新型顯示技術(shù)

NewDisplayTechnologyPDP工藝流程PDP工藝流程Sputtering：ITO涂布Photoresistcoating：光阻膜涂覆（感光保護(hù)膜）Etching：刻蝕ResistStripping：抗剝落處理Photopaste：感光膠Pasteprinting:膠印Agpaste：銀膠Exposing：曝光Developing:顯影Dielectric：電介質(zhì)Magnet：磁體Beam：束Focusingcoil：聚焦線圈ScreenPrinting：絲網(wǎng)印刷（絲?。㏒queegee：刮漿刀Mesh：絲網(wǎng)Paste：膠料Emulsion：感光乳劑RIBPasteCoating：障壁材料粘附Exposing：曝光Mask：光刻掩模Developing：顯影Sand-Blasting：吹砂-Nozzle：噴嘴Cuttingpellet：砂粒BarrierRIB：障壁間隔Sealing：封接Dispenser：給料器Fritdispensing：燒料分配Dryingprebaking：干燥預(yù)烤Assembly：總裝Fixedclip：固定夾Tubeconnect：接管Exhausting：抽氣（抽真空）Gauge：計(jì)量儀Tipoff：封嘴4新型顯示技術(shù)數(shù)據(jù)來源：中華映管5新型顯示技術(shù)數(shù)據(jù)來源：中華映管6新型顯示技術(shù)PDP工藝流程不論是上板工藝流程或下板工藝流程，一定由空白的平面透明玻璃基板開始玻璃基板要能承受熱處理溫度(450至600oC)，不會(huì)有收縮或彎曲變形過大的問題發(fā)生產(chǎn)生收縮或彎曲變形過大時(shí)，將使得上、下板中的對位記號(AligmentMark)，及其他各層電路圖案位置產(chǎn)生位移量產(chǎn)玻璃基板是采用高應(yīng)力點(diǎn)的玻璃基板來解決熱處理應(yīng)力要求AsahiPD200有直接提供鍍有ITO薄膜的玻璃基板7新型顯示技術(shù)數(shù)據(jù)來源：中華映管8新型顯示技術(shù)1、透明電極制作透明電極功能，是作為表面放電維持電極使用透明目的，是為了避免螢光粉被紫外線激發(fā)出之可見光被阻擋，使面板的亮度降低目前量產(chǎn)上所使用的透明電極材料，包括氧化銦錫(ITO，Tin-DopedIndiumOxide)氧化錫(SnO2，TinOxide)兩種ITO膜的導(dǎo)電率與透光率較SnO2膜為佳9新型顯示技術(shù)數(shù)據(jù)來源：中華映管10新型顯示技術(shù)2、金屬輔助電極制作透明電極的電阻值仍然過高，為避免在放電時(shí)電壓下降過大，導(dǎo)致應(yīng)用在大尺寸PDP時(shí)，無法產(chǎn)生均勻放電，故在其上方制作較窄的金屬輔助電極(BusElectrode)，以增加其導(dǎo)電率目前量產(chǎn)上所使用的導(dǎo)電電極，包括有鉻/銅/鉻銅導(dǎo)電率高，但工藝流程中亦被氧化增加電阻，且容易被封合膠浸蝕產(chǎn)生斷線鉻抗氧化及耐蝕性均較銅佳以濺鍍及濕式蝕刻制作，精密度佳銀-可用直接圖案印刷，成本低11新型顯示技技術(shù)數(shù)據(jù)來源：：中華映管管12新型顯示技技術(shù)3、黑色對比比層制作黑色對比層層功能，是是增加面板板影像的對對比，減少少外界光的的反射影響響此層是形成成於每個(gè)放放電單元中中，兩條透明電極的的兩側(cè)黑色對比層層制作方式式有兩種直接圖案印印刷黃光濕式蝕蝕刻法13新型顯示技技術(shù)4、透明介電電層制作透明介電層層功能，是是在使用AC時(shí)作為儲存存電荷的電容，及在在驅(qū)動(dòng)面板板時(shí)提供壁壁電荷，以以降低驅(qū)動(dòng)動(dòng)電壓透明介電層層材料主要要成份是玻玻璃粉，是是以厚膜工工藝流程中中的平面印印刷法為主主平面印刷是是網(wǎng)版上沒有圖圖案(Pattern)，印刷上較較有圖案的的印刷簡單14新型顯示技技術(shù)數(shù)據(jù)來源：：中華映管管15新型顯示技技術(shù)5、保護(hù)層制制作保護(hù)層目的的，包括有有在等離子體體環(huán)境中耐耐離子撞擊擊，以保護(hù)護(hù)其下部的的各層材料料較高的二次次電子發(fā)射射效率，以以降低產(chǎn)生生氣體放電電的最低啟啟動(dòng)電壓保護(hù)護(hù)層層材材料料以以氧氧化化鎂鎂(MgO)為主主MgO保護(hù)護(hù)層層