(19)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局(12)發(fā)明專利(10)授權(quán)公告號(hào)CN119390217B(65)同一申請(qǐng)的已公布的文獻(xiàn)號(hào)(73)專利權(quán)人甘肅施可豐生態(tài)科技有限公司地址737200甘肅省金昌市永昌縣河西堡鎮(zhèn)化工循環(huán)經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)園區(qū)(緯一路和經(jīng)三路交匯)(72)發(fā)明人劉漢明劉睿(74)專利代理機(jī)構(gòu)深圳市廣諾專利代理事務(wù)所(普通合伙)44611專利代理師馬偉杰B01F35/221(2022.01)審查員喬思?jí)粢环N高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置本發(fā)明屬于廢水處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置，包括沉淀池和安裝在沉淀池外部的控制器，還包括：兩個(gè)隔板，兩個(gè)隔板分別安裝在沉淀池的內(nèi)部?jī)蓚?cè)，兩個(gè)所述隔板將沉淀池分隔形成高濃度沉淀區(qū)、中濃度沉淀區(qū)和低濃度沉淀區(qū)；檢測(cè)盒設(shè)置在所述沉淀池的外部，所述檢測(cè)盒遠(yuǎn)離沉淀池一側(cè)的側(cè)壁固定插接有廢水進(jìn)入管，所述檢測(cè)盒安裝有廢水分流組件。本發(fā)明能依廢水渾濁度自動(dòng)分區(qū)沉淀，降低污垢溶解率，盡量避免化肥污垢過(guò)度溶21.一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置，包括沉淀池(1)和安裝在沉淀池(1)外部的控制兩個(gè)隔板(3),分別安裝在沉淀池(1)的內(nèi)部?jī)蓚?cè)，兩個(gè)所述隔板(3)將沉淀池(1)分隔檢測(cè)盒(7),設(shè)置在所述沉淀池(1)的外部，所述檢測(cè)盒(7)遠(yuǎn)離沉淀池(1)一側(cè)的側(cè)壁固定插接有廢水進(jìn)入管(8),所述檢測(cè)盒(7)安裝有廢水分流組件(9),且廢水分流組件(9)三個(gè)計(jì)量觸發(fā)機(jī)構(gòu)(11),均設(shè)置在對(duì)應(yīng)的輔助混合單元(10)內(nèi)部沉淀排水機(jī)構(gòu)(13),安裝在所述沉淀池(1)的內(nèi)部，且沉淀排水機(jī)所述廢水分流組件(9)包括安插在檢測(cè)盒(7)頂部的渾濁度檢測(cè)探頭(91),且渾濁度檢測(cè)探頭(91)的檢測(cè)端設(shè)置在檢測(cè)盒(7)的內(nèi)部，所述檢測(cè)盒(7)遠(yuǎn)離廢水進(jìn)入管(8)一側(cè)的側(cè)壁固定插接有高濃度廢水分流管(92)、中濃度廢水分流管(93)和低濃度廢水分流管(93)的出水端延伸至中濃度沉淀區(qū)(5)的內(nèi)部，低濃度廢水分流管(94)的出水端延伸至低分流管(94)的內(nèi)部均安裝有分流電控閥(95),所述渾濁度檢測(cè)探頭(91)和分流電控閥(95)助混合單元(10)均包括固定安裝在沉淀池(1)頂部的安裝板(101),且安裝板(101)的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有空腔(102),所述安裝板(101)的頂部固定安裝有氣泵(103),且氣泵(103)的輸氣端筒(104)的底部均固定插接有排氣豎管(105),兩個(gè)所述排氣豎管(105)的底部均固定連通管(106)相向一側(cè)的管壁均固定插接有一組傾斜設(shè)置的噴氣頭(107),所述空腔(102)的兩個(gè)相對(duì)一側(cè)的腔壁均固定插接有半導(dǎo)體制冷器(108),且半導(dǎo)體制冷器(108)的制冷端均設(shè)量觸發(fā)機(jī)構(gòu)(11)均包括固定安裝在安裝板(101)底部的液位計(jì)(111),所述液位計(jì