(12)發(fā)明專利地址110171遼寧省沈陽市渾南區(qū)水家900號有限公司11463HO1L21/687(200HO1L21/67(2006.01)JP2014065018A,2014.04.17述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷，所述凹陷部設(shè)置于所述支撐柱本體的側(cè)在工藝過程中晶圓支撐柱與晶圓之間的靜電力212所述晶圓支撐柱包括支撐柱本體，所述支撐柱本體的外表面設(shè)有凹陷部，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷，所述凹陷部設(shè)置于所述支撐柱本體的側(cè)壁，且所述凹陷部的頂部與所述支撐柱本體的頂端部相接，所述凹陷部的底部與所述支撐柱本體的底端部相接；所述凹陷部設(shè)有N個，所述N為2或2的倍數(shù)，所述凹陷部兩兩對稱設(shè)置于所述支撐柱本體的側(cè)壁；所述晶圓支撐柱包括上部件、下部件和高度調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)，所述上部件和所述下部件通過所述高度調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)連接固定。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓支撐柱，其特征在于，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度由所述支撐柱本體的頂端部朝所述支撐柱本體的底端部逐漸減小。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓支撐柱，其特征在于，所述凹陷部包括第一凹陷部和第二凹陷部，所述第一凹陷部設(shè)置于所述支撐柱本體的上部，所述第二凹陷部設(shè)置于所述支撐柱本體的下部，且所述第一凹陷部和所述第二凹陷部通過臺階部相接設(shè)置，所述第一凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度為第一徑向長度，所述第二凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度為第二徑向長度，所述第一徑向長度大于所述第二徑向長度。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓支撐柱，其特征在于，所述凹陷部的表面為平面和曲面中的任意一種。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶圓支撐柱，其特征在于，所述第一徑向長度與所述第二徑向6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓支撐柱，其特征在于，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度為0.5mm-1mm。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓支撐柱，其特征在于，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度與所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最小徑向長度的差值不大于0.5mm。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓支撐柱，其特征在于，所述支撐柱本體為圓柱形結(jié)構(gòu)和球形結(jié)構(gòu)中的任意一種。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓支撐柱，其特征在于，所述支撐柱本體的上端部為半球形結(jié)構(gòu)和錐形結(jié)構(gòu)中的任意一種。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓支撐柱，其特征在于，所述支撐柱本體的材料為陶瓷材料、藍寶石玻璃材料和金屬材料中的至少一種。11.一種晶圓處理設(shè)備，其特征在于，包括設(shè)置于腔體內(nèi)的基座和如權(quán)利要求1-10任意一項所述的晶圓支撐柱，所述基座上設(shè)有安裝孔結(jié)構(gòu)，所述晶圓支撐柱設(shè)置于所述安裝孔結(jié)構(gòu)。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的晶圓處理設(shè)備，其特征在于，所述晶圓處理設(shè)備包括處理模塊和裝卸模塊中的至少一種，所述腔體為所述處理模塊和所述裝卸模塊中的任意一種的腔3晶圓支撐柱及晶圓處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種晶圓支撐柱及晶圓處理設(shè)備。背景技術(shù)[0002]現(xiàn)有的半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備，尤其是12英寸半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備中，因鋁制加熱盤具有熱效率高、成本低等優(yōu)勢，故鋁制加熱盤在當(dāng)前的半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備中仍擔(dān)當(dāng)主角。在工藝過程中加熱盤表面需要均布支撐體來支撐晶圓(Wafer),以使晶圓保持水平，保證晶圓表面沉積膜厚度的均勻及工藝穩(wěn)定性。[0003]公開號為CN203983243U的中國專利公開了一種半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備采用的晶圓陶瓷柱，在加熱盤凸臺表面的不同圓周上均布一定數(shù)量的銷孔，加熱盤上的銷孔內(nèi)鑲嵌中心帶孔的陶瓷圓柱座，陶瓷圓柱座的下底面與加熱盤的銷孔底面配合。陶瓷圓柱座的上表面與加熱盤凸臺表面平齊。