yīng)的污泥體積宜為處理廢水體積的25%～30%。5.2.9污泥轉(zhuǎn)化成鐵氧體的加熱溫度宜為70℃~80℃。采用間5.2.10鐵氧體法間歇式處理含鉻廢水的一個處理周期宜為5.2.11亞硫酸鹽還原法處理含鉻廢水可采用圖5.2.11的基本3過濾過濾堿固液分離酸反應(yīng)池鹽酸硫亞調(diào)節(jié)池水廢鉻含5.2.12含鉻廢水量小于40t/d,且含六價鉻離子的濃度變化較大于或等于40t/d,且含六價鉻離子濃度變化幅度不大時，可采用1廢水反應(yīng)的pH值宜為2.5～3,氧化還原電位宜小于可按六價鉻離子與亞硫酸氫鈉的質(zhì)量比1:3.5～1:5投加。3亞硫酸鹽與廢水混合反應(yīng)時間宜為15min～30min。效容積宜為3h～4h的平均廢水量，反應(yīng)后的沉淀時間宜為Ⅲ槽內(nèi)處理法處理含鉻廢水5.2.16采用槽內(nèi)處理法處理含鉻廢水的工藝流程應(yīng)符合下列1在酸性條件下以亞硫酸氫鈉或水合肼為還原劑時，可采用圖5.2.16-1的基本工藝流程?；瘜W(xué)清洗槽宜根據(jù)還原劑失效控回收槽二級化學(xué)清洗槽水洗清清洗槽級化學(xué)清洗槽圖5.2.16-1酸性條件下槽內(nèi)法處理含鉻廢水的基本工藝流程2在堿性條件下以水合肼為還原劑時，可采用圖5.2.16-2的基本工藝流程槽化學(xué)清洗槽回收槽清洗35.2.17化學(xué)清洗液中的還原劑濃度、pH值應(yīng)符合下列規(guī)定：1當(dāng)采用亞硫酸氫鈉為還原劑時，清洗液中還原劑濃度宜為3g/L,pH值宜為2.5～3.0。2當(dāng)采用水合肼(有效濃度40%)為還原劑時，化學(xué)清洗液中還原劑濃度宜為0.5g/L～1.0g/L。用于鍍鉻清洗時，溶液的pH值宜為2.5～3.0;用于鈍化清洗時，溶液的pH值宜為8～9。5.2.18化學(xué)清洗槽的有效容積可按下式計算，并應(yīng)滿足鍍件對槽體尺寸的要求：d——單位面積鍍液帶出量(L/dm2);C?！厥詹廴芤褐辛鶅r鉻離子濃度(g/L);A——單位時間清洗鍍件面積(dm2/h);T—-使用周期，當(dāng)采用亞硫酸氫鈉為還原劑時，不宜超過72h;m還原1.0g六價鉻離子所需的還原劑量，亞硫酸氫鈉CR——化學(xué)清洗液中的還原劑濃度。5.2.19失效溶液處理槽的容積可按化學(xué)清洗槽的容積確定。5.3.1化學(xué)法處理含鎘廢水時，宜采用氫氧化物沉淀。廢水中鎘離子濃度不宜大于50mg/L。5.3.2采用氫氧化物沉淀處理含鎘廢水時，其廢水中不得含有氰化物。5.3.3化學(xué)法處理含鎘廢水可采用圖5.3.3的基本工藝流程。池反應(yīng)池沉淀池調(diào)節(jié)池過濾5.3.4廢水反應(yīng)的pH值應(yīng)大于或等于11。反應(yīng)的時間宜為10min~15min,反應(yīng)池宜設(shè)置機械攪拌或水力攪拌。5.4.1下列廢水不得排入混合廢水處理系統(tǒng)內(nèi)：1含各種絡(luò)合劑超過允許濃度的廢水。2含各種表面活性劑超過允許濃度的廢水。5.4.2化學(xué)法處理混合廢水宜采用連續(xù)式處理，且可采用圖5.4.2的基本工藝流程。堿堿調(diào)節(jié)池酸理過程中pH值應(yīng)控制在8～9,第二級處理過程中pH值應(yīng)控制在大于或等于11;混合廢水中不含有鎘、鎳離子時，應(yīng)采用一級3小于5mg/L時，應(yīng)以5mg/L計算；C?——廢水中除鉻和鐵離子以外的金屬離子濃度總和6離子交換處理法6.1.1離子交換法處理含鎳廢水，其鎳離子濃度不宜大于宜定期更換新水或連續(xù)補充新水，更換或補充的新水均應(yīng)采用6.1.5除鎳陽柱的設(shè)計數(shù)據(jù)可按本規(guī)范附錄B計算，并應(yīng)符合1樹脂飽和工作周期可按表6.1.5的規(guī)定采用。1)強酸性陽離子交換樹脂(鈉型)可采用0.5m～1.0m;2)弱酸性陽離子交換樹脂(鈉型)可采用0.5m～1.2m。3含量(mg/L)飽和工作周期(h)3流速可按下列規(guī)定采用1)強酸性陽離子交換樹脂宜小于或等于25m/h。2)弱酸性陽離子交換樹脂宜小于或等于15m/h。4廢水通過樹脂層的水頭損失可按下式計算：V廢水通過樹脂層的流速(m/h);H樹脂層高度(m);dp——樹脂的平均直徑(mm);y——水最低溫度時的運動粘滯系數(shù)(cm2/s);6.1.6除鎳陽柱的飽和工作終點，應(yīng)按進(jìn)、出水中的鎳離子濃度基本相等進(jìn)行控制。6.1.7除鎳陽柱的再生和淋洗采用強酸性陽離子交換樹脂時，宜1再生劑宜采用工業(yè)用無水硫酸鈉。2再生液濃度宜為1.1mol/L～1.4mol/L,并宜采用純水配制經(jīng)沉淀或過濾后使用。3再生液用量宜為樹脂體積的2倍。4再生液流出時的溫度宜高于20℃。5再生液流速宜為0.3m/h～0.5m/h。6淋洗水質(zhì)宜采用純水。7淋洗水量宜為樹脂體積的4倍～6倍。8淋洗流速開始時宜與再生流速相等，且宜逐漸增大到運行時流速。9淋洗終點宜以淋洗時進(jìn)、出水中硫酸鈉濃度相等進(jìn)行控制。10反沖時樹脂層膨脹率宜為30%～50%。6.1.8除鎳陽柱的再生和淋洗采用弱酸性陽離子交換樹脂時，宜符合下列規(guī)定：1)再生劑宜采用化學(xué)純硫酸。2)再生液濃度宜為1.0mol/L～1.5mol/L,并采用純水3)再生液用量宜為樹脂體積的2倍。4)再生液流速，順流再生時宜為0.3m/h～0.5m/h;循環(huán)順流再生時宜為4.5m/h～5m/h,循環(huán)時間宜為20min~5)淋洗終點的pH值宜為4～5。1)轉(zhuǎn)型劑宜采用工業(yè)用氫氧化鈉。