)(111)的兩側(cè)分別設(shè)有常開(kāi)比例電磁閥(112)和常閉比例電磁閥(113),所述常開(kāi)比例電磁閥(112)和常閉比例電磁閥(113)均安裝在對(duì)應(yīng)的機(jī)筒(104)內(nèi)部，所述常閉比例電磁閥(113)的下方設(shè)有氣體流量計(jì)(114),且氣體流量計(jì)(114)的檢測(cè)端固定插接在同側(cè)機(jī)筒(104)的內(nèi)部，所述控制器(2)根據(jù)渾濁度檢測(cè)探頭(91)輸出的電信號(hào)控制常開(kāi)比例電磁閥(112)和常閉比例電磁閥(113)工作，所述安裝板(101)的端面安裝有調(diào)阻組件(14),所述氣體流量計(jì)3藥單元(12)均包括固定安裝在沉淀池(1)外側(cè)壁的固定板(121),所述固定板(121)的端面固定插接有藥罐(122),且藥罐(122)的底部固定插接有出料管(123),所述出料管(123)的水機(jī)構(gòu)(13)包括固定插接在沉淀池(1)側(cè)壁下側(cè)的排污管(131),所述排污管(131)的出水度沉淀區(qū)(5)和低濃度沉淀區(qū)(6)的內(nèi)部均設(shè)置有排水管(132),且兩個(gè)排水管(132)均與排污管(131)相連通，所述排污管(131)的進(jìn)水端內(nèi)部及兩個(gè)排水管(132)的內(nèi)部均安裝有排污電控閥(133),三個(gè)所述排污電控閥(133)均與控制器(2)電性連接，所述高濃度沉淀區(qū)(4)、中濃度沉淀區(qū)(5)和低濃度沉淀區(qū)(6)的底部均設(shè)置有沉淀斗(134),且各個(gè)沉淀斗阻組件(14)均包括固定安裝在安裝板(101)端面的中空絕緣板(141),且中空絕緣板(141)的內(nèi)側(cè)底部固定安裝有兩個(gè)絕緣柱(142),兩個(gè)所述絕緣柱(142)的頂部共同固定連接有U形電阻棒(143),所述中空絕緣板(141)的內(nèi)側(cè)底部固定安裝有一個(gè)液位電磁推桿(144)和一個(gè)濃度電磁推桿(145),且液位電磁推桿(144)和濃度電磁推桿(145)的伸縮端均安裝有絕緣塊(146),兩個(gè)所述絕緣塊(146)的端面均固定插接有導(dǎo)電環(huán)(147),且兩個(gè)導(dǎo)電環(huán)(147)均與同側(cè)絕緣柱(142)的柱壁滑動(dòng)接觸，所述U形電阻棒(143)的直徑與兩個(gè)絕緣柱述U形電阻棒(143)和兩個(gè)導(dǎo)電環(huán)(147)通過(guò)控制器(2)與對(duì)應(yīng)的出藥電控閥(124)電性連沉淀區(qū)(6)的內(nèi)部設(shè)置有蓄水盒(15),且蓄水盒(15)與低濃度廢水分流管(94)的出水端相連通，所述蓄水盒(15)的底部設(shè)置有排水孔(16),且排水孔(16)的內(nèi)部安裝有排水常開(kāi)電磁閥(17),所述蓄水盒(15)的側(cè)壁固定插接有水壓檢測(cè)器(18),且水壓檢測(cè)器(18)的檢測(cè)端設(shè)置在蓄水盒(15)的內(nèi)部，所述控制器(2)根據(jù)渾濁度檢測(cè)探頭(91)輸出的電信號(hào)控制4一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001]本發(fā)明屬于廢水處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置。背景技術(shù)[0002]高塔化肥是一種通過(guò)高塔熔融造粒工藝生產(chǎn)的復(fù)合肥，將氮、磷、鉀等原料在高溫下熔融，利用高塔的高度差使熔體從塔頂落下，經(jīng)冷卻、篩分等工序制成顆粒均勻的化肥，[0003]當(dāng)前，高塔化肥的整個(gè)過(guò)程主要是物理混合和熔融過(guò)程，沒(méi)有像一些傳統(tǒng)復(fù)合肥生產(chǎn)工藝中因大量用水進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)而產(chǎn)生廢水的環(huán)節(jié)