陶瓷柱的上頂端部分為半球結(jié)構(gòu)，頂端面為球面結(jié)構(gòu)；陶瓷柱的下部分為圓柱結(jié)構(gòu)，保持有一定的直線度。但該專利存在以下問題：[0004](1)工藝過程中，晶圓與陶瓷柱之間存在靜電力或其他吸附力，若晶圓與陶瓷柱之間的靜電力或其他吸附力過大，將會將陶瓷柱從基座孔內(nèi)吸附脫出，從而造成晶圓位置偏[0005](2)銷孔內(nèi)因氣體熱膨脹會導(dǎo)致陶瓷柱從銷孔內(nèi)脫出；[0006](3)在一個或者多個工藝循環(huán)后，因為薄膜沉淀、固體材料熱擴散、以及鋁基體材料氟化層增長等問題會導(dǎo)致陶瓷柱卡死。[0007]因此，有必要提供一種新型的晶圓支撐柱及晶圓處理設(shè)備以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題。發(fā)明內(nèi)容[0008]本發(fā)明的目的在于提供一種晶圓支撐柱及晶圓處理設(shè)備，以減少晶圓支撐柱從基座的支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險，以及減少晶圓支撐柱在基座的支撐柱孔內(nèi)卡死的風(fēng)險。[0009]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的所述晶圓支撐柱，設(shè)置于半導(dǎo)體基座內(nèi)，用于承托晶圓，所述晶圓支撐柱包括支撐柱本體，所述支撐柱本體的外表面設(shè)有至少一個凹陷部，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷，所述凹陷部設(shè)置于所述支撐柱本體的側(cè)壁，且所述凹陷部的頂部與所述支撐柱本體的頂端部相接，所述凹陷部的底部與所述支撐柱本體的底端部相接。[0010]本發(fā)明的所述晶圓支撐柱的有益效果在于：通過所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷，所述凹陷部設(shè)置于所述支撐柱本體的側(cè)壁，且所述凹陷部的頂部與所述支撐柱本體的頂端部相接，即減小了所述支撐柱本體的頂端部的面積，從而減小了晶圓支撐柱與晶圓之間的接觸面積，使得在工藝過程中晶圓支撐柱與晶圓之間的靜電力或其他吸附力減至最小，大大降低晶圓支撐柱從基座的支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險；通過所述凹陷部設(shè)置于所述支撐柱本體的側(cè)壁，且所述凹陷部的頂部與所述支撐柱本體的頂端部相接，4所述凹陷部的底部與所述支撐柱本體的底端部相接，使得所述支撐柱本體的整個柱身由頂端部到底端部整體相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷，使得晶圓支撐柱和基座的支撐柱孔之間具有空隙，從而使支撐柱孔內(nèi)的氣體能從該空隙中排出，以減少了基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而導(dǎo)致晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險，而且晶圓支撐柱和基座的支撐柱孔之間具有空隙，能大大減少晶圓支撐柱在一個或者多個工藝循環(huán)后因為薄膜沉淀、固體材料熱擴散、以及鋁基體材料氟化層增長而導(dǎo)致的卡死風(fēng)險。[0011]優(yōu)選的，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度由所述支撐柱本體的頂端部朝所述支撐柱本體的底端部逐漸減小。其有益效果在于：確保在工藝過程中晶圓支撐柱與晶圓之間的靜電力或其他吸附力減至最小，且在確保減少基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而導(dǎo)致晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險的同時，又能保證所述晶圓支撐柱有足夠的重量以克服基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而產(chǎn)生的向上的沖力，從而大大降低晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險。[0012]優(yōu)選的，所述凹陷部的表面為平面和曲面中的任意一種。[0013]優(yōu)選的，所述凹陷部包括第一凹陷部和第二凹陷部，所述第一凹陷部設(shè)置于所述支撐柱本體的上部，所述第二凹陷部設(shè)置于所述支撐柱本體的下部，且所述第一凹陷部和所述第二凹陷部通過臺階部相接設(shè)置，所述第一凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度為第一徑向長度，所述第二凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度為第二徑向長度，所述第一徑向長度大于所述第二徑向長度。其有益效果在于：確保在工藝過程中晶圓支撐柱與晶圓之間的靜電力或其他吸附力減至最小，且在確保減少基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而導(dǎo)致晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險的同時，又能保證所述晶圓支撐柱有足夠的重量以克服基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而產(chǎn)生的向上的沖力，從而大大降低晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險。