2)轉(zhuǎn)型液濃度宜為1.0mol/L～1.5mol/L,并采用純水3)轉(zhuǎn)型液用量宜為樹脂體積的2倍。4)轉(zhuǎn)型液流速宜為0.3m/h～0.5m/h。5)淋洗終點的pH值宜為8～9。6)反沖洗時樹脂層膨脹率宜為50%。6.1.9回收的硫酸鎳應(yīng)經(jīng)沉淀、過濾等預(yù)處理后回用于鍍槽。36.1.10再生時的前期淋洗水應(yīng)排至調(diào)節(jié)池，后期淋洗水可作為循環(huán)水的補充水用。6.2.1用離子交換法處理氰化含金廢水時，水不宜循環(huán)使用。含金廢水中的氰化物，在排放前應(yīng)按本規(guī)范第5.1節(jié)的規(guī)定進(jìn)行6.2.2用離子交換法處理含金廢水，宜采用圖6.2.2的基本工藝6.2.7樹脂交換吸附金達(dá)到飽和后，可送專門回收單位回收黃金。6.2.8處理鍍金廢水所用的水箱、水泵、管道等均應(yīng)采用塑料處理后排放除金陰柱除金陰柱過濾柱6.2.3陰離子交換劑應(yīng)采用凝膠型強堿性陰離子交換樹脂或大孔型強堿性陰離子交換樹脂，且應(yīng)以氯型投入運行。6.2.4當(dāng)廢水需進(jìn)行預(yù)處理時，應(yīng)選用樹脂白球或不吸附廢水中金離子的濾料。6.2.5除金陰柱的設(shè)計應(yīng)符合本規(guī)范附錄B的規(guī)定，并應(yīng)符合下列規(guī)定：1樹脂飽和工作周期，每年宜為1個～4個周期。2樹脂層高度宜為0.6m～1.0m。3流速不宜大于15m/h。4除金陰柱直徑宜為0.1m～0.15m。6.2.6除金陰柱的飽和工作終點，應(yīng)按進(jìn)、出水的含金濃度基本相等進(jìn)行控制。37.1.1電解法處理含鉻廢水時，六價鉻離子濃度不宜大于7.1.2電解法處理含鉻廢水宜采用連續(xù)式，且可采用圖7.1.2的基本工藝流程調(diào)節(jié)池電解相固液分離過濾池圖7.1.2電解法處理含鉻廢水的基本工藝流程7.1.3電解槽宜采用豎流式雙極性電極，并應(yīng)對槽體、電極板框等采取防腐和絕緣措施；電解槽和電源設(shè)備應(yīng)可靠接地。7.1.4極板的材料可采用普通碳素鋼鋼板，其厚度宜為3mm~5mm,極板間凈距可為5mm～10mm。7.1.5還原1g六價鉻離子的鐵極板消耗量可按4g～5g計算。7.1.6電解槽的電極電路應(yīng)設(shè)置電流換向裝置。7.1.7電解槽應(yīng)按廢水設(shè)計流量和廢水中六價鉻濃度選擇，亦可按本規(guī)范附錄C的規(guī)定設(shè)計。7.1.8用純水作漂洗水的含鉻廢水，宜在廢水進(jìn)入電解槽前投加氯化鈉，投入量宜為0.5g/L。7.1.9電解槽電能消耗值，當(dāng)含六價鉻濃度小于50mg/L時，處理每立方米廢水應(yīng)小于1.1kW·h;當(dāng)含六價鉻濃度在50mg/L~100mg/L時，處理每立方米廢水應(yīng)控制在1.1kW·h～2.5kW·h。7.1.10電解槽采用的最高直流電壓，應(yīng)符合現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)《特低電壓(ELV)限值》GB/T3805中有關(guān)直流(無波紋)的穩(wěn)態(tài)電壓限7.1.11電解槽的整流器選用時，應(yīng)在計算的總電流和總電壓值基礎(chǔ)上增加30%～50%的備用量，7.1.12電解法處理含鉻廢水應(yīng)設(shè)置固液分離裝置，當(dāng)采用沉淀池作為固液分離裝置時，應(yīng)符合下列規(guī)定：1沉淀前廢水的pH值宜為7～9。2污泥體積可按處理廢水體積的5%～10%計算。7.1.13當(dāng)廢水中六價鉻離子濃度為100mg/L時，處理每立方米廢水所產(chǎn)生的污泥干重可按1kg計算。制在200mg/L～600mg/L。7.2.2用電解法處理氰化鍍銀廢水時，可采用圖7.2.2的基本工級回收槽級回收槽鍍銀槽清洗槽3第5.1節(jié)的規(guī)定進(jìn)行處理。7.2.7電解槽的選擇宜根據(jù)每小時鍍件帶出槽液銀(或氰)離子q——鍍件單位面積帶出液量(mL/dm2),可按本規(guī)范附錄帶出槽液銀離子量的1.3倍：制在500mg/L～2000mg/L。水換級回收槽二級回收槽鍍銅信清洗槽圖7.3.2電解法回收銅的基本工藝流程7.3.7電解設(shè)備的選擇宜根據(jù)每小時鍍件帶出槽液銅離子量確da——鍍件單位表面帶出液量(mL/dm2),可按本規(guī)范附錄帶出槽液銅離子量的1.3倍：3I—-采用電流值(A);銅時宜為60%～80%,氰化鍍銅時宜為30%～40%。7.3.9電解槽的設(shè)計應(yīng)符合本規(guī)范附錄C的規(guī)定。8內(nèi)電解處理法8.1連續(xù)式處理8.1.1內(nèi)電解法處理含鉻廢水，廢水量大于40m3/d時，宜采用連續(xù)式處理工藝。8.1.2采用連續(xù)式處理工藝時，可采用圖8.1.2的基本工藝流程。堿堿內(nèi)電解處理固液分離調(diào)節(jié)池8.1.3采用連續(xù)式處理工藝時，進(jìn)入處理系統(tǒng)的廢水水質(zhì)應(yīng)符合表8.1.3的規(guī)定總銅限制濃度注：pH值無量綱。8.1.4連續(xù)式處理系統(tǒng)在運行期間，應(yīng)定時向內(nèi)電解處理設(shè)備內(nèi)通入壓縮空氣，氣壓宜為0.3MPa～0.7MPa;通氣工作時間宜為1min~3min;脈沖頻率宜為0.2/s～0.5/s;通氣周期宜為1h~8.1.5內(nèi)電解設(shè)備的鑄鐵屑應(yīng)定期進(jìn)行氣、水聯(lián)合沖洗；氣沖3洗強度宜為15L/(m2·s)～20L/(m2·s);水沖洗強度宜為洗周期宜為16h～32h,亦可通過試驗確定。