，但是高塔化肥在生產(chǎn)過(guò)程中，高塔內(nèi)壁可能會(huì)粘附原料、雜質(zhì)等，為了避免脫落的原料影響化肥質(zhì)量，在高塔化肥的生產(chǎn)公告號(hào)為CN220201593U公開(kāi)的一種高塔化肥生產(chǎn)工序用廢水凈化裝置；[0004]在高塔化肥生產(chǎn)中，高塔內(nèi)壁的化肥污垢分布不均，噴頭附近污垢偏多，沖洗時(shí)，廢水所含污垢在沉淀池內(nèi)也呈不均勻分布，隨著時(shí)間推移，污垢中的易溶化肥原料在水中浸泡溶解，致使部分污垢擴(kuò)散，這一現(xiàn)象帶來(lái)諸多不利影響：一方面，擴(kuò)散的污垢顆粒干擾了沉淀過(guò)程的正常進(jìn)行，使原本可沉淀的大顆粒難以有效沉降，小顆粒更是難以凝聚沉淀，顯著降低了沉淀去除率，另一方面，溶解和擴(kuò)散的化肥成分增加了廢水的污染物濃度和復(fù)雜程度，如氮、磷等營(yíng)養(yǎng)元素及有機(jī)雜質(zhì)含量上升，極大地加重了后續(xù)生物處理環(huán)節(jié)中微生物的分解代謝負(fù)擔(dān)，需要更多的處理時(shí)間、更大的處理設(shè)施規(guī)模以及更精細(xì)的處理工藝調(diào)控，從而增加了整個(gè)廢水處理流程的成本與難度。發(fā)明內(nèi)容[0005]本發(fā)明的目的是針對(duì)上述問(wèn)題，提供一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置。[0006]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用了下列技術(shù)方案：一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝[0007]兩個(gè)隔板，分別安裝在沉淀池的內(nèi)部?jī)蓚?cè)，兩個(gè)所述隔板將沉淀池分隔形成高濃度沉淀區(qū)、中濃度沉淀區(qū)和低濃度沉淀區(qū)；[0008]檢測(cè)盒，設(shè)置在所述沉淀池的外部，所述檢測(cè)盒遠(yuǎn)離沉淀池一側(cè)的側(cè)壁固定插接有廢水進(jìn)入管，所述檢測(cè)盒安裝有廢水分流組件，且廢水分流組件分別與高濃度沉淀區(qū)、中濃度沉淀區(qū)和低濃度沉淀區(qū)相連通；[0009]三個(gè)輔助混合單元，均安裝在沉淀池的頂部，所述高濃度沉淀區(qū)、中濃度沉淀區(qū)和低濃度沉淀區(qū)均與同側(cè)輔助混合單元的出氣端相連通；[0010]三個(gè)計(jì)量觸發(fā)機(jī)構(gòu)，均設(shè)置在對(duì)應(yīng)的輔助混合單元內(nèi)部，所述控制器根據(jù)廢水分流組件輸出的電信號(hào)控制各個(gè)計(jì)量觸發(fā)機(jī)構(gòu)工作；[0011]三個(gè)投藥單元，均安裝在沉淀池的外側(cè)壁，所述高濃度沉淀區(qū)、中濃度沉淀區(qū)和低5濃度沉淀區(qū)均與同側(cè)投藥單元的出料端相連通；[0012]沉淀排水機(jī)構(gòu)，安裝在所述沉淀池的內(nèi)部，且沉淀排水機(jī)構(gòu)分別與高濃度沉淀區(qū)、中濃度沉淀區(qū)和低濃度沉淀區(qū)相連通。[0013]優(yōu)選的，所述廢水分流組件包括安插在檢測(cè)盒頂部的渾濁度檢測(cè)探頭，且渾濁度檢測(cè)探頭的檢測(cè)端設(shè)置在檢測(cè)盒的內(nèi)部，所述檢測(cè)盒遠(yuǎn)離廢水進(jìn)入管一側(cè)的側(cè)壁固定插接有高濃度廢水分流管、中濃度廢水分流管和低濃度廢水分流管，高濃度廢水分流管的出水端延伸至高濃度沉淀區(qū)的內(nèi)部，中濃度廢水分流管的出水端延伸至中濃度沉淀區(qū)的內(nèi)部，低濃度廢水分流管的出水端延伸至低濃度沉淀區(qū)的內(nèi)部，所述高濃度廢水分流管、中濃度廢水分流管和低濃度廢水分流管的內(nèi)部均安裝有分流電控閥，所述渾濁度檢測(cè)探頭和分流電控閥均與控制器電性連接。