制制作作方方法法，，包包括括有有漿料料涂涂布布法法濺鍍鍍法法電子子束束蒸蒸鍍鍍法法離子子電電鍍鍍法法等等16新型型顯顯示示技技術(shù)術(shù)數(shù)據(jù)據(jù)來來源源：：中中華華映映管管17新型型顯顯示示技技術(shù)術(shù)1、數(shù)數(shù)據(jù)據(jù)電電極極制制作作數(shù)據(jù)(Data)電極功能，是是作為寫入數(shù)數(shù)據(jù)用，亦稱尋址電極(AddressElectrode)數(shù)據(jù)電極層所所使用材料，，與上板的金屬輔助電極極一樣的，包括有銀銀電極、銀感感光性膠膜或或鉻/銅/鉻電極，目前前主要以直接接印刷銀電極為主要工工藝流程18新型顯示技術(shù)術(shù)數(shù)據(jù)來源：中中華映管19新型顯示技術(shù)術(shù)2、白色反射層層制作增加白色反射射層目的，包包括有提供一平坦表表面，使得後後續(xù)阻隔壁工工藝流程容易易制作保護(hù)數(shù)據(jù)電極極免受到後續(xù)續(xù)工藝流程的的損傷增加螢光反射射，以提高面面板亮度工藝流程有兩兩種方式直接以平面印印刷法涂布介介電層漿料壓合介電層膠膠膜20新型顯示技術(shù)術(shù)3、阻隔壁制作作(1)阻隔壁(Rib)功能主要有二二：當(dāng)做上、下玻玻璃板間的支支撐物或間隔隔物(Spacer防止螢光粉的的混色隨著對PDP對比與亮度要要求，目前阻阻隔壁已分為為上、下層兩兩種顏色上層為黑色，，目的是增加加畫面之對比比下層為白色可可反射可見光光，以增加畫畫面之亮度21新型顯示技術(shù)術(shù)3、阻隔壁制作作(2)量產(chǎn)方式，以以噴砂法為主主流先在白色反射射層上，以厚厚膜工藝流程程方式，各別別地依序涂布布一定厚度的的白色層與黑黑色層乾燥後進(jìn)行噴噴砂最後進(jìn)行燒結(jié)結(jié)22新型顯示技術(shù)術(shù)數(shù)據(jù)來源：中中華映管23新型顯示技術(shù)術(shù)4、螢光層制作作螢光層是涂布布在阻隔壁的的兩側(cè)與各阻阻隔壁之間，，且相鄰兩色色間不可有混混色現(xiàn)象一般多采用印印刷方式，將將不同色之螢螢光粉漿料分分別地填入各各阻隔壁之間間，因此RGB三色需要印刷刷三次24新型顯示技術(shù)術(shù)數(shù)據(jù)來源：中中華映管25新型顯示技術(shù)術(shù)5、封合層制作作封合層目的，，是為了將兩兩片玻璃貼合合在一起，且且要能防止填填充氣體的漏漏氣若有漏氣現(xiàn)象象則放電氣體體會(huì)有污染問問題發(fā)生，且且造成每個(gè)胞胞的啟動(dòng)電壓壓有很大變化化目前封合層涂涂布方式，以以點(diǎn)膠涂布機(jī)機(jī)制作，當(dāng)涂涂布完成後要要先進(jìn)行預(yù)熔熔步驟，將有有機(jī)物質(zhì)去除除26新型顯示技術(shù)術(shù)數(shù)據(jù)來源：中中華映管27新型顯示技術(shù)術(shù)數(shù)據(jù)來源：中中華映管28新型顯示技術(shù)術(shù)封合和組裝工工藝流程當(dāng)上板工藝流流程與下板工工藝流程分別別完成後，必必須進(jìn)行上、、下兩片玻璃璃基板貼合工工作上板與下板工工藝流程中，，分別已有設(shè)設(shè)計(jì)對位記號號，利用自動(dòng)動(dòng)對位貼合機(jī)機(jī)將玻璃貼合合在一起將玻璃抽氣管管固定貼合在在背板的抽氣氣口上，再將將此組合面板板同時(shí)進(jìn)行烘烘烤與抽氣工工藝流程此工藝流程是是將面板中的的空氣與烘烤烤中所產(chǎn)生的的有機(jī)廢氣排排除，以避免免影響後續(xù)所所填充惰性氣氣體的純度，，而導(dǎo)致各胞胞的啟動(dòng)電壓壓變高，並降降低面板壽命命29新型顯顯示技技術(shù)數(shù)據(jù)來來源：：中華華映管管PDP制造流流程及及其技技術(shù)發(fā)發(fā)展31新型顯顯示技技術(shù)1.玻玻璃基基板技術(shù)要要求:表面平平坦，，應(yīng)變點(diǎn)點(diǎn)溫度度高，，熱膨脹脹系數(shù)數(shù)與電電極材材料和和介質(zhì)質(zhì)材料料匹配配。實(shí)用材材料：：（1））普通通平板板鈉鈣鈣玻璃璃優(yōu)點(diǎn)：：價(jià)格便便宜，，與已已開發(fā)發(fā)出的的彩色色PDP所用的的其它它材料料相匹匹配。。缺點(diǎn)：：應(yīng)變點(diǎn)點(diǎn)低（（一般般為500℃左右右），熱穩(wěn)穩(wěn)定性性差。。（一））彩色色AC-PDP的主要要部件件及其其制作作材料料彩色AC-PDP主要部件

