標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 11162-2009 光學(xué)分劃零件通用技術(shù)條件》相比于其前版《GB/T 11162-1989》,主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了修訂和更新:
-
技術(shù)內(nèi)容的擴(kuò)充與細(xì)化:新版標(biāo)準(zhǔn)對(duì)光學(xué)分劃零件的材料、設(shè)計(jì)、制造工藝、檢驗(yàn)方法及驗(yàn)收規(guī)則等方面均進(jìn)行了更詳細(xì)的規(guī)定,以適應(yīng)近年來(lái)光學(xué)技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用需求的提高。
-
性能指標(biāo)的提升:針對(duì)光學(xué)分劃的精度、清晰度、穩(wěn)定性等關(guān)鍵性能指標(biāo),2009版標(biāo)準(zhǔn)提出了更為嚴(yán)格的要求,確保光學(xué)分劃零件能夠滿足高精度儀器和設(shè)備的使用標(biāo)準(zhǔn)。
-
檢測(cè)方法的改進(jìn):引入了新的檢測(cè)技術(shù)和手段,對(duì)光學(xué)分劃零件的檢測(cè)方法進(jìn)行了優(yōu)化,提高了檢測(cè)的準(zhǔn)確性和效率,確保產(chǎn)品質(zhì)量控制的可靠性。
-
標(biāo)準(zhǔn)化與國(guó)際接軌:2009版標(biāo)準(zhǔn)在制定過(guò)程中參考了國(guó)際上先進(jìn)的標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)規(guī)范,增強(qiáng)了標(biāo)準(zhǔn)的國(guó)際化水平,便于國(guó)內(nèi)外技術(shù)交流和產(chǎn)品互認(rèn)。
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環(huán)境保護(hù)與安全要求:新增了對(duì)生產(chǎn)過(guò)程中的環(huán)保要求和產(chǎn)品使用安全性的規(guī)定,體現(xiàn)了對(duì)可持續(xù)發(fā)展和社會(huì)責(zé)任的關(guān)注。
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術(shù)語(yǔ)和定義的更新:根據(jù)光學(xué)領(lǐng)域的新進(jìn)展,對(duì)部分專業(yè)術(shù)語(yǔ)進(jìn)行了重新定義或補(bǔ)充,使標(biāo)準(zhǔn)的表述更加準(zhǔn)確、科學(xué)。
-
結(jié)構(gòu)和格式的調(diào)整:標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)布局和表述形式按照最新的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)編寫(xiě)規(guī)則進(jìn)行了調(diào)整,使得標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容更加條理清晰,便于使用者查閱和執(zhí)行。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2009-09-30 頒布
- 2009-12-01 實(shí)施
文檔簡(jiǎn)介
犐犆犛37.020
犖30
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
犌犅/犜11162—2009
代替GB/T11162—1989
光學(xué)分劃零件通用技術(shù)條件
犌犲狀犲狉犪犾狊狆犲犮犻犳犻犮犪狋犻狅狀狅犳狅狆狋犻犮犪犾犮狅犿狆狅狀犲狀狋狊犳狅狉狋犺犲狊犮犪犾犲犪狀犱狊狌狉犳犪犮犲犱犲犳犲犮狋狊
20090930發(fā)布20091201實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局
發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
書(shū)
犌犅/犜11162—2009
目次
前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
1范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
2規(guī)范性引用文件!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
3要求!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
4試驗(yàn)方法!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!5
5圖紙上的標(biāo)注!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!7
附錄A(規(guī)范性附錄)線條光密度的標(biāo)準(zhǔn)樣品!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!9
附錄B(資料性附錄)分劃區(qū)的劃分!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!10
附錄C(資料性附錄)分劃線寬度測(cè)量瞄準(zhǔn)基準(zhǔn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!11
書(shū)
犌犅/犜11162—2009
前言
本標(biāo)準(zhǔn)代替GB/T11162—1989《光學(xué)分劃零件通用技術(shù)條件》。
本標(biāo)準(zhǔn)與GB/T11162—1989的主要差異為:
———規(guī)范了GB/T11162—1989第2章中的引用標(biāo)準(zhǔn)。
———按GB/T1.1的編寫(xiě)要求,將GB/T11162—1989第3章劃分為“要求”和“試驗(yàn)方法”兩章。
———將“網(wǎng)格板”增加到適用范圍中。
———將試驗(yàn)工具“線紋比較儀”改為“阿貝線紋比較儀”,部分條款改為“測(cè)量不確定度為被測(cè)指標(biāo)偏
差(1/3~1/5)的測(cè)量?jī)x器”。
———?jiǎng)h除字型和符號(hào)的筆劃線寬度和長(zhǎng)度變化的規(guī)定。
———增加附錄C(資料性附錄):分劃線寬度測(cè)量瞄準(zhǔn)基準(zhǔn)。
本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A為規(guī)范性附錄,附錄B、附錄C為資料性附錄。
本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC103)歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位:上海理工大學(xué)、南京志業(yè)光電精密技術(shù)有限責(zé)任公司。
本標(biāo)準(zhǔn)參加起草單位:南京江南永新光學(xué)有限公司、寧波永新光學(xué)股份有限公司、蘇州一光儀器有
限公司。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:黃衛(wèi)佳、劉懷道。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為:
———GB/T1784—1979;
———GB/T11162—1989。
Ⅰ
犌犅/犜11162—2009
光學(xué)分劃零件通用技術(shù)條件
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了光電儀器用光學(xué)分劃零件的分劃線、字型和符號(hào)的筆劃線、表面疵病的要求、試驗(yàn)方
法和在圖紙上的標(biāo)注。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于玻璃分劃板(鏡)、分劃尺、網(wǎng)格板和度盤(pán),其他種類的光學(xué)分劃零件可參照使用。
本標(biāo)準(zhǔn)不適用于光柵尺、光柵盤(pán)、編碼盤(pán)和分辨率板等。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過(guò)本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有
的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究
是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
GB/T1184形狀和位置公差未注公差的規(guī)定(GB/T1184—1996,eqvISO27682:1989)
GB/T1185光學(xué)零件表面疵病(GB/T1185—2006,ISO101107:1996,NEQ)
3要求
3.1分劃線寬度基本尺寸偏差和同一零件上寬度基本尺寸相同的分劃線彼此間寬度均勻性,不應(yīng)超過(guò)
表1的規(guī)定。
表1分劃線寬度基本尺寸偏差和寬度均勻性單位為毫米
基本尺寸犅?tīng)隆埽埃埃埃常埃埃埃常紶隆埽埃埃埃罚埃埃埃罚紶隆埽埃埃保玻埃埃保玻紶隆埽埃埃玻埃埃玻紶隆埽埃埃?/p>
偏差±0.0005±0.001±0.0015±0.0025±0.0040
1級(jí)
均勻性0.00050.00100.00150.00250.0040
偏差±0.0010±0.0015±0.0030±0.0050±0.0070
2級(jí)
均勻性0.00100.00150.00300.00500.0070
基本尺寸犅0.03<犅≤0.050.05<犅≤0.080.08<犅≤0.120.12<犅≤0.2犅>0.2
偏差±0.006±0.010±0.015±0.020正負(fù)線寬的10%
1級(jí)
均勻性0.0060.0080.0100.015線寬的10%
偏差±0.010±0.015±0.030±0.030正負(fù)線寬的15%
2級(jí)
均勻性0.0100.012
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