[0014]優(yōu)選的，三個(gè)所述輔助混合單元均包括固定安裝在沉淀池頂部的安裝板，且安裝板的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有空腔，所述安裝板的頂部固定安裝有氣泵，且氣泵的輸氣端與空腔的內(nèi)部相連通，所述空腔的下腔壁固定插接有兩個(gè)機(jī)筒，且兩個(gè)機(jī)筒的底部均固定插接有排氣豎管，兩個(gè)所述排氣豎管的底部均固定連通有排氣橫管，且兩個(gè)排氣橫管均固定安裝在沉淀池的內(nèi)部，兩個(gè)所述排氣橫管相向一側(cè)的管壁均固定插接有一組傾斜設(shè)置的噴氣頭，所述空腔的兩個(gè)相對(duì)一側(cè)的腔壁均固定插接有半導(dǎo)體制冷器，且半導(dǎo)體制冷器的制冷端均設(shè)置在空腔的內(nèi)部，所述氣泵和半導(dǎo)體制冷器均與控制器電性連接。[0015]優(yōu)選的，三個(gè)所述計(jì)量觸發(fā)機(jī)構(gòu)均包括固定安裝在安裝板底部的液位計(jì)，所述液位計(jì)的兩側(cè)分別設(shè)有常開(kāi)比例電磁閥和常閉比例電磁閥，所述常開(kāi)比例電磁閥和常閉比例電磁閥均安裝在對(duì)應(yīng)的機(jī)筒內(nèi)部，所述常閉比例電磁閥的下方設(shè)有氣體流量計(jì)，且氣體流量計(jì)的檢測(cè)端固定插接在同側(cè)機(jī)筒的內(nèi)部，所述控制器根據(jù)渾濁度檢測(cè)探頭輸出的電信號(hào)控制常開(kāi)比例電磁閥和常閉比例電磁閥工作，所述安裝板的端面安裝有調(diào)阻組件，所述氣體流量計(jì)和液位計(jì)均通過(guò)控制器與調(diào)阻組件電性連接。[0016]優(yōu)選的，三個(gè)所述投藥單元均包括固定安裝在沉淀池外側(cè)壁的固定板，所述固定板的端面固定插接有藥罐，且藥罐的底部固定插接有出料管，所述出料管的內(nèi)部固定安裝有出藥電控閥，所述出藥電控閥與控制器電性連接。[0017]優(yōu)選的，所述沉淀排水機(jī)構(gòu)包括固定插接在沉淀池側(cè)壁下側(cè)的排污管，所述排污管的出水端設(shè)置在沉淀池的外部，且排污管的進(jìn)水端延伸至高濃度沉淀區(qū)內(nèi)，所述中濃度沉淀區(qū)和低濃度沉淀區(qū)的內(nèi)部均設(shè)置有排水管，且兩個(gè)排水管均與排污管相連通，所述排污管的進(jìn)水端內(nèi)部及兩個(gè)排水管的內(nèi)部均安裝有排污電控閥，三個(gè)所述排污電控閥均與控制器電性連接，所述高濃度沉淀區(qū)、中濃度沉淀區(qū)和低濃度沉淀區(qū)的底部均設(shè)置有沉淀斗，且各個(gè)沉淀斗的出料端均安裝有手控閥。[0018]優(yōu)選的，三個(gè)所述調(diào)阻組件均包括固定安裝在安裝板端面的中空絕緣板，且中空絕緣板的內(nèi)側(cè)底部固定安裝有兩個(gè)絕緣柱，兩個(gè)所述絕緣柱的頂部共同固定連接有U形電阻棒，所述中空絕緣板的內(nèi)側(cè)底部固定安裝有一個(gè)液位電磁推桿和一個(gè)濃度電磁推桿，且液位電磁推桿和濃度電磁推桿的伸縮端均安裝有絕緣塊，兩個(gè)所述絕緣塊的端面均固定插接有導(dǎo)電環(huán)，且兩個(gè)導(dǎo)電環(huán)均與同側(cè)絕緣柱的柱壁滑動(dòng)接觸，所述U形電阻棒的直徑與兩個(gè)絕緣柱的直徑相同，所述控制器根據(jù)液位計(jì)輸出的電信號(hào)控制液位電磁推桿工作，所述控制器根據(jù)氣體流量計(jì)輸出的電信號(hào)控制濃度電磁推桿工作，所述U形電阻棒和兩個(gè)導(dǎo)電環(huán)6通過(guò)控制器與對(duì)應(yīng)的出藥電控閥電性連接。[0019]優(yōu)選的，所述低濃度沉淀區(qū)的內(nèi)部設(shè)置有蓄水盒，且蓄水盒與低濃度廢水分流管的出水端相連通，所述蓄水盒的底部設(shè)置有排水孔，且排水孔的內(nèi)部安裝有排水常開(kāi)電磁閥，所述蓄水盒的側(cè)壁固定插接有水壓檢測(cè)器，且水壓檢測(cè)器的檢測(cè)端設(shè)置在蓄水盒的內(nèi)部，所述控制器根據(jù)渾濁度檢測(cè)探頭輸出的電信號(hào)控制排水常開(kāi)電磁閥工作，所述水壓檢測(cè)器與控制器電性連接。