前基板后基板排氣管玻璃封接透明電極匯流電極介質(zhì)層MgO膜熒光粉氣體放電空間障壁介質(zhì)層尋址電極32新型顯顯示技技術(shù)玻璃的的幾個(gè)個(gè)特征征溫度度轉(zhuǎn)換溫溫度指玻璃璃成塑塑性體體與彈彈性體體之間間的分分界溫溫度。。它相相當(dāng)于于玻璃璃粘度度為1013Pa.s時(shí)的溫溫度。。在此此溫度度下，，玻璃璃體內(nèi)內(nèi)的應(yīng)應(yīng)力大大約需需保溫溫4h才可基基本消消除。。退火溫溫度它相當(dāng)當(dāng)于玻玻璃粘粘度為為1012Pa.s時(shí)的溫溫度。。在該該溫度度時(shí)，，玻璃璃處于于塑性性狀態(tài)態(tài)，玻玻璃體體內(nèi)應(yīng)應(yīng)力只只需保保溫4min就可基基本消消除。。軟化溫溫度玻璃由由塑性性狀態(tài)態(tài)變?yōu)闉榫哂杏辛鲃?dòng)動(dòng)性能能時(shí)的的溫度度，稱稱為軟軟化溫溫度。。它相相當(dāng)于于粘度度為105Pa.s時(shí)的溫溫度。。33新型顯顯示技技術(shù)鈉鈣玻玻璃由由于冷冷卻速速度不不同造造成熱熱處理理后的的變形形鈉鈣玻玻璃在在電極極漿料料燒結(jié)結(jié)后的的產(chǎn)生生的彎彎曲34新型顯顯示技技術(shù)（2））PDP專用基基板玻玻璃優(yōu)點(diǎn)：：高應(yīng)變點(diǎn)點(diǎn)，如如PD200（應(yīng)變點(diǎn)點(diǎn)570℃℃）、、CS25（應(yīng)變變點(diǎn)610℃）），熱穩(wěn)定定性好好。缺點(diǎn)：：價(jià)格昂昂貴35新型顯顯示技技術(shù)PDP用玻璃璃基板板生產(chǎn)產(chǎn)廠家家日本：：主要有有旭硝硝子、、Central硝子、日本本板硝子等等公司。旭硝子于1991年年前后與PDP廠家簽訂共共同開發(fā)合合司；1992年年制成PDP用玻璃板；；l995年夏購入PDP用玻璃基板板的浮法生生產(chǎn)設(shè)備，，同年開始始出售小批量產(chǎn)產(chǎn)品；1996年年7月發(fā)表表關(guān)于PDP高應(yīng)變溫度度玻璃的信信息。其他：美國Corning公司和法國國SaintGobain公司聯(lián)合進(jìn)進(jìn)行PDP用玻璃基板板的生產(chǎn)。。36新型顯示技技術(shù)（二）透明明電極作用：透明電極僅僅設(shè)置在AC-PDP的前基板上上，減少對對可見光的的阻擋，并并與同一基基板上設(shè)置置的匯流電電極成對構(gòu)構(gòu)成放電用用的電極，，即顯示電電極。技術(shù)要求:可見光透過過率高，電電導(dǎo)率高，，刻蝕性能能優(yōu)良。37新型顯示技技術(shù)實(shí)用材料：：氧化銦錫（（ITO）薄膜、SnO2薄膜。ITO膜采用氧化化銦與氧化化錫比值大大致為9：：1的混合合物靶通過過濺射法制制?。訉泳哂袃?yōu)良良的光透射射率及導(dǎo)電電性。PDP用ITO膜的表面電電阻從20—30／(每單位面積積電阻，膜膜厚1500A)到1000／(膜厚500A)。38新型顯示技技術(shù)ITO薄膜特點(diǎn)：：ITO工藝成熟，，刻蝕性能能良好，但但在PDP工藝中經(jīng)過過高溫處理理時(shí)，阻值值變化較大大。SnO2薄膜特點(diǎn)：：成膜工藝簡簡單，成本本低，且熱熱穩(wěn)定性好好，但其刻刻蝕性能不不易掌握。。39新型顯示技技術(shù)（三）匯流流電極和尋尋址電極匯流電極:?作用:減小顯示電電極電阻?要求:導(dǎo)電性能好好，與透明明導(dǎo)電薄膜膜附著力強(qiáng)強(qiáng)?制作材料和和方法:Cr-Cu-Cr薄膜磁控濺射法法制備薄膜膜，刻蝕成成形Ag漿料絲網(wǎng)印刷圖圖形，燒結(jié)結(jié)制成光敏Ag漿料絲網(wǎng)印刷，，光刻成形形，燒結(jié)制制成40新型顯示技技術(shù)尋址電極極:?要求:導(dǎo)電性能能好，與與基板玻玻璃附著著力強(qiáng)。。?制作材料料和方法法:Ag漿料絲絲網(wǎng)印印刷圖形形，燒結(jié)結(jié)制成。。光敏Ag漿料絲絲網(wǎng)網(wǎng)印刷，，光刻成成形，燒燒結(jié)制成成。41新型顯示示技術(shù)（四）介介質(zhì)層?