[0014]進一步優(yōu)選的，所述第一徑向長度與所述第二徑向長度的差值為0.2mm-1mm益效果在于：確保在工藝過程中晶圓支撐柱與晶圓之間的靜電力或其他吸附力減至最小，且在確保減少基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而導(dǎo)致晶圓支撐柱從基座的支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險的同時，又能保證所述晶圓支撐柱有足夠的重量以克服基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而產(chǎn)生的向上的沖力，從而大大降低晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險。[0015]優(yōu)選的，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度為0.5mm-1mm。其有益效果在于：以確保在工藝過程中晶圓支撐柱與晶圓之間的靜電力或其他吸附力減至最小，以及保證了使晶圓支撐柱和基座支撐柱孔之間具有空隙的同時，又不會使所述凹陷部向內(nèi)凹陷太多，而導(dǎo)致所述晶圓支撐柱的重量減小到其自身的重量不足以克服基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而產(chǎn)生的向上的沖力，從而大大降低了晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險。[0016]優(yōu)選的，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度與所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最小徑向長度的差值不大于述支撐柱本體的側(cè)壁。其有益效果在于：有利于提升晶圓支撐柱承托晶圓的穩(wěn)定性，確保晶圓不會傾斜。5[0018]優(yōu)選的，所述支撐柱本體為圓柱形結(jié)構(gòu)和球形結(jié)構(gòu)中的任意一種。[0019]優(yōu)選的，所述支撐柱本體的上端部為半球形結(jié)構(gòu)和錐形結(jié)構(gòu)中的任意一種優(yōu)選的，所述支撐柱本體的底端部為曲面結(jié)構(gòu)和平面結(jié)構(gòu)中的任意一種。[0020]優(yōu)選的，所述支撐柱本體的材料為陶瓷材料、藍寶石玻璃材料和金屬材料中至少的任意一種。[0021]優(yōu)選的，所述晶圓支撐柱包括上部件、下部件和高度調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)，所述上部件和所述下部件通過所述高度調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)連接固定。其有益效果在于：以實現(xiàn)調(diào)節(jié)所述晶圓支撐柱的[0022]優(yōu)選的，本發(fā)明的所述晶圓處理設(shè)備，包括設(shè)置于腔體內(nèi)的基座和所述晶圓支撐柱，所述基座上設(shè)有安裝孔結(jié)構(gòu)，所述晶圓支撐柱設(shè)置于所述安裝孔結(jié)構(gòu)。[0023]本發(fā)明的所述晶圓處理設(shè)備的有益效果在于：通過所述晶圓處理設(shè)備包括設(shè)置于腔體內(nèi)的基座和所述晶圓支撐柱，所述基座上設(shè)有安裝孔結(jié)構(gòu)，所述晶圓支撐柱設(shè)置于所述安裝孔結(jié)構(gòu)，使得減少了晶圓支撐柱從基座的安裝孔結(jié)構(gòu)內(nèi)脫出的風(fēng)險，以及減少了晶圓支撐柱在基座的安裝孔結(jié)構(gòu)內(nèi)卡死的風(fēng)險。[0024]優(yōu)選的，所述晶圓處理設(shè)備包括處理模塊和裝卸模塊中的至少一種，所述腔體為所述處理模塊和所述裝卸模塊中的任意一種的腔體。其有益效果在于：應(yīng)用范圍廣，通用性附圖說明[0025]圖1為本發(fā)明第一種實施例的晶圓支撐柱的結(jié)構(gòu)示意圖；[0026]圖2為本發(fā)明第二種實施例的晶圓支撐柱的主視結(jié)構(gòu)示意圖；[0027]圖3為圖2所示的晶圓支撐柱的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；[0028]圖4為本發(fā)明第三種實施例的晶圓支撐柱的主視結(jié)構(gòu)示意圖；[0029]圖5為圖4所示的晶圓支撐柱的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；[0030]圖6為本發(fā)明第四種實施例的晶圓支撐柱的結(jié)構(gòu)示意圖；[0031]圖7為本發(fā)明第五種實施例的晶圓支撐柱的結(jié)構(gòu)示意圖；[0032]圖8為本發(fā)明實施例的晶圓處理設(shè)備的剖視結(jié)構(gòu)圖。具體實施方式[0033]為使本發(fā)明實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。除非另外定義，此處使用的技術(shù)術(shù)語或者科學(xué)術(shù)語應(yīng)當(dāng)為本發(fā)明所屬領(lǐng)域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本文中使用的“包括”等類似的詞語意指出現(xiàn)該詞前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。[0034]為克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本發(fā)明實施例提供了一種晶圓支撐柱及晶圓處理設(shè)備，以減少晶圓支撐柱從基座的支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險，以及減少晶圓支撐柱在基座的支撐柱孔內(nèi)卡死的風(fēng)險。6[0035]圖1為本發(fā)明第一種實施例的晶圓支撐柱的結(jié)構(gòu)示意圖。