[0020]與現(xiàn)有的技術(shù)相比，一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置的優(yōu)點(diǎn)在于：[0021]1、通過(guò)設(shè)置的沉淀池、控制器、隔板、高濃度沉淀區(qū)、檢測(cè)盒、廢水進(jìn)入管、廢水分流組件的相互配合，可以基于沖洗下來(lái)的高塔化肥污垢廢水渾濁度，自動(dòng)將廢水進(jìn)行分區(qū)沉淀，一方面，可以盡量避免化肥污垢溶解擴(kuò)散過(guò)大的范圍，導(dǎo)致沉淀去除率變差，另一方面，可以盡量降低后續(xù)對(duì)沉淀處理后廢水的處理難度，提高廢水整體處理的效率和難度?？梢栽诤罄m(xù)與絮凝藥劑接觸的時(shí)候，提高廢水與絮凝藥劑的接觸充分性。[0023]3、通過(guò)設(shè)置的計(jì)量觸發(fā)機(jī)構(gòu)和投藥單元的相互配合，可以基于分流到高濃度沉淀區(qū)、中濃度沉淀區(qū)和低濃度沉淀區(qū)內(nèi)部的廢水量及廢水的累積濃度，自動(dòng)調(diào)控進(jìn)入各個(gè)區(qū)域內(nèi)的絮凝藥劑量，從而可以實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)投藥，確保絮凝效果的情況下，降低絮凝藥劑的浪[0024]4、通過(guò)設(shè)置的蓄水盒、排水孔、排水常開(kāi)電于廢水排出的渾濁度，判斷對(duì)高塔沖洗的清理工作是否完成，從而可以間接降低廢水的產(chǎn)附圖說(shuō)明[0025]圖1是本發(fā)明提供的一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；[0026]圖2是本發(fā)明提供的一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；[0027]圖3是本發(fā)明提供的一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置的廢水分流組件的結(jié)構(gòu)示意圖；[0028]圖4是本發(fā)明提供的一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置的廢水分流組件的立體結(jié)構(gòu)示意圖；[0029]圖5是本發(fā)明提供的一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置的圖2中A部分的結(jié)構(gòu)放大[0031]圖7是本發(fā)明提供的一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置的出料管的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意[0033]圖9是本發(fā)明提供的一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置的蓄水盒的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意77檢測(cè)盒、8廢水進(jìn)入管、9廢水分流組件、91渾濁度檢測(cè)探頭、92高濃度廢水分流管、93中濃度廢水分流管、94低濃度廢水分流管、95分流電控閥、10輔助混合單元、101安裝板、102空發(fā)機(jī)構(gòu)、111液位計(jì)、112常開(kāi)比例電磁閥、113常閉比例電磁閥、114氣體流量計(jì)、12投藥單具體實(shí)施方式[0035]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部[0036]如圖1-圖9所示，一種高塔化肥生產(chǎn)用廢水處理裝置，包括沉淀池1和安裝在沉淀池1外部的控制器2,還包括：兩個(gè)隔板3,兩個(gè)隔板3分別安裝在沉淀池1的內(nèi)部?jī)蓚?cè)，兩個(gè)隔板3將沉淀