作用:把電極與與放電等等離子體體分隔開開，限制制了放電電電流的的無限增增長，保保護(hù)了電電極；使AC-PDP工作在存存儲模式式,有利于降降低放電電的維持持電壓。。?材料:介質(zhì)漿料料主要由由玻璃粉粉、樹脂脂粘結(jié)劑劑、溶劑劑等組成成。42新型顯示示技術(shù)介質(zhì)漿料料種類:(1)流流動(dòng)型型介質(zhì)燒結(jié)結(jié)溫度遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于介介質(zhì)的軟軟化點(diǎn)。。特點(diǎn)：透透過率高高，表面面平滑性性好，但但與電極極反應(yīng)大大，絕緣緣性能不不如軟化化型漿料料。(2)軟軟化型介質(zhì)的燒燒結(jié)溫度度在介質(zhì)質(zhì)的軟化化點(diǎn)附近近。特點(diǎn)：絕絕緣性能能良好，，與電極極反應(yīng)小小，但表表面平滑滑性差、、透過率率低。43新型顯示示技術(shù)兩種介質(zhì)質(zhì)層材料料性能的的比較44新型顯示示技術(shù)（五）介介質(zhì)保護(hù)護(hù)膜?作用:延長顯示示器的壽壽命；增加工作作電壓的的穩(wěn)定性性；降低器件件的著火火電壓；；減小放電電的時(shí)間間延遲。。45新型顯示示技術(shù)?技術(shù)要求求:①二次電電子發(fā)射射系數(shù)高高；②表面電電阻率及及體電阻阻率高：：s>1012Ω/□，，v>1011Ω.m；；③耐離子轟轟擊；④擊穿強(qiáng)強(qiáng)度高：：E>(8-10)×106v/m；⑤與介質(zhì)質(zhì)層的膨膨脹系數(shù)數(shù)相近；；⑥放電延延遲?。?；⑦易于制制備。46新型顯示示技術(shù)?材料:可供選擇擇的保護(hù)護(hù)膜材料料有：（1）堿堿金屬氧氧化物（（CsO））：優(yōu)點(diǎn)是使使PDP工作電壓壓低，缺缺點(diǎn)是CsO在空氣中中極不穩(wěn)穩(wěn)定，難難以制備備保護(hù)膜膜。（2）堿堿土金屬屬（ⅡA族）氧化化物：BaO，，MgO，CaO，SrO工作電壓壓低，且且提高了了PDP的工作穩(wěn)穩(wěn)定性，，但它們們在空氣氣中的穩(wěn)穩(wěn)定性也也較差。。（3）ⅢⅢB及Ⅳ族氧氧化物：：Al2O3，SiO2，TiO2，ZrO2，HfO2等，工作作穩(wěn)定性性好，但但工作電電壓高。。47新型顯示示技術(shù)（4）La系金屬氧氧化物：：La2O3、CeO2等，工作作電壓低低，工作作穩(wěn)定，，但放電電延時(shí)大大。以上材料料中，MgO薄膜不僅僅具有很很強(qiáng)的抗抗濺射能能力，而而且有很很高的二二次電子子發(fā)射系系數(shù)，有有利于提提高PDP的壽命和和降低PDP的工作電電壓；MgO薄膜最適適合作為為PDP的介質(zhì)保保護(hù)薄膜膜。48新型顯示示技術(shù)MgO晶體的性性質(zhì)MgO是一種面面心立方方晶體，，其晶格格常數(shù)為為4.213?，主要以(111)、(200)、(220)三種種晶面取取向存在在。MgO的禁帶寬寬度為6-7.8eV，逸出功為為6.85eV-8.65eV。。(1)物物理特特性：熔點(diǎn)為2827℃，折折射率率為1.7，對對紫外區(qū)區(qū)強(qiáng)烈的的吸收，，對可見見光區(qū)透透明，介電常數(shù)數(shù)為9~10，，表面電電阻率ρs>1012Ω/口，體電阻率率高ρv=1011~1013Ω.m49新型顯示示技術(shù)(2)化學(xué)性質(zhì)質(zhì)在室溫下下空氣中中發(fā)生以以下反應(yīng)應(yīng)：在高溫下下將發(fā)生生以下反反應(yīng)：50新型顯示示技術(shù)（六）障障壁?作用:①保證兩塊基基板間的放電電間隙，確保保一定的放電電空間；②防止相鄰單單元間的光電電串?dāng)_。?技術(shù)要求:對障壁的要求求是高度一致致(偏差在5m以內(nèi))，形狀狀均勻。障壁寬度應(yīng)盡盡可能窄，以以增大單元的的開口率，提提高器件亮度度。51新型顯示技術(shù)術(shù)?障壁材料:低熔點(diǎn)玻璃漿漿料（七）熒光粉粉層將VUV轉(zhuǎn)變?yōu)榭梢姽夤?，?shí)現(xiàn)彩色色顯示。要求:發(fā)光效率高，，色彩飽和度度高，厚度均均勻.（八）放電氣氣體用于產(chǎn)生真空空紫外輻射（（VUV）。