8.1.6內(nèi)電解法處理電鍍廢水，鑄鐵屑的消耗速率應(yīng)符合下列規(guī)定：1當(dāng)進(jìn)水的pH值小于或等于5時，可按下式計算：C?——廢水中六價鉻離子濃度(mg/L);Ci廢水中銅離子濃度(mg/L);pH廢水進(jìn)入設(shè)備前的pH值。2當(dāng)進(jìn)水的pH值大于5時，可按下式計算：8.2.1內(nèi)電解法處理含鉻廢水，當(dāng)廢水量小于或等于40m3/d8.2.2采用間歇式循環(huán)處理工藝時，可采用圖8.2.2的基本工藝流程。固液分離固液分離循環(huán)池內(nèi)電解處理調(diào)節(jié)池堿8.2.3采用間歇式處理工藝時，進(jìn)入處理系統(tǒng)的廢水水質(zhì)應(yīng)符合表8.2.3的規(guī)定。總銅限制濃度8.2.4間歇式處理工藝，廢水在內(nèi)電解處理設(shè)備內(nèi)的流速不宜低于20m/h8.2.5間歇式處理工藝的調(diào)節(jié)池和反應(yīng)池的有效容積不宜小于正常情況下日排水量的1/2。一個處理周期宜為3h～4h。8.2.6間歇式處理的反應(yīng)終點應(yīng)以六價鉻達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)為止。8.3.1采用內(nèi)電解法廢水處理工藝，廢水與鑄鐵屑的接觸反應(yīng)時間不宜少于20min;鑄鐵屑的裝填高度宜為1m～1.5m;鑄鐵屑粒徑宜大于1mm。8.3.2內(nèi)電解處理設(shè)備停止運行時，應(yīng)保持設(shè)備內(nèi)的水位浸沒鑄鐵屑；遇有維修需排空設(shè)備內(nèi)的廢水時，其維修和注滿水的總時間不應(yīng)超過4h。8.3.3經(jīng)內(nèi)電解法處理后，廢水中污泥濃度可按下式計算：39.0.1電鍍廢水處理時產(chǎn)生的污泥應(yīng)進(jìn)行脫水處理，污泥脫水后含水率宜小于80%。9.0.2污泥脫水前，宜經(jīng)過試驗和技術(shù)經(jīng)濟比較確定濃縮或投加9.0.3脫水和濃縮過程產(chǎn)生的濾液應(yīng)排至調(diào)節(jié)池。9.0.4污泥脫水方式可根據(jù)自然條件和污泥的特性、需脫水的程9.0.5當(dāng)處理的廢水量大于2m3/h時，污泥進(jìn)入污泥脫水設(shè)備前，其含水率不宜大于98%。當(dāng)處理的廢水量小于或等于2m3/h時，混合液可直接進(jìn)入壓濾機進(jìn)行脫水。9.0.6電鍍廢水處理所產(chǎn)生的污泥，應(yīng)按現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)《危險廢物鑒別標(biāo)準(zhǔn)》GB5085的有關(guān)規(guī)定進(jìn)行危險特性鑒別。9.0.7一般污泥可按現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)《一般工業(yè)固體廢物貯存、處置場污染控制標(biāo)準(zhǔn)》GB18599的有關(guān)規(guī)定處置。9.0.8屬于危險廢物的污泥，應(yīng)在其收集、貯存的設(shè)施場所設(shè)置危險廢物識別標(biāo)志，并應(yīng)按現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)《危險廢物貯存污染控制關(guān)規(guī)定實施。10.0.1廢水處理站位置的確定應(yīng)符合下列規(guī)定：1宜靠近廢水排出集中點，廢水宜自流進(jìn)入廢水處理站。2站區(qū)地面標(biāo)高應(yīng)高出設(shè)計洪水水位。3處理后廢水應(yīng)有良好的排放條件。4應(yīng)有良好的工程地質(zhì)條件。5應(yīng)有良好的衛(wèi)生環(huán)境，建筑物應(yīng)有良好的通風(fēng)和采光條6站區(qū)的規(guī)劃應(yīng)與整個廠區(qū)的發(fā)展規(guī)劃相協(xié)調(diào)。10.0.2廢水處理站宜由處理間及其水池、控制室、化驗室、藥品10.0.3廢水處理站的平面布置應(yīng)符合下列規(guī)定：1水池及泵房宜設(shè)置在處理站站房內(nèi)或附近。2廢水流向應(yīng)順直。3建(構(gòu))筑物及設(shè)施的布置應(yīng)緊湊，通道設(shè)置宜方便藥劑和污泥的運送。4站內(nèi)工藝設(shè)備應(yīng)按廢水處理流程和廢水的性質(zhì)分類布置，10.0.4廢水處理站的安全設(shè)計應(yīng)符合下列規(guī)定：2化學(xué)危險品應(yīng)按現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)《常用化學(xué)危險品貯存通3封閉水池應(yīng)設(shè)置2個以上人孔。4廢水處理的裝置、構(gòu)筑物等應(yīng)設(shè)置操作平臺和防護(hù)欄桿。10.0.5廢水處理站應(yīng)設(shè)廢水調(diào)節(jié)池。調(diào)節(jié)池宜設(shè)計成2格，有3效容積可按4h～8h的平均廢水量計算，并應(yīng)設(shè)置除油、清除沉淀物和漂浮物的設(shè)施。10.0.6廢水處理站供電等級應(yīng)采用與電鍍車間相同的供電10.0.7廢水處理站宜配置常規(guī)的分析化驗儀器。