池1分隔形成高濃度沉淀區(qū)4、中濃度沉淀區(qū)5和低濃度沉淀區(qū)6,檢測(cè)盒7設(shè)置在沉淀池1的外部，檢測(cè)盒7遠(yuǎn)離沉淀池1一側(cè)的側(cè)壁固定插接有廢水進(jìn)入管8,檢測(cè)盒7安裝有廢水分流組件9,且廢水分流組件9分別與高濃度沉淀區(qū)4、中濃度沉淀區(qū)5和低濃度沉淀區(qū)6相連通，廢水分流組件9包括安插在檢測(cè)盒7頂部的渾濁度檢測(cè)探頭91,且渾濁度檢測(cè)探頭91的檢測(cè)端設(shè)置在檢測(cè)盒7的內(nèi)部，檢測(cè)盒7遠(yuǎn)離廢水進(jìn)入管8一側(cè)的側(cè)壁固定插接有高濃度廢水分流管92、中濃度廢水分流管93和低濃度廢水分流管94,高濃度廢水分流管92的出水端延伸至高濃度沉淀區(qū)4的內(nèi)部，中濃度廢水分流管93的出水端延伸至中濃度沉淀區(qū)5的內(nèi)部，低濃度廢水分流管94的出水端延伸至低濃度沉淀區(qū)6的內(nèi)部，高濃度廢水分流管92、中濃度廢水分流管93和低濃度廢水分流管94的內(nèi)部均安裝有分流電控閥95,渾濁度檢測(cè)探頭91和分流電控閥95均與控制器2電性連接。[0037]三個(gè)輔助混合單元10均安裝在沉淀池1的頂部，高濃度沉淀區(qū)4、中濃度沉淀區(qū)5和低濃度沉淀區(qū)6均與同側(cè)輔助混合單元10的出氣端相連通，三個(gè)輔助混合單元10均包括固定安裝在沉淀池1頂部的安裝板101,且安裝板101的內(nèi)部開(kāi)設(shè)有空腔102,安裝板101的頂部固定安裝有氣泵103,且氣泵103的輸氣端與空腔102的內(nèi)部相連通，空腔102的下腔壁固定插接有兩個(gè)機(jī)筒104,且兩個(gè)機(jī)筒104的底部均固定插接有排氣豎管105,兩個(gè)排氣豎管105的底部均固定連通有排氣橫管106,且兩個(gè)排氣橫管106均固定安裝在沉淀池1的內(nèi)部，兩個(gè)排氣橫管106相向一側(cè)的管壁均固定插接有一組傾斜設(shè)置的噴氣頭107,空腔102的兩個(gè)相對(duì)一側(cè)的腔壁均固定插接有半導(dǎo)體制冷器108,且半導(dǎo)體制冷器108的制冷端均設(shè)置在空腔102的內(nèi)部，氣泵103和半導(dǎo)體制冷器108均與控制器2電性連接，半導(dǎo)體制冷器108的冷端可以對(duì)空腔102內(nèi)部進(jìn)行制冷。[0038]三個(gè)計(jì)量觸發(fā)機(jī)構(gòu)11均設(shè)置在對(duì)應(yīng)的輔助混合單元10內(nèi)部，控制器2根據(jù)廢水分流組件9輸出的電信號(hào)控制各個(gè)計(jì)量觸發(fā)機(jī)構(gòu)11工作，三個(gè)計(jì)量觸發(fā)機(jī)構(gòu)11均包括固定安裝在安裝板101底部的液位計(jì)111,液位計(jì)111的兩側(cè)分別設(shè)有常開(kāi)比例電磁閥112和常閉比例電磁閥113,常開(kāi)比例電磁閥112和常閉比例電磁閥113均安裝在對(duì)應(yīng)的機(jī)筒104內(nèi)部，常8閉比例電磁閥113的下方設(shè)有氣體流量計(jì)114,且氣體流量計(jì)114的檢測(cè)端固定插接在同側(cè)機(jī)筒104的內(nèi)部，控制器2根據(jù)渾濁度檢測(cè)探頭91輸出的電信號(hào)控制常開(kāi)比例電磁閥112和常閉比例電磁閥113工作，安裝板101的端面安裝有調(diào)阻組件14,氣體流量計(jì)114和液位計(jì)111均通過(guò)控制器2與調(diào)阻組件14電性連接，液位計(jì)111可以根據(jù)檢測(cè)到的液位高度向控制器2輸出相應(yīng)大小的模擬電信號(hào)，氣體流量計(jì)114可以根據(jù)檢測(cè)到的氣體流量向控制器2輸濃度沉淀區(qū)6均與同側(cè)投藥單元12的出料端相連通，三個(gè)投藥單元12均包括固定安裝在沉淀池1外側(cè)壁的固定板121,固定板121的端面固定插接有藥罐122,且藥罐122的底部固定插接有