彩色AC-PDP制作工藝前基板制作工序后基板制作工序基板玻璃檢查、清洗透明電極（ITO）制作匯流電極制作透明介質(zhì)層制作封接邊制作介質(zhì)保護(hù)膜制作基板玻璃檢查、打孔基板玻璃檢查、清洗尋址電極制作介質(zhì)層制作障壁制作熒光粉層制作總裝工序前后基板對位、封接排氣、充氣老練練驅(qū)動(dòng)線路裝配配53新型顯示技術(shù)術(shù)絲網(wǎng)印刷原理理示意圖1.絲網(wǎng)印印版（a.網(wǎng)框,b.絲網(wǎng)上非圖文文部分(簡稱稱版膜),c.絲網(wǎng)上圖文部部分）,2.刮板,3.漿漿料,4.基板板絲網(wǎng)印刷的工工藝流程：絲印制版絲網(wǎng)印刷漿料烘干漿料燒結(jié)用絲網(wǎng)印刷法法制作PDP的各個(gè)部件，，其質(zhì)量取決決于多種因素素：（1）漿料方方面漿料的性質(zhì)、、成分、顆粒粒度及均勻性性、載體材料料、粘度及觸觸變性等。abc123454新型顯顯示技技術(shù)（2））基板板方面面基板材材料、、尺寸寸精度度、平平整度度和光光潔度度等。。（3））刮板板方面面刮板材材料的的種類類、硬硬度、、形狀狀等。。（4））絲網(wǎng)網(wǎng)方面面絲網(wǎng)材材料的的種類類、性性質(zhì)、、絲網(wǎng)網(wǎng)目數(shù)數(shù)、絲絲網(wǎng)線線徑、、絲網(wǎng)網(wǎng)張力力、版版膜的的種類類、框框架平平整度度、框框架與與網(wǎng)線線夾角角等。。（5））印刷刷方式式方面面印刷接接觸角角、印印刷壓壓力、、印刷刷速度度、印印刷間間隙等等；在在印刷刷環(huán)境境條件件方面面，有有溫度度、濕濕度和和清潔潔度等等。（6））其他他方面面干燥時(shí)時(shí)間和和溫度度以及及燒結(jié)結(jié)工藝藝等。。55新型顯顯示技技術(shù)印刷工工藝的的優(yōu)點(diǎn)點(diǎn)：具有設(shè)設(shè)備低低價(jià)，，工藝藝簡易易，生生產(chǎn)率率高、、成本本低等等優(yōu)點(diǎn)點(diǎn)。主主要用用來制制造匯匯流電電極、、尋址址電極極、介介質(zhì)層層、熒熒光粉粉層、、障壁壁、封封接層層等部部件。。缺點(diǎn)：：與光刻刻技術(shù)術(shù)相比比，印印刷工工藝的的缺點(diǎn)點(diǎn)是精精度較較差，，分辨辨率不不易做做高。。56新型顯顯示技技術(shù)光刻工工藝：：掩模板板的制制造、、圖形形從掩掩模板板至待待刻蝕蝕材料料的轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)移。?；迩扒疤幚砝砜刮g劑劑涂覆覆待刻蝕蝕材料涂覆覆掩模對對準(zhǔn)曝光光顯影、、堅(jiān)膜膜刻蝕蝕去膠膠掩模制制作掩模圖圖形設(shè)設(shè)計(jì)掩模原原圖主掩掩模模工作掩掩模57新型顯顯示技技術(shù)影響圖圖形加加工精精度主主要因因素：：掩模模板板的的質(zhì)質(zhì)量量和和精精度度、、抗抗蝕蝕劑劑的的性性能能、、圖圖形形的的形形成成方方法法及及裝裝置置精精度度、、位位置置的的對對準(zhǔn)準(zhǔn)方方法法及及精精度度、、刻刻蝕蝕方方法法等等。。光刻刻工工藝藝的的特特點(diǎn)點(diǎn)：：能夠夠?qū)崒?shí)現(xiàn)現(xiàn)大大面面積積、、高高精精度度的的圖圖形形，，且且工工藝藝成成熟熟。。如如用用來來制制作作PDP絲網(wǎng)網(wǎng)印印刷刷漏漏印印版版，，以以及及PDP的ITO電極極、、Cr-Cu-Cr電極極等等部部件件。。58新型型顯顯示示技技術(shù)術(shù)浮法法工工藝藝過過程程：：玻璃璃板板制制造造工工藝藝59新型型顯顯示示技技術(shù)術(shù)前基基板板的的關(guān)關(guān)鍵鍵制制造造工工藝藝(一一)透透明明電電極極的的制制作作ITO連續(xù)續(xù)薄薄膜膜的的形形成成：：磁控控濺濺射射鍍鍍ITO膜的的特特點(diǎn)點(diǎn):高速速（（沉沉積積速速度度高高））、、低低溫溫（（靶靶和和基基板板的的溫溫度度都都較較低低））、、低低損損傷傷（（基基板板表表面面受受高高能能電電子子轟轟擊擊損損傷傷小?。?。。60新型型顯顯示示技技術(shù)術(shù)光刻刻出出ITO電極極圖圖形形：：61新型型顯顯示示技技術(shù)術(shù)(二二)匯匯流流電電極極的的制制作作富士士通通公公司司采采用用Cr-Cu-Cr薄膜膜材材料料制制作作匯匯流流電電極極。。底層層Cr用來來增增加加電電極極和和玻玻璃璃基基板板的的附附著著力力，，頂頂層層Cr用來防防止Cu的氧化化，Cu是電極極導(dǎo)電電的主主體。。