[0036]本發(fā)明一些實施例中，所述晶圓支撐柱設(shè)置于半導(dǎo)體基座內(nèi)，用于承托晶圓，參考圖1,所述晶圓支撐柱包括支撐柱本體1,所述支撐柱本體1的外表面設(shè)有至少一個凹陷部2,所述凹陷部2相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷，所述凹陷部2設(shè)置于所述支撐柱本體1的側(cè)壁，且所述凹陷部2的頂部21與所述支撐柱本體1的頂端部11相接，所述凹陷部2的底部22與所述支撐柱本體1的底端部12相接。[0037]具體的，通過所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷，所述凹陷部設(shè)置于所述支撐柱本體的側(cè)壁，且所述凹陷部的頂部與所述支撐柱本體的頂端部相接，即減小了所述支撐柱本體的頂端部的面積，從而減小了晶圓支撐柱與晶圓之間的接觸面積，使得在工藝過程中晶圓支撐柱與晶圓之間的靜電力或其他吸附力減至最小，大大降低晶圓支撐柱從基座的支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險；通過所述凹陷部設(shè)置于所述支撐柱本體的側(cè)壁，且所述凹陷部的頂部與所述支撐柱本體的頂端部相接，所述凹陷部的底部與所述支撐柱本體的底端部相接，使得所述支撐柱本體的整個柱身由頂端部到底端部整體相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷，使得晶圓支撐柱和基座的支撐柱孔之間具有空隙，從而使支撐柱孔內(nèi)的氣體能從該空隙中排出，以減少了基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而導(dǎo)致晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險，而且晶圓支撐柱和基座的支撐柱孔之間具有空隙，能大大減少晶圓支撐柱在一個或者多個工藝循環(huán)后因為薄膜沉淀、固體材料熱擴散、以及鋁基體材料氟化層增長而導(dǎo)致的卡死風(fēng)險。[0038]本發(fā)明一些實施例中，所述凹陷部的表面為平面和曲面中的任意一種，具體根據(jù)削減工藝設(shè)置。[0039]本發(fā)明一些實施例中，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度為0.5mm-1mm。以確保在工藝過程中晶圓支撐柱與晶圓之間的靜電力或其他吸附力減至最小，以及保證了使晶圓支撐柱和基座支撐柱孔之間具有空隙的同時，又不會使所述凹陷部向內(nèi)凹陷太多而導(dǎo)致所述晶圓支撐柱的重量減小到其自身的重量不足以克服基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而產(chǎn)生的向上的沖力，從而大大降低了晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險。而且相對于采用徑向長度即直徑直接縮小一定比例的晶圓支撐柱，通過消減或鑿去部分支撐柱本體的側(cè)壁以形成所述凹陷部的晶圓支撐柱，其自身的重量相對減小較小，更能避免出現(xiàn)晶圓支撐柱自身的重量不足以克服基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而產(chǎn)生的向上的沖力的現(xiàn)象，從而降低了晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險。[0040]本發(fā)明實施例中，所述徑向為沿所述支撐柱本體直徑的方向，即垂直于所述支撐柱本體高度的方向，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度為沿徑向的方向所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的長度。[0041]本發(fā)明一些具體實施例中，參考圖1,所述凹陷部2的表面為平面，且所述凹陷部2相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度處處相等，該徑向長度的取值范圍為[0042]本發(fā)明一些可能實施例中，所述凹陷部的表面為平面，且所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度處處相等，該徑向長度的取值范圍為0.6mm-[0043]本發(fā)明另一些可能實施例中，所述凹陷部的表面為平面，且所述凹陷部相對于所7述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度處處相等，該徑向長度的取值為0.7mm、[0044]本發(fā)明一些實施例中，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度由所述支撐柱本體的頂端部朝所述支撐柱本體的底端部逐漸減小。確保在工藝過程中晶圓支撐柱與晶圓之間的靜電力或其他吸附力減至最小，且在確保減少基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而導(dǎo)致晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險的同時，又能保證所述晶圓支撐柱有足夠的重量以克服基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而產(chǎn)生的向上的沖力，從而大大降低晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險。[0045]本發(fā)明一些實施例中，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度與所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最小徑向長度的差值不大于0.5mm。