10.0.8電鍍廢水處理的裝置、構(gòu)筑物等均應(yīng)根據(jù)其接觸介質(zhì)的漏等措施。10.0.9當(dāng)采用地下泵房時，應(yīng)有良好的通風(fēng)設(shè)施和防滲漏措施，并應(yīng)設(shè)置集水坑和排水泵，地下泵房的高度不宜低于3.0m。10.0.10寒冷地區(qū)的廢水處理站，其室外管道和裝置應(yīng)保溫。10.0.11廢水處理站的處理間、藥品間等產(chǎn)生有害氣體的場所，10.0.12廢水處理站宜設(shè)置污泥堆放場，堆放場應(yīng)采取防雨措施，地坪應(yīng)采取防滲漏和防腐蝕措施，其容積或面積可根據(jù)污泥外運條件確定。附錄A鍍件單位面積的鍍液帶出量電鍍方式不同鍍件形狀的鍍液帶出量(mL/dm2)復(fù)雜自動線掛鍍13注：1選用時可再結(jié)合鍍件的排液時間、懸掛方式、確定；3表中所列滾鍍的鍍液帶出量為滾筒起吊后停留25s的數(shù)據(jù)3附錄B離子交換柱的設(shè)計B.0.1陰(陽)離子交換樹脂單柱體積應(yīng)按下式計算：C廢水設(shè)計流量(m3/h);B.0.2空間流速應(yīng)按下式計算：C廢水中金屬離子濃度(mg/L);T樹脂飽和工作周期(h)。B.0.3流速應(yīng)按下式計算：H——樹脂層高度(m)。交換柱直徑應(yīng)按下式計算：(B.0.4)C.1含鉻廢水電解槽設(shè)計參數(shù)C.1.1電流可按下式計算：Kar——1g六價鉻離子還原為三價鉻離子時所需的電量，宜通過試驗確定，當(dāng)無試驗條件時，可采用4[A·h/gQ廢水設(shè)計流量(m3/h);C廢水中六價鉻離子濃度(g/m3);電極串聯(lián)次數(shù)，n值應(yīng)為串聯(lián)極板數(shù)減1。C.1.2電解槽有效容積可按下式計算，并應(yīng)滿足極板安裝所需的空間要求：t——電解時間，當(dāng)廢水中六價鉻離子濃度小于50mg/LC.1.3極板面積可按下式計算：α——極板面積減少系數(shù)，可采用0.8;M?——并聯(lián)極板組數(shù)(若干段為一組);3JF極板電流密度，可采用0.15A/dm2~0.3Adm C.1.6電極表面分解電壓和極間電壓計算系數(shù)宜通過試驗確濃度(g/L)電導(dǎo)率極間電壓計算系數(shù)(V·dm2/A)5“8.05為300m/h～900m/h;同心雙筒電極宜為300m/h～1200m/h。C.2.3陰極電流密度應(yīng)根據(jù)廢水含銀離子濃度等因素確定，并1當(dāng)廢水中銀離子濃度大于400mg/L時，可采用0.10A/dm2~0.25A/dm2。2當(dāng)廢水中銀離子濃度小于或等于400mg/L時，可采用0.10A/dm2~0.03A/dm2。C.2.4電解槽回收銀的極間電壓可采用1V～3V。C.3.1平板電極間的凈距可采用15mm～20mm。C.3.2陰極電流密度應(yīng)根據(jù)廢水含銅離子濃度等因素確定，并1當(dāng)廢水中銅離子濃度大于700mg/L時，可采用0.5A/dm2~1.0A/dm22當(dāng)廢水中銅離子濃度小于或等于700mg/L時，可采用0.1A/dm2~0.5A/dm2C.3.3電解槽回收銅的極間電壓可采用3V～4V。3本規(guī)范用詞說明引用標(biāo)準(zhǔn)名錄2條文中指明應(yīng)按其他有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行的寫法為：“應(yīng)符合3中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)電鍍廢水治理設(shè)計規(guī)范3設(shè)部2011年7月26日以第1078號文公告批準(zhǔn)發(fā)布。參加單位是機械電子工業(yè)部工程設(shè)計研究院、航空航天工業(yè)部第標(biāo)準(zhǔn)要求。三批)明確在2003年前淘汰含氰電鍍，2005年國家發(fā)改委40號則，暫保留“含氰廢水處理”內(nèi)容，但需明確，此做法無鼓勵氰化物電鍍之意，希望能經(jīng)過努力，徹底淘汰氰化物電鍍工藝，代之以更環(huán)保的電鍍工藝。電鍍污泥的處置一直是困擾電鍍廢水處理的難題。電鍍污泥由于電鍍工藝不同，污泥成分不盡相同，毒性不同，可利用途徑亦不同，因此，首要的是將污泥進(jìn)行鑒別、分類管理。國內(nèi)現(xiàn)有的污泥處置方法需不斷完善，將其列人規(guī)范的條件尚不成熟，因此本規(guī)范僅對污泥脫水、污泥鑒別、污泥處置作出了原則性規(guī)定。為便于廣大設(shè)計、施工、科研、學(xué)校等單位有關(guān)人員在使用本規(guī)范時能正確理解和執(zhí)行條文規(guī)定，《電鍍廢水治理設(shè)計規(guī)范》編制組按章、節(jié)、條順序編制了本規(guī)范的條文說明，對條文規(guī)定的目的、依據(jù)以及執(zhí)行中需注意的有關(guān)事項進(jìn)行了說明。但是，本條文說明不具備與規(guī)范正文同等的法律效力，僅供使用者作為理解和把握規(guī)范規(guī)定的參考。 4.1回收清洗法 4.2連續(xù)逆流清洗法 4.3間歇逆流清洗法 4.4反噴洗清洗法 4.5超聲波清洗法 5.1含氰廢水 5.2含鉻廢水 5.3含鎘廢水 5.4混合廢水 6.1含鎳廢水 6.2含金廢水 7.1含鉻廢水 7.2鍍銀廢水 7.3鍍銅廢水 8.1連續(xù)式處理 8.2間歇式處理 38.3工藝參數(shù) 9污泥處理 10廢水處理站設(shè)計 1.0.1本條是說明制定本規(guī)范的目的，由于電鍍廢水量大面廣，術(shù)上貫徹國家的有關(guān)法規(guī)和政策，以防止電鍍廢水對環(huán)境的污染。