Cr和Cu薄膜用用濺射射法制制作。。特點(diǎn)：：圖形精精細(xì)準(zhǔn)準(zhǔn)確，，邊緣緣整齊齊導(dǎo)電性性能優(yōu)優(yōu)良，，但其制制作工工藝復(fù)復(fù)雜，，成本本較高高。62新型顯顯示技技術(shù)采用厚厚膜技技術(shù)制制作匯匯流電電極的的方法法：（1））絲網(wǎng)網(wǎng)印刷刷法把金屬屬漿料料印刷刷在透透明ITO膜的邊邊緣上上，再再經(jīng)高高溫?zé)裏Y(jié)而而成。。這是是厚膜膜技術(shù)術(shù)中普普遍采采用的的制作作方法法，最最常用用的金金屬漿漿料是是Ag漿料。。（2））厚膜膜光刻刻技術(shù)術(shù)使用的的材料料是光光敏Ag漿料（（主要要由顆顆粒極極細(xì)的的Ag粉和感感光樹樹脂構(gòu)構(gòu)成）），用用絲網(wǎng)網(wǎng)印刷刷的方方法形形成幾幾微米米厚的的連續(xù)續(xù)膜層層，然然后用用光刻刻法形形成電電極，，最后后經(jīng)燒燒結(jié)而而成。。63新型顯顯示技技術(shù)(三)上基基板介介質(zhì)層層的制制作要求:(1)透透過率率高。。(2)燒燒成膜膜表面面光滑滑、致致密、、無絲絲網(wǎng)印印刷痕痕跡。。(3)絕絕緣性性要求求比下下板更更高。。(4)與電電極反反應(yīng)小小。(5)與與玻璃璃附著著牢固固。64新型顯顯示技技術(shù)介質(zhì)層層的缺缺陷：：厚度度均勻勻性差差介質(zhì)層層表面面粗糙糙度大大針孔、氣氣泡由于異物物而造成成的下陷陷和突起起等65新型顯示示技術(shù)印刷壓力力刮刀角度度介質(zhì)漿料料絲網(wǎng)厚度度絲網(wǎng)開口口率絲網(wǎng)與基基板之間間的間隙隙影響介質(zhì)質(zhì)層厚度度的因素素：66新型顯示示技術(shù)影響介質(zhì)質(zhì)層表面面粗糙度度的因素素：介質(zhì)層表表面有粗粗糙度，，這是由由于介質(zhì)質(zhì)膜是通通過絲網(wǎng)網(wǎng)形成的，因此此印刷完完畢后，，在介質(zhì)質(zhì)表面會(huì)會(huì)產(chǎn)生絲絲網(wǎng)痕跡跡。由于介質(zhì)質(zhì)層下面面有電極極，也會(huì)會(huì)導(dǎo)致介介質(zhì)表面面起伏不不平。為了克服服這一點(diǎn)點(diǎn)，有必必要在介介質(zhì)印完完以后室室溫下放放置10分鐘，，使?jié){料料自行流流平。67新型顯示示技術(shù)造成針孔孔的原因因：絲網(wǎng)堵孔孔玻板表面面有突起起有污染物等等氣泡的產(chǎn)產(chǎn)生原因因：電極或玻玻璃表面面不平整整有灰塵和異異物克服由于于異物而而造成的的下陷和和突起的的措施：：提高環(huán)境境潔凈度度克服針孔孔和氣泡泡的方法法：多層印刷刷。68新型顯示示技術(shù)對介質(zhì)層層漿料的的烘干及及燒結(jié)工工藝烘干目的的：使?jié){料中中的溶劑劑揮發(fā)的的過程。。烘干工藝藝：溫度為100～～150℃，時(shí)時(shí)間為6～12分鐘。。燒結(jié)目的的：去除有機(jī)機(jī)樹脂成成份，而而對上板板介質(zhì)，，還要保保證一定定的透明明度和表表面平滑滑性。燒結(jié)工藝藝：介質(zhì)漿料料有軟化化點(diǎn)不同同以及其其他相關(guān)關(guān)性能的的不同，，因此燒燒結(jié)溫度度也要根根據(jù)所使使用的漿漿料來選選定。69新型顯示示技術(shù)燒結(jié)時(shí)升升溫速率率與介質(zhì)質(zhì)表面狀狀態(tài)和介介質(zhì)缺陷陷的關(guān)系系：介質(zhì)燒結(jié)結(jié)時(shí)會(huì)產(chǎn)產(chǎn)生以下下反應(yīng):CxHyOz+O2CO2+H2O若升溫速速率太慢慢，則燒燒結(jié)時(shí)間間太長，，不利于于生產(chǎn)；；若升溫度度速太快快，介質(zhì)質(zhì)里邊的的氣體會(huì)會(huì)沖出介介質(zhì)表面面形成空空洞，也也可能由由于介質(zhì)質(zhì)表面有有機(jī)樹脂脂揮發(fā)太太快而使使表面過過早固化化，包住住了介質(zhì)質(zhì)里邊的的氣體使使介質(zhì)內(nèi)內(nèi)部產(chǎn)生生氣泡；；使介質(zhì)里里邊的樹樹脂因缺缺少氧氣氣而無法法氧化、、分解成成氣體，，造成介介質(zhì)層絕絕緣性能能下降，，在放電電時(shí)易產(chǎn)產(chǎn)生打火火。