即在所述凹陷部的表面為曲面，或所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度由所述支撐柱本體的頂端部朝所述支撐柱本體的底端部逐漸減小或逐漸增大時，所述凹陷部各處相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度不相同，則所述凹陷部各處相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度的取值范圍為0.5mm-1mm,且所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度與所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最小徑向長度的差值不大于[0046]本發(fā)明另一些可能實施例中，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度與所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最小徑向長[0047]本發(fā)明另一些可能實施例中，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度與所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最小徑向長[0048]圖2為本發(fā)明第二種實施例的晶圓支撐柱的主視結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為圖2所示的晶圓支撐柱的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。[0049]本發(fā)明一些具體實施例中，參考圖2和圖3,所述凹陷部2相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度由所述支撐柱本體1的頂端部11朝所述支撐柱本體1的底端部12逐漸減小。且所述凹陷部2的表面為曲面，所述凹陷部2各處相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度不相等，所述凹陷部2相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的最小徑向長度為0.5mm,所述凹陷部2相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度為1mm,所述凹陷部2相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度與所述凹陷部2相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的最小徑向長度的差值為[0050]圖4為本發(fā)明第三種實施例的晶圓支撐柱的主視結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為圖4所示的晶圓支撐柱的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。[0051]本發(fā)明另一些實施例中，參考圖4和圖5,所述凹陷部2相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度由所述支撐柱本體1的頂端部11朝所述支撐柱本體1的底端部12逐漸增大。且所述凹陷部2的表面為曲面，所述凹陷部2各處相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度不相等，所述凹陷部2相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷8的最小徑向長度為0.7mm,所述凹陷部2相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度為0.95mm,所述凹陷部2相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度與所述凹陷部2相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的最小徑向長度的差值為[0052]本發(fā)明又一些實施例中，所述凹陷部的表面為平面，且所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度由所述支撐柱本體的頂端部朝所述支撐柱本體的底端部逐漸減小或逐漸增大。所述凹陷部各處相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度不相等，所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度與所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最小徑向長度的差值不大于[0053]圖6為本發(fā)明第四種實施例的晶圓支撐柱的結(jié)構(gòu)示意圖。[0054]本發(fā)明一些實施例中，參考圖6,所述凹陷部(圖中未標示)包括第一凹陷部210和第二凹陷部220。所述第一凹陷部210設(shè)置于所述支撐柱本體1的上部，所述第二凹陷部220設(shè)置于所述支撐柱本體1的下部，且所述第一凹陷部210和所述第二凹陷部220通過臺階部230相接設(shè)置。所述第一凹陷部210相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度為第一徑向長度，所述第二凹陷部220相對于所述支撐柱本體1的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度為第二徑向長度，所述第一徑向長度大于所述第二徑向長度。[0055]具體的，所述第一凹陷部210的頂部211與所述支撐柱本體1的頂端部11相接，所述第二凹陷部220的底部221與所述支撐柱本體1的底端部12相接。確保在工藝過程中晶圓支撐柱與晶圓之間的靜電力或其他吸附力減至最小，且在確保減少基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而導(dǎo)致晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險的同時，又能保證所述晶圓支撐柱有足夠的重量以克服基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而產(chǎn)生的向上的沖力，從而大大降低晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險。