1.0.2根據(jù)我國的建設(shè)方針，電鍍廢水治理的擴建和改建工程較1.0.3本規(guī)范所列的各種治理方法都有一定的使用條件，同一種廢水可以有幾種不同的治理方法，同一種廢水又可以有不同的工藝流程，各種治理方法又可以相互組合。所以設(shè)計者應(yīng)根據(jù)設(shè)計對象的具體情況，選用合理的廢水治理工藝流程。具體情況分為操作水平的高低以及今后發(fā)展或改造的可能等。2設(shè)計對象周圍的情況：廢水排入城市管道或者是直排水所需藥劑的供應(yīng)情況，當(dāng)?shù)丨h(huán)保部門的要求等。1.0.4科學(xué)技術(shù)總是不斷發(fā)展提高的，電鍍廢水治理技術(shù)亦不例外。本條提倡采用行之有效的新技術(shù)，規(guī)范隨之不斷修訂，這樣才能促進(jìn)技術(shù)的不斷發(fā)展。本條還提出應(yīng)提高自動化控制和監(jiān)測的程度，這是電鍍廢水處理穩(wěn)定運行及保證處理達(dá)標(biāo)的關(guān)鍵因素，目前自動化控制技術(shù)水平完全能夠滿足要求。33.0.1根據(jù)不同的電鍍工藝情況，國內(nèi)已出現(xiàn)了不少投資少而效果好、適合于我國國情的清洗方法和清洗工藝，從源頭上減少了廢水量，節(jié)省了能源和資源，實現(xiàn)了循環(huán)經(jīng)濟的科學(xué)發(fā)展。3.0.2回收槽及第一清洗槽的主要金屬離子全部來源于鍍液帶出液，因此鍍液帶出量在鍍件清洗工藝中是一個主要的參數(shù)，它是造成電鍍廢水污染的主要因素，其帶出量的多少決定了廢水濃度與清洗用水量。影響鍍液帶出量的因素很多，如鍍件表面積的大小、幾何形狀的復(fù)雜程度、掛具的制作方式和掛裝形式、鍍件出鍍槽時間(包括出鍍槽速度，在鍍槽上空停留滴瀝時間以及在工件和工藝條件許可下所采取的其他有效措施，如出鍍槽采用噴淋清洗或吹氣裝置，鍍槽上空停留有抖晃裝置等)、鍍液的黏度和溫度等，其中以鍍件幾何形狀和出槽時間為主要影響因素。由于帶出量取決于多種不同的因素，不能簡單地用理論計算公式求得，亦不能完全靠有限的實測數(shù)據(jù)統(tǒng)計而得?？尚械姆椒ㄊ轻槍κ褂脝挝坏木唧w情況選擇一些有代表性的產(chǎn)品，通過實測來得到較為可靠的帶出量。所以本條規(guī)定應(yīng)通過試驗確定，如無條件進(jìn)行試驗時，根據(jù)國內(nèi)外資料和試驗數(shù)據(jù)，整理匯總了表1、表2供設(shè)計時選用。對于滾鍍的帶出量，在不同情況下相差很大，必須特別注意。電鍍方式自動線復(fù)雜日用五金2簡單1,較復(fù)雜2～5,復(fù)雜5自行車2簡單0.5～1,較復(fù)雜1～2,復(fù)雜2～33.0.3第一級清洗槽清洗水補入鍍槽回用是減少污染的關(guān)鍵。3第一級清洗槽清洗水的回用與鍍液消耗量的平衡以及回用水量與清洗水量的關(guān)系都有一個最佳匹配，應(yīng)根據(jù)實際情況來確定。同如落槽的鍍件、掛具和輔助電極的溶解物以及部分有機添加劑的分解物等；另一部分是由上道工序帶入的其他金屬離子及鍍件附著液。隨著回用水量的增加，雜質(zhì)積累的速度就會相對加快，所以本條規(guī)定如對鍍件質(zhì)量有影響時，清洗水回用補入鍍槽前應(yīng)采用3.0.4末級清洗槽允許的金屬離子濃度是鍍件清洗工藝中的一個主要參數(shù)，其大小直接影響清洗倍率，從而決定了清洗水量和清洗槽級數(shù)等。關(guān)于末級清洗槽允許的金屬離子濃度，目前從國內(nèi)外報道的資料來看，尚無統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)。美國有資料提出其值為16mg/L;日本有資料提出其值為5mg/L～50mg/L;德國有資料(根據(jù)實踐經(jīng)驗)提出其值為10mg/L～20mg/L;俄羅斯在電鍍手冊中提出其值為10mg/L～20mg/L;國內(nèi)一些單位通過試驗和分析后提出其值為5mg/L～50mg/L,其中最終鍍層清洗時其值為20mg/L～50mg/L,中間鍍層清洗時其值為5mg/L～10mg/L。綜合分析國內(nèi)外有關(guān)資料及實測數(shù)據(jù)，提出本條所列的末級清洗槽允許的金屬離子濃度數(shù)據(jù)，當(dāng)末級清洗槽采用噴淋清洗時，可以采用條文中的上限值。3.0.5影響鍍液蒸發(fā)量的因素很多，如鍍液溫度、環(huán)境氣溫和相對濕度、液面空氣流速(即通風(fēng)條件)以及操作條件(抑霧劑、泡沫球覆蓋等),其中鍍液溫度為主要因素。以下列出鍍液表面單位蒸發(fā)量與鍍液溫度的關(guān)系曲線及電鍍車間鍍鉻槽的實測數(shù)據(jù)，供不具備實驗條件時選用。根據(jù)國內(nèi)20多家電鍍廠(點)提供的數(shù)據(jù)，經(jīng)數(shù)學(xué)處理后得到了一個經(jīng)驗公式，繪制成圖1的鍍液表面單位蒸發(fā)量與鍍液溫度的關(guān)系曲線。電鍍車間鍍鉻槽的實測數(shù)據(jù)見表3和表4。時間(h)晝夜)142432445464748497范圍3時間(h)晝夜)1234567范圍要占總用水量的25%以上。經(jīng)試驗研究和實際使用情況表明，采3.0.8在生產(chǎn)布局中要考慮將含鉻廢水生產(chǎn)線和氰化物生產(chǎn)線在工藝布局上合理分開，含氰廢水和含鉻廢水3.0.9本條為強制性條文。