70新型顯示示技術(shù)(四)封封接層的的制作對封接層層的涂覆覆要求：：四條邊的的厚度和和寬度均均勻一致致，以保保證密封封質(zhì)量。。一般采采用絲網(wǎng)網(wǎng)印刷法法或噴涂涂法制作作，然后后進(jìn)行預(yù)預(yù)燒結(jié)。。71新型顯示示技術(shù)由膜材料料和對膜膜特性的的要求所所決定，，要選擇擇適于制制取高熔熔點(diǎn)介質(zhì)質(zhì)膜的方方法；經(jīng)濟(jì)性；；各工藝參參數(shù)是否否簡單、、可控；；設(shè)備的體體積、成成本等。。PDP對保護(hù)膜膜特性的的要求為為：大面積均均勻；二次電子發(fā)射射系數(shù)高；膜層致密；潔凈。選擇PDP介質(zhì)保護(hù)膜制制備方法時(shí)考考慮的因素：：(五)介質(zhì)保保護(hù)膜的制作作72新型顯示技術(shù)術(shù)電子束蒸發(fā)成成膜技術(shù)中，，影響薄膜特特性的主要因因素：蒸發(fā)速率基片溫度蒸發(fā)原子入射射方向基片表面狀態(tài)態(tài)真空度等73新型顯示技術(shù)術(shù)主要制作材料料：純氧化鎂膜料料蒸發(fā)前的本底底真空度：10-4Pa。蒸發(fā)過程中通通入氧氣。薄膜厚度的不不均勻度要求求：±10%以內(nèi)內(nèi)。電子束蒸發(fā)鍍鍍膜裝置示意意圖電子束蒸發(fā)制制備的MgO薄膜的結(jié)構(gòu)呈呈現(xiàn)出明顯的的<111>結(jié)晶面擇優(yōu)取取向。由于相相對于其它結(jié)結(jié)晶取向來說說，<111>結(jié)晶面擇優(yōu)取取向的MgO薄膜最能降低低PDP的著火電壓。。加熱裝置基片夾具膜料坩堝電子槍鐘罩抽氣系統(tǒng)充氧系統(tǒng)基片旋轉(zhuǎn)74新型顯示技術(shù)術(shù)后基板的關(guān)鍵鍵制造工藝(一)尋址電電極的制作一般采用絲網(wǎng)網(wǎng)印刷法或厚厚膜光刻技術(shù)術(shù)制作。(二)介質(zhì)層層的制作(1)反射射率高,它它可以將熒光光粉發(fā)出的光光全部反射到到屏前面來。。(2)燒成成膜平滑,以以利于障壁壁的印刷。(3)絕緣緣性好,滿滿足尋址要要求。(4)抗磨損損,與玻璃璃附著牢固。。(5)與電極極反應(yīng)小。采用絲網(wǎng)印刷刷法制作。75新型顯示技術(shù)術(shù)(三)障壁的的制作障壁高度一般般在100200m的范圍。主要要制作技術(shù)有有：1．絲網(wǎng)印刷刷優(yōu)點(diǎn)：材料浪費(fèi)少，，材料成本低低。缺點(diǎn)：工藝步驟多，，制作時(shí)間長長，對位要求求嚴(yán)格，而且且要求操作人人員有熟練的的技術(shù)，以及及對印刷設(shè)備備的性能、漿漿料性能、環(huán)環(huán)境對絲網(wǎng)的的影響等有全全面的了解，，所以制作工工藝復(fù)雜。黑頂白色主體基板玻璃76新型顯示技術(shù)術(shù)Photographofthetopshapeoftheprintingribbeforepolishing77新型顯示技術(shù)術(shù)2．噴砂法由于采用光刻刻中的曝光技技術(shù)，障壁尺尺寸一致性好好，目前障壁壁的寬度實(shí)驗(yàn)驗(yàn)室可做到30m，生產(chǎn)上做到70m，有利于器件開開口率的提高高。噴砂法僅需和和尋址電極對對準(zhǔn)一次，制制作大面積器器件時(shí)失配的的問題較小。。噴砂法的生生產(chǎn)率高，只只需數(shù)分鐘就就可完成噴砂砂刻蝕。噴砂砂法是一種適適合于大生產(chǎn)產(chǎn)的工藝技術(shù)術(shù)。噴砂法的缺點(diǎn)點(diǎn)是材料利用用率低，并且且被噴砂刻蝕蝕的材料中含含有不少鉛的的氧化物，污污染環(huán)境。噴砂法制作障障壁示意圖光敏干膜障壁材料層噴嘴砂粒障壁干膜光刻制出圖形噴砂去除干膜燒結(jié)78新型顯示技術(shù)術(shù)(四)熒光粉粉層的制作采用絲網(wǎng)印刷刷法或厚膜光光刻法制作。。79新型顯示技術(shù)術(shù)80新型顯示技術(shù)術(shù)81新型顯示技術(shù)術(shù)82新型顯示技術(shù)術(shù)要求熒光粉均均勻地涂覆在在單元的谷底底和障壁的側(cè)側(cè)壁上，以增增大視角，而而在障壁頂部部不能留有熒熒光粉，防止止混色。