[0056]本發(fā)明實施例中，所述第一徑向長度為沿徑向的方向所述第一凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最大長度，所述第二徑向長度為沿徑向的方向所述第二凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最大長度。[0057]具體的，所述第一凹陷部的表面為平面，且所述第一凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度處處相等，為定值，則該定值即為所述第一徑向長度。所述第一凹陷部的表面為平面，且所述凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的徑向長度由所述支撐柱本體的頂端部朝所述支撐柱本體的底端部逐漸減小或逐漸增大，或所述第一凹陷部的表面為曲面，則所述第一凹陷部各處相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的長度不相等，則所述第一徑向長度為所述第一凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最大長度。所述第二徑向長度的具體定義與所述第一徑向長度的具體定義相[0058]本發(fā)明一些可能實施例中，所述第一徑向長度與所述第二徑向長度的差值為0.2mm-1mm。確保在工藝過程中晶圓支撐柱與晶圓之間的靜電力或其他吸附力減至最小，且在確保減少基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而導(dǎo)致晶圓支撐柱從基座的支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險的同時，又能保證所述晶圓支撐柱有足夠的重量以克服基座的支撐柱孔內(nèi)因氣體熱膨脹而產(chǎn)生的向上的沖力，從而大大降低晶圓支撐柱從基座支撐柱孔內(nèi)脫出的風(fēng)險。9[0059]本發(fā)明另一些可能實施例中，所述第一徑向長度與所述第二徑向長度的差值為[0060]本發(fā)明又一些可能實施例中，所述第一徑向長度與所述第二徑向長度的差值為[0061]本發(fā)明一些具體的實施例中，參考圖6,所述第一凹陷部210的表面和所述第二凹陷部220的表面均為平面，所述第一凹陷部210的所述第一徑向長度與所述第二凹陷部220的所述第二徑向長度的差值為0.2-1mm。[0062]本發(fā)明另一些具體實施例中，所述第一凹陷部的表面和所述第二凹陷部的表面均為曲面，所述第一凹陷部的所述第一徑向長度與所述第二凹陷部的所述第二徑向長度的差值為0.2-1mm。即所述第一凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度與所述第二凹陷部相對于所述支撐柱本體的外表面向內(nèi)凹陷的最大徑向長度的差值為[0063]本發(fā)明一些實施例中，所述凹陷部設(shè)有N個，所述N為2或2的倍數(shù)，所述凹對稱設(shè)置于所述支撐柱本體的側(cè)壁，有利于提升晶圓支撐柱承托晶圓的穩(wěn)定性，確保晶圓不會傾斜。[0064]圖7為本發(fā)明第五種實施例的晶圓支撐柱的結(jié)構(gòu)示意圖。[0065]本發(fā)明一些具體實施例中，參考圖2-圖5和圖7,所述凹陷部2設(shè)有2個，且所述凹陷部2對稱設(shè)置于所述支撐柱本體1的側(cè)壁，有利于提升晶圓支撐柱承托晶圓的穩(wěn)定性，確保晶圓不會傾斜。[0066]本發(fā)明一些實施例中，所述支撐柱本體為圓柱形結(jié)構(gòu)和球形結(jié)構(gòu)中的任意一種。[0067]本發(fā)明一些實施例中，所述支撐柱本體的上端部為半球形結(jié)構(gòu)和錐形結(jié)構(gòu)中的任意一種。[0068]本發(fā)明實施例中，所述上端部為所述晶圓支撐柱承托晶圓的端部。[0069]本發(fā)明一些實施例中，所述支撐柱本體的底端部為曲面結(jié)構(gòu)和平面結(jié)構(gòu)中的任意一種。[0070]本發(fā)明一些具體實施例中，參考圖1-圖5,所述支撐柱本體1的上端部為半球形結(jié)[0071]本發(fā)明另一些具體實施例中，參考圖6,所述支撐柱本體1的上端部為半球形結(jié)構(gòu)，所述，所述支撐柱本體1的底端部為曲面結(jié)構(gòu)。[0072]本發(fā)明又一些具體實施例中，參考圖7,所述支撐柱本體1的上端部為半球形結(jié)構(gòu)，所述支撐柱本體1的底端部為平面結(jié)構(gòu)，且所述支撐柱本體1的底端部的邊緣還設(shè)有凸起部[0073]本發(fā)明另一些可能實施例中，所述支撐柱本體設(shè)有排氣孔，所述排氣孔沿所述支撐柱本體的軸向方向貫穿所述支撐柱本體，即所述排氣孔所述支撐柱本體的頂端部到所述支撐柱本體的底端部貫穿設(shè)置，使得孔內(nèi)憋住的氣體可以通過所述排氣孔排出。所述軸向為垂直于所述徑向的方向。[0074]本發(fā)明一些實施例中，所述支撐柱本體的材料為陶瓷材料、藍寶石玻璃材料和金屬材料中的至少一種。[0075]本發(fā)明一些具體實施例中，所述支撐柱本體的材料為藍寶石玻璃材，藍寶石玻璃(SAPPHIRECRYSTAL)一般是指人工合成的藍寶石，主要成分是氧化鋁(Al203),其具有良好的抗磨損性，在實驗室里可以很容易和便宜地生產(chǎn)出寶石級的藍寶石，其化學(xué)成分和物理性質(zhì)與天然藍寶石相同。[0076]本發(fā)明另一些具體實施例中，所述支撐柱本體的材料為金屬合金材料，如鎢鈦合[0077]本發(fā)明又一些具體實施例中，所述支撐柱本體的材料為陶瓷材料和金屬材料，即采用金屬材料制作所述金屬基體，再在所述金屬基體的外表面噴涂陶瓷涂層，通過金屬材料制成的所述金屬基體導(dǎo)電性好，可以有效地轉(zhuǎn)移走靜電，而且金屬基體易加工，成型性層可以重復(fù)加工，頂部承托晶圓