含氰廢水與酸性廢水混合后會產(chǎn)生3.0.14進(jìn)入離子交換柱的廢水中懸浮物4.1.1根據(jù)實際測定資料，在鍍槽后設(shè)置一級回收槽可以回收帶出槽液量的70%,設(shè)兩級可回收90%,本條規(guī)定設(shè)置一級或兩級回收槽?；厥詹鄣脑试S濃度應(yīng)根據(jù)鍍件帶出量、清洗槽的清洗用水量及末級清洗槽允許濃度來進(jìn)行控制，在帶出量、清洗槽用水量及末級清洗槽允許濃度給定的條件下，可以計算出設(shè)一級或兩級回收槽時的最高允許濃度。當(dāng)回收槽達(dá)到最高允許濃度并符合回收槽溶液回用后，將二級回收槽溶液移入一級回收槽，二級回收槽4.1.2本條規(guī)定了回收清洗法的鍍件單位面積清洗用水量。如果由于鍍件形狀特別復(fù)雜、末級清洗槽濃度要求低等原因，根據(jù)實測或初步計算用水量要超過100L/m2時，則應(yīng)考慮采用其他清洗4.2.3綜合歸納國內(nèi)外的有關(guān)資料及實測數(shù)據(jù)，提出了本條所推薦的各級清洗槽的濃度修正系數(shù)。由于影響修正系數(shù)的因素很多，不同電鍍產(chǎn)品之間存在差異，所以凡有條件的單位，宜針對具體情況實測或通過試驗確定。4.2.4連續(xù)逆流清洗的各級清洗槽若水流溢流分布設(shè)計不當(dāng)，使補入的清洗水不能在各清洗槽內(nèi)充分逆流，造成水流不均以致水流短路，會影響清洗效果。連續(xù)逆流清洗槽水流溢流分布方式的裝置比較見表5,3制作簡單；水流均率不足；槽腳容易反沖，使清洗水易混濁；耗材較多制作較繁；水流均率較好；槽腳不易反沖，但清理較困難；耗材較少制作較簡單；水流均率尚可(補水量與窄縫大小要匹配);4.3間歇逆流清洗法4.3.1間歇逆流清洗法是在鍍槽后設(shè)置若干級逆流換水的清洗槽，鍍件從鍍槽中提出后經(jīng)各清洗槽逐槽清洗。隨著清洗的延續(xù)，各級清洗槽濃度不斷上升，待一級清洗槽濃度升高到控制值時開始逐槽逆流換水，末槽補進(jìn)純水，至此為一個4.3.3綜合歸納國內(nèi)外有關(guān)資料及實測數(shù)據(jù)，提出了本條所推薦的各級清洗槽濃度修正系數(shù)，但是有條件的單位，宜針對具體情況進(jìn)行實測或通過試驗確定。4.4反噴洗清洗法4.4.1采用反噴洗清洗法的基本工藝流程時，下列情況值得1鍍件提出鍍槽后用第一級清洗槽水噴洗，根據(jù)實測可以回收帶出槽液量的77%～90%,相當(dāng)于回收清洗法設(shè)兩級回收槽的回收率，所以當(dāng)鍍液蒸發(fā)量與清洗用水量基本相等時，則清洗水可全部噴入鍍槽，即實現(xiàn)自然封閉循環(huán)，第一級清洗槽沒有排水；當(dāng)鍍液蒸發(fā)量小于清洗水量時，則只能有部分清洗水噴入鍍槽，第一級清洗槽多余水應(yīng)經(jīng)蒸發(fā)濃縮后回流鍍槽使用，或作其他用途；亦同步補入或均勻補入);另一種是當(dāng)鍍件從末級清洗槽鉻酐的殘留量后者要比前者少40%左右。度受到破壞，有可能使末級清洗槽濃度超過允逆流清洗法),將第一級清洗槽的水抽出，經(jīng)蒸4.4.3本條規(guī)定是考慮到反噴洗清洗法的特殊要求，如將反噴洗取水口設(shè)置在中下部特別是下部時，很可能使槽體底部的沉響鍍件的清洗質(zhì)量。具體位置應(yīng)根據(jù)實際情況決定，而不設(shè)置4.5.2通過調(diào)查，超聲波發(fā)生器的發(fā)射功率統(tǒng)計見表6,得到發(fā)射功率的平均值為15.35,因此提出單位容積超聲波發(fā)生器的發(fā)射功率選用值為15W/L。335.1.1當(dāng)廢水中氰離子的濃度在50mg/L以上時，氧化劑投加量5.1.2含氰廢水中混入鎳，會形成絡(luò)合物，致使投藥量增加3.5倍～7.5倍，而且需要較長時間(24h)才能分解；鐵鹽會使水中氰化物變成亞鐵氰化物而不易分解，因此本條規(guī)定含氰廢水處理時應(yīng)避免混入鐵離子和鎳離子。規(guī)定氨氮排放濃度為15mg/L,特別排放限值為8mg/L,因此，本規(guī)范5.1.6含氰廢水破氰后應(yīng)對重金屬離子進(jìn)行后續(xù)處理，使廢水符合國家排放標(biāo)準(zhǔn)要求。5.1.7本條規(guī)定了氧化劑的選擇和氧化劑的投加量。各種氧化劑的適用范圍及優(yōu)缺點比較見表7。適用范圍較低濃度，中小水量的含氰廢水產(chǎn)生污泥量少；操作較為方便；能利用較為便宜的化工廠副產(chǎn)品適用范圍小水量的含氰廢水貨源供應(yīng)較易解決：處理費用較低；設(shè)備簡單，工期短；當(dāng)廢水中含有酒石酸鹽絡(luò)有效氯含量低，雜質(zhì)多，產(chǎn)生的污泥量大。調(diào)制藥劑操作時勞動強度較繁重。存放不當(dāng)或時間較長 藥劑易失效污泥量少，有效氯含量高，投藥量少需現(xiàn)場制取氧化劑的投加量：簡單氰化物(如NaCN、KCN)的理論投藥量是固定的，而絡(luò)合氰化物的理論投藥量則是變化的，不但隨所絡(luò)合的金屬而變，也隨絡(luò)合物的配位數(shù)而變，如四氰合鋅[Zn(CN)?]2-完全氧化的理論投藥比(質(zhì)量比)為CN-:Cl?=1:7.18,四氰合銅[Cu(CN)?]2-的理論投藥比(質(zhì)量比)為CN-:Cl?=1:7.38,另外，氰化鍍液內(nèi)尚含有其他絡(luò)合劑，如氰化鍍銅液中可能含有酒石酸鹽和硫氰酸鹽，還有其他雜質(zhì)，又如氰化鍍鋅液內(nèi)有鐵離子，氰化鍍銀液內(nèi)有銅離子物的投藥比要高于簡單氰化物。實踐中投藥比見表8。藥劑中含活性氯的百分比，漂白粉為36%,次氯酸鈉為8%,二氧化氯為260%。