83新型顯示示技術(shù)84新型顯示示技術(shù)總裝工藝藝(一)前前后基板板封接：：在封接過過程中，，通常采采用兩次次燒結(jié)工工藝。對封接的的要求：：強(qiáng)度高，，氣密性性好。85新型顯示示技術(shù)(二)排排氣、、充氣工工藝在400多度的的溫度下下進(jìn)行低低熔點(diǎn)玻玻璃封接接——溫度降到到300多度時(shí)時(shí)保溫,并對顯顯示板排排氣——溫度降到到室溫時(shí)時(shí)，充入入按一定定比例混混合好的的氣體——最后封離離排氣管管。排氣、充充氣系統(tǒng)統(tǒng)示意圖圖擴(kuò)散泵機(jī)械泵冷阱真空壓力力計(jì)烘箱PDP電離計(jì)熱偶計(jì)氣體I氣體II氣體III減壓閥86新型顯示示技術(shù)(三)老老練在顯示電電極間加加維持電電壓，直直到PDP的著火電電壓和熄熄火電壓壓穩(wěn)定。。87新型顯示示技術(shù)驅(qū)動(dòng)電路路基本框框圖驅(qū)動(dòng)電路路的功能能：把邏輯輸輸出控制制狀態(tài)轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)換為高高壓脈沖沖輸出，，目的是是獲得足足夠的功功率去驅(qū)驅(qū)動(dòng)顯示示器。X、Y電極驅(qū)動(dòng)動(dòng)的形式式相同，，只是輸輸出波形形相位相相差180。。88新型顯示示技術(shù)老煉過程程中雜質(zhì)質(zhì)氣體產(chǎn)產(chǎn)生的機(jī)機(jī)理MgO膜的化學(xué)學(xué)性質(zhì)較較為活潑潑，在室室溫下空空氣中可可以發(fā)生生以下反反應(yīng)：在高溫下下將發(fā)生生以下反反應(yīng)：22MgO+ClMgCl?2MgO+CMgC?22MgO+NMgN?22MgO+HOMg(OH)?23MgO+COMgCO?89新型顯示示技術(shù)在室溫下下空氣中中，MgO薄膜極易易吸水，，水以游游離態(tài)和和化合態(tài)態(tài)存在，，化合態(tài)態(tài)的水主主要是以以Mg(OH)2羥基化合合物的形形式存在在；MgO薄膜還會(huì)會(huì)與大氣氣中二氧氧化碳發(fā)發(fā)生反應(yīng)應(yīng)生成MgCO3；在膜表面面吸附大大量的氣氣體（如如O2、H2等氣體））。MgO薄膜表面面產(chǎn)生的的這些化化合物和和吸附的的氣體，，將引起起離子碰碰撞二次次電子發(fā)發(fā)射系數(shù)數(shù)降低和和放電氣氣體成分分的改變變，導(dǎo)致致PDP著火電壓壓升高。。MgO膜表面的的污染:90新型顯示示技術(shù)(四)引引線連接接由于顯示示板和FPC連接處的的引線間間距一般般只有0.250.20mm(可能達(dá)到到0.1mm)，通常要采采用一種種稱為各各向異性性導(dǎo)電膜膜（AnisotropicConductiveFilm,ACF）的材料。。FPC與顯示屏屏引出電電極的熱熱壓步驟驟91新型顯示示技術(shù)(五)裝裝配配驅(qū)動(dòng)電電路liulin@YThankYou!9、靜夜夜四無無鄰，，荒居居舊業(yè)業(yè)貧。。。12月月-2212月月-22Wednesday,December7,202210、雨雨中中黃黃葉葉樹樹，，燈燈下下白白頭頭人人。。。。22:29:2322:29:2322:2912/7/202210:29:23PM11、以我獨(dú)沈沈久，愧君君相見頻。。。12月-2222:29:2322:29Dec-2207-Dec-2212、故人江海海別，幾度度隔山川。。。22:29:2322:29:2322:29Wednesday,December7,202213、乍見見翻疑疑夢，，相悲悲各問問年。。。12月月-2212月月-2222:29:2322:29:23December7,202214、他鄉(xiāng)鄉(xiāng)生白白發(fā)，，舊國國見青青山。。。07十十二二月202210:29:23下下午午22:29:2312月月-2215、比不了得就就不比，得不不到的就不要要。。。十二月2210:29下下午12月-2222:29December7,202216、行動(dòng)出成果果，工作出財(cái)財(cái)富。。2022/12/722:29:2322:29:2307December202217、做前前，能能夠環(huán)環(huán)視四四周；；做時(shí)時(shí)，你你只能能或者者最好好沿著著以腳腳為起起點(diǎn)的的射線線向前前。。。10:29:23下下午