出料管123,出料管123的內(nèi)部固定安裝有出藥電控閥124,出藥電控閥124與控制器2電[0040]沉淀排水機(jī)構(gòu)13安裝在沉淀池1的內(nèi)部，且沉淀排水機(jī)構(gòu)13分別與高濃度沉淀區(qū)下側(cè)的排污管131,排污管131的出水端設(shè)置在沉淀池1的外部，且排污管131的進(jìn)水端延伸至高濃度沉淀區(qū)4內(nèi)，中濃度沉淀區(qū)5和低濃度沉淀區(qū)6的內(nèi)部均設(shè)置有排水管132,且兩個(gè)區(qū)5和低濃度沉淀區(qū)6的底部均設(shè)置有沉淀斗134,且各個(gè)沉淀斗134的出料端均安裝有手控[0041]三個(gè)調(diào)阻組件14均包括固定安裝在安裝板101端面的中空絕緣板141,且中空絕緣板141的內(nèi)側(cè)底部固定安裝有兩個(gè)絕緣柱142,兩個(gè)絕緣柱142的頂部共同固定連接有U形電阻棒143,中空絕緣板141的內(nèi)側(cè)底部固定安裝有一個(gè)液位電磁推桿144和一個(gè)濃度電磁推桿145,且液位電磁推桿144和濃度電磁推桿145的伸縮端均安裝有絕緣塊146,兩個(gè)絕緣塊146的端面均固定插接有導(dǎo)電環(huán)147,且兩個(gè)導(dǎo)電環(huán)147均與同側(cè)絕緣柱142的柱壁滑動(dòng)接號(hào)控制液位電磁推桿144工作，控制器2根據(jù)氣體流量計(jì)114輸出的電信號(hào)控制濃度電磁推桿145工作，U形電阻棒143和兩個(gè)導(dǎo)電環(huán)147通過(guò)控制器2與對(duì)應(yīng)的出藥電控閥124電性連[0042]低濃度沉淀區(qū)6的內(nèi)部設(shè)置有蓄水盒15,且蓄水盒15與低濃度廢水分流管94的出水端相連通，蓄水盒15的底部設(shè)置有排水孔16,且排水孔16的內(nèi)部安裝有排水常開(kāi)電磁閥17,蓄水盒15的側(cè)壁固定插接有水壓檢測(cè)器18,且水壓檢測(cè)器18的檢測(cè)端設(shè)置在蓄水盒15廢水排出管與廢水進(jìn)入管8之間設(shè)置一個(gè)格柵過(guò)濾池，用于進(jìn)行初步過(guò)濾),然后將排污管制器2;9而導(dǎo)致輸出給控制器2的電信號(hào)強(qiáng)度同步變化(渾濁度檢測(cè)探頭91向控制器2輸出4mA至20mA的模擬電流信號(hào)),當(dāng)廢水的渾濁度低于30%時(shí)，渾濁度檢測(cè)探頭91向控制器2輸出的探頭91向控制器2輸出的模擬電信號(hào)小于15mA并大于9mA,而當(dāng)廢水的渾濁度高于65%時(shí)，[0046]而當(dāng)控制器2的測(cè)量電路對(duì)渾濁度檢測(cè)探頭91輸出的模擬電信號(hào)進(jìn)行識(shí)別時(shí)，控113輸出對(duì)應(yīng)的控制電流，使對(duì)應(yīng)的常開(kāi)比例電磁閥112和常閉比例電磁閥113反比例通入0.4A至2A范圍內(nèi)相應(yīng)大小的電流(通過(guò)預(yù)先建立線性的對(duì)應(yīng)關(guān)系，使渾濁度檢測(cè)探頭91輸出的模擬電信號(hào)與通入常開(kāi)比例電磁閥112和常閉比例電磁閥113的電信號(hào)成反比一一對(duì)應(yīng)),例如，當(dāng)控制器2的測(cè)量電路檢測(cè)到渾濁度檢測(cè)探頭91輸出的模擬電信號(hào)在15mA至制器2控制通入常開(kāi)比例電磁閥112和常閉比例電磁閥113中的電流強(qiáng)度為0.4A,而當(dāng)模擬電信號(hào)強(qiáng)度為15mA時(shí)，則通入常開(kāi)比例電磁閥112和常閉比例電磁閥113中的電流強(qiáng)度為沉淀區(qū)4上方的常開(kāi)比例電磁閥112和常閉比例電磁閥113同步通電，且當(dāng)渾濁度檢測(cè)探頭時(shí)，控制器2也會(huì)按照反比例控制通入中濃度沉淀區(qū)5上方的常閉比例電磁閥113和常開(kāi)比上方的常開(kāi)比例電磁閥112和常閉比例