故本條規(guī)定投藥量質(zhì)量比(氰化物：活性氯)為：當(dāng)一級氧化處理時宜為1:3～1:4,兩級氧化處理時宜為1:7～1:8。5.1.8一級氧化處理時，由于生成的氰酸鹽在酸性條件下不穩(wěn)定，易揮發(fā)致毒，因此反應(yīng)時廢水的pH值應(yīng)控制在10～11;當(dāng)采用二氧化氯作氧化劑時，二氧化氯先和堿液生成次氯酸鹽，需要消耗部分堿液，因此pH值應(yīng)控制在11～11.5。二級氧化階段的關(guān)鍵在于控制pH值，pH值大于或等于12時，2CNO-+3ClO-+H?O→2CO?+N?+3Cl?+2OH-反應(yīng)幾乎停止，pH值過低時氰酸根會水解生成有毒的氯胺，并影響其他金屬離子的處理。因此二級氧化階段宜控制pH值為6.5～7.0,并用稀硫酸調(diào)節(jié)，防止副反應(yīng)發(fā)生。5.1.9連續(xù)處理含氰廢水時，控制廢水的pH值和氧化劑的投加量是破氰的關(guān)鍵，因此，采用pH計和氧化還原電位計在線監(jiān)測以及采用自動加藥系統(tǒng)才能保證廢水處理投藥量的準(zhǔn)確和穩(wěn)定，避免人為因素的影響，保證破氰完全。反應(yīng)中氧化還原電位的控制應(yīng)注意廢水中氧化劑或還原劑的干擾，設(shè)備調(diào)試時應(yīng)以氰化物達(dá)標(biāo)狀態(tài)下的氧化還原電位作為實際運行的控制參數(shù)。5.2含鉻廢水I鐵氧體法處理含鉻廢水5.2.1鐵氧體處理含鉻廢水的特點是使含鉻污泥能形成鐵氧體，避免污泥的二次污染，對于各種含鉻廢水都適用。廢水含鉻濃度過低時投加藥劑量比較大，不經(jīng)濟，所以本條規(guī)定廢水中六價鉻離子濃度宜大于10mg/L。5.2.4采用濕投可以除去硫酸亞鐵中的固體殘渣，同時便于與廢水混合均勻。35.2.5形成鐵氧體的硫酸亞鐵投加量按照理論計算為Cr?+:FeSO?·7H?O=1:26.7(其中還原六價鉻離子為1:16,形成鐵氧體為1:10.7),實際投藥量都要超過理論量，而且含鉻廢水濃度5.2.6六價鉻的還原反應(yīng)要求在酸性條件下進(jìn)行，最佳的pH值為2～3,最高不得大于6。經(jīng)調(diào)查，含鉻廢水的pH值為2～6,所以一般不需要加酸調(diào)整pH值。六價鉻被還原成為三價鉻后，需要提高pH值，使其生成Cr(OH);沉淀，應(yīng)加堿調(diào)整pH值到7～8,含鉻廢水濃度越低，要5.2.9轉(zhuǎn)化槽是將廢水處理后的污泥加熱到70℃~80℃,轉(zhuǎn)化為鐵氧體的裝置，當(dāng)受條件限制時，可不設(shè)轉(zhuǎn)化槽，每次廢水處理后的污泥在反應(yīng)沉淀池內(nèi)加熱，使污泥轉(zhuǎn)化成鐵氧體。Ⅱ亞硫酸鹽還原法處理含鉻廢水5.2.12采用亞硫酸鹽還原法連續(xù)處理含鉻廢水，pH值和氧化還原電位對六價鉻離子的還原反應(yīng)控制至關(guān)重要，應(yīng)采用自動控制系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)酸和亞硫酸鹽的投加量，保證反應(yīng)過程中pH值和氧化還原電位值的穩(wěn)定。5.2.13亞硫酸氫鈉還原六價鉻的還原反應(yīng)必須在酸性條件下進(jìn)行，還原反應(yīng)的速度和pH值密切相關(guān)，由反應(yīng)式2H?Cr?O?+度增加時，反應(yīng)向形成三價鉻的方向進(jìn)行。資料顯示，當(dāng)pH值小于2時，反應(yīng)可在5min左右進(jìn)行完畢，當(dāng)pH值等于2.5～3時，反應(yīng)約需要15min～20min,當(dāng)pH值大于或等于4時，反應(yīng)速度突然變得很慢。當(dāng)pH值小于2時，雖然水中的含鹽量亦增加，從節(jié)約處理成本角度，本條規(guī)定反應(yīng)時的pH值宜為2.5～3,反應(yīng)時間宜為15min～30min。亞硫酸氫鈉的投藥量按照理論計算：Cr?+:NaHSO?=1:3。3在實際運行當(dāng)中推薦采用1:3.5～1:5投加，大于理論計算，這是放時間過長或純度不高也會使投藥量增加；廢水中有亞鐵離子等還原性物質(zhì)存在，使投藥量比較接近甚至小于理論計算。所以確切的投藥比應(yīng)在生產(chǎn)調(diào)試中確定，本條根據(jù)大多數(shù)使用單位的投藥比規(guī)定可采用1:3.5～1:5。氧化還原電位指示值與六價鉻之間的典型關(guān)系見表9。六價鉻(mg/L)六價鉻(mg/L)5采用氧化還原電位進(jìn)行反應(yīng)控制時，由于氧化還原電位受廢水中氧化還原性物質(zhì)的干擾，實際運行中氧化還原電位指示值與六價鉻之間的關(guān)系與表9會有出入，設(shè)備調(diào)試時應(yīng)以六價鉻達(dá)標(biāo)狀態(tài)下的氧化還原電位作為實際控制參數(shù)。Ⅲ槽內(nèi)處理法處理含鉻廢水5.2.15可供采用的化學(xué)還原劑很多，屬于肼類的有水合肼酸氫鈉(NaHSO?)、亞硫酸鈉(Na?SO?)、焦亞硫酸鈉(Na?S?O?)、連二亞硫酸鈉(Na?S?O?·2H?O)等。目前較多采用的為水合肼和亞硫酸氫鈉。應(yīng)比堿性時快，亞硫酸氫鈉只能用于酸性條件下。本條第1款規(guī)定的基本工藝流程，適用于酸性條件下，化學(xué)清洗槽設(shè)兩級主要是考慮藥劑失效較難控制，設(shè)兩級級也可以，可根據(jù)具體情況確定。酸性清洗溶液失效后需要加堿使之形成Cr(OH)?沉淀，所以要設(shè)失效溶液處理槽。