電磁閥113中的電流強(qiáng)度越大，而常開(kāi)比例電磁閥過(guò)常閉比例電磁閥113處的氣體流量增多，此時(shí)該側(cè)氣體流量計(jì)114計(jì)量的氣體流量越高，故氣體流量計(jì)114可以基于廢水的渾濁度同步計(jì)量氣體流量，通過(guò)氣體流量即可累積精準(zhǔn)反映出對(duì)應(yīng)區(qū)域的廢水的渾濁度(雖然通過(guò)低濃度廢水分流管94、高濃度廢水分流管92和不同，例如進(jìn)入低濃度沉淀區(qū)6內(nèi)的廢水的渾濁度均靠近30%時(shí)，則低濃度沉淀區(qū)6內(nèi)的懸[0048]隨著對(duì)高塔沖洗接近尾聲，沖洗的廢水的渾濁度逐漸變低，當(dāng)廢水渾濁度低于制器2反饋一個(gè)電信號(hào)，此時(shí)控制器2會(huì)通過(guò)自身的通訊模塊向相關(guān)人員的手持終端(例如水沖洗高塔其它側(cè)壁依舊會(huì)產(chǎn)生相對(duì)渾濁的廢水，故排水常開(kāi)電磁閥17不會(huì)高頻持續(xù)通可能性);[0049]控制器2接收到水壓檢測(cè)器18輸出的電信號(hào)后，控制器2會(huì)控制各個(gè)液位計(jì)111工而可以計(jì)算出對(duì)應(yīng)區(qū)域的液面高度，并根據(jù)液面高度向控制器2輸出相應(yīng)大小模擬電信號(hào)11位計(jì)111向控制器2輸出的模擬電信號(hào)強(qiáng)度越大),控制器2在接收到液位計(jì)111輸出的模擬電信號(hào)后，控制器2接收各個(gè)氣體流量計(jì)114輸出的電信號(hào)(氣體流量計(jì)114會(huì)將累積計(jì)量的氣體流量轉(zhuǎn)換為模擬電信號(hào)輸出給控制器2,氣體流量計(jì)114在0立方米至50立方米的范圍內(nèi)，其模擬電信號(hào)范圍在0mA至20mA,氣體流量越高，則輸出給控制器2的模擬電信號(hào)強(qiáng)度越高),隨后，控制器2按照接收到的液位計(jì)111的模擬電信號(hào)和氣體流量計(jì)114的模擬電信號(hào)，控制對(duì)應(yīng)的液位電磁推桿144和濃度電磁推桿145通入對(duì)應(yīng)大小的電流，由于某個(gè)區(qū)域內(nèi)的廢水液位越高，說(shuō)明該區(qū)域內(nèi)的廢水體量越大，而該區(qū)域所對(duì)應(yīng)的氣體累積流量越高，則說(shuō)明該區(qū)域內(nèi)廢水的整體濃度偏高，故此時(shí)通入液位電磁推桿144和濃度電磁推桿145內(nèi)的電流強(qiáng)度均較大，此時(shí)，兩個(gè)導(dǎo)電環(huán)147的上移距離均較大(液位計(jì)111和氣體流量計(jì)114輸出的模擬電信號(hào)為20mA時(shí)，液位電磁推桿144和濃度電磁推桿145推動(dòng)同側(cè)導(dǎo)電環(huán)147的上移距離為20cm,且模擬電信號(hào)越小，則液位電磁推桿144和濃度電磁推桿145推動(dòng)同側(cè)導(dǎo)電環(huán)147的上移距離越小),故此時(shí)兩個(gè)導(dǎo)電環(huán)147與U形電阻棒143的接觸點(diǎn)均相對(duì)上移，此時(shí)U形電阻棒143位于兩個(gè)導(dǎo)電環(huán)147之間的部分長(zhǎng)度縮短(即U形電阻棒143水平部的兩端到達(dá)兩個(gè)導(dǎo)電環(huán)147位置處的長(zhǎng)度),而控制器2控制液位電磁推桿144和濃度電磁推桿145通電后，會(huì)將兩個(gè)導(dǎo)電環(huán)147、U形電阻棒143與對(duì)應(yīng)出藥電控閥124的連接回路接通，并使該連接回路定時(shí)通電1分鐘，此時(shí)出藥電控閥124通電打開(kāi)(出藥電控閥124為比例電磁閥門(mén)，即通入的電流越大，其閥孔打開(kāi)的程度越大),在廢水的體積偏大，且廢水的整體渾濁度偏高時(shí)，則兩個(gè)導(dǎo)電環(huán)147向上移動(dòng)的距離均較