本條第2款規(guī)定的基本工藝流程，適用于堿性條件下以水合肼作還原劑，由于其反應(yīng)速度比酸性時慢，所以設(shè)置化學(xué)清洗循環(huán)槽，進(jìn)行循環(huán)攪拌以加速反應(yīng)，當(dāng)清洗溶液內(nèi)有較多的Cr(OH)?懸浮物時，停止循環(huán)，使Cr(OH):在循環(huán)槽內(nèi)靜5.2.17采用槽內(nèi)處理法只要還原劑品種選擇合適，反應(yīng)時pH值控制得當(dāng)，就不會影響產(chǎn)品質(zhì)量，有的還可以提高產(chǎn)品質(zhì)量，調(diào)查和試驗的結(jié)果如下：1亞硫酸氫鈉只能用于鍍鉻，用于鈍化對鈍化膜的質(zhì)量有2水合肼在酸性、堿性情況下都能夠用于鈍化，堿性條件下鈍化膜的質(zhì)量稍好于酸性條件，由于水合肼在酸性條件下反應(yīng)速度較快，所以鍍鉻時一般在酸性條件下進(jìn)行化學(xué)清洗。3以上兩種還原劑在清洗溶液內(nèi)的配置濃度在10g/L以下，對于鍍鉻或鈍化的質(zhì)量均無明顯影響，但是應(yīng)考慮到盡量少的帶出還原劑，配置濃度不宜太高，水合肼有毒性，配置濃度應(yīng)更低置濃度在3g/L時所產(chǎn)生的Cr(OH)3沉淀最佳，故采用此值。5.2.18根據(jù)實驗測定，亞硫酸氫鈉在空氣中暴露3d,因被空氣氧化其還原性大部分失效，水合肼的化學(xué)性質(zhì)比較穩(wěn)定，經(jīng)過10d后濃度下降并不多。所以本條規(guī)定了以亞硫酸氫鈉為還原劑時使用周期不宜超過72h,以水合肼為還原劑時，對周期不作規(guī)定，可根據(jù)實際生產(chǎn)確定。按照理論計算還原1.0g六價鉻需要亞硫酸氫鈉3.0g,需要水合肼(有效濃度40%)1.8g。調(diào)查表明，由于槽內(nèi)處理鍍液單一等原因，耗藥量低于槽外處理，有時可接近理論值。所以本條規(guī)定了還原1.0g六價鉻所需的還原劑，亞硫酸氫鈉宜為3.0g~3.5g,水合肼(有效濃度40%)宜為2.0g～2.5g。5.3.1當(dāng)廢水中鎘濃度在50mg/L以上時，一般采用電解法5.3.2含鎘廢水中的氰離子來源于氰化鍍鎘，廢水中的氰與鎘是以絡(luò)合物的形成存在的，直接處理不能達(dá)到理想效果，應(yīng)先破氰，使鎘離子游離出來，便于氫氧化物沉淀法處理鎘離子。5.4混合廢水5.4.1本條規(guī)定了進(jìn)入混合廢水處理系統(tǒng)的排水水質(zhì)條件，以避免超量的絡(luò)合劑及表面活性劑對系統(tǒng)造成的不穩(wěn)定，絡(luò)合劑及表面活性劑的允許濃度應(yīng)通過試驗確定。5.4.3廢水中的金屬離子在pH值為8～9的情況下，大部分能形成氫氧化物沉淀。在有鎘離子、鎳離子的情況下，pH需大于10.5,但此時兩性金屬如鋅等會出現(xiàn)反溶，因此本條規(guī)定應(yīng)采用二除兩性金屬外，對于大多數(shù)金屬而言，pH值越高其生成的氫氧化物沉淀越徹底，本條規(guī)定混合廢水中不含有鎘、鎳離子時，處理過程中pH值應(yīng)為8～9是為了控制藥劑消耗量，而且符合排放標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定。5.4.5在化學(xué)法處理時投加絮凝劑、助凝劑對固液分離是有利的，尤其是對有機物含量較高的混合廢水，但是由于混合廢水的成分復(fù)雜，絮凝劑和助凝劑的選用和投加量應(yīng)通過試驗確定。36離子交換處理法6.1.1本條規(guī)定基于以下原因：1目前使用單位的鍍鎳清洗廢水含鎳濃度一般都在200mg/L以下。2廢水濃度過大，說明鍍件帶出量過大或清洗工藝存在問經(jīng)濟的。6.1.2離子交換的出水水質(zhì)可以滿足電鍍工藝要求，因此應(yīng)做到水的循環(huán)利用，但由于在循環(huán)過程中鹽類不斷積累，所以要定期換水或連續(xù)補水，換水或補水量根據(jù)具體情況確定。6.1.4強酸性陽離子樹脂在處理鍍鎳廢水時，一定要在鈉型時進(jìn)行，因為H+型時出水呈強酸性，使處理后的水既不能排放又達(dá)不到回用的要求；弱酸性陽離子樹脂處理鍍鎳系統(tǒng)廢水時，也一定要鈉型方可進(jìn)行，其原因主要受樹脂對陽離子交換順序所限，即弱酸性陽離子樹脂對H+離子有強的交換勢，若不轉(zhuǎn)成鈉型會影響交換的正常進(jìn)行。所以上述兩大類樹脂都要求以鈉型投入運行。6.1.5本條對除鎳陽柱的設(shè)計參數(shù)作出了規(guī)定。1樹脂飽和工作周期：一般可在24h～48h之間選用，選用的原則是：當(dāng)廢水濃度高時周期短一些，樹脂層高度高一些，流速低一些；當(dāng)廢水濃度低時，周期長一些(可以超過48h),樹脂層高2樹脂層高度：根據(jù)試驗資料，樹脂層高度為0.4m左右(鈉3性，因此樹脂層不必過高，所以將樹脂層最低高度定為0.5m。由于能適用于較高的廢水濃度，不使工作周期過短(不小于24h),所中體積要縮小一半左右，所以定為1.2m。樹脂層高度均以鈉型時的體積計。3流速：由于本條規(guī)定的樹脂層高度是比較低的，所以流速4廢水通過樹脂層的阻力損失與流速、樹脂層高度、樹脂的平均粒徑及與水最低溫度粘滯系數(shù)有關(guān)，還與樹脂的種類有關(guān)。采用強酸性陽離子樹脂，阻力調(diào)整系數(shù)K一般取7,弱酸性陽離子6.1.6規(guī)定陽柱的工作終點應(yīng)控制在進(jìn)、出水的含鎳濃度基本相等，此時陽離子樹脂吸附鎳離子達(dá)到全飽和，這樣才能提高回收的硫酸鎳純度。底，耗用酸量要多些，不但使洗脫液中余酸過多，而且對硫酸鎳優(yōu)于氫離子，且鈉鹽再生后在進(jìn)行交換時不需再轉(zhuǎn)型了，這樣既使洗脫液無余酸，又節(jié)省了氫