鑄件射線照相檢測工藝規(guī)程受控狀態(tài)：■受控□非受控頒布日期：實施日期：持有人：有限公司工藝規(guī)程主題：鑄件射線照相檢測工藝文件編號：JC/ZY-01-WSO13-2023-1/0第1頁共18頁鑄件射線照相檢測工藝規(guī)程本規(guī)程規(guī)定了用X射線和y射線照相膠片法檢測鑄件的訂貨須知、射線照相技術分級、通則、GB/T5677-2018鑄件射線照相檢測GB/T19802無損檢測工業(yè)射線照相觀片燈最低要求GB/T23901.1無損檢測射線照相底片像質第1部分：線型像質計像質指數(shù)的測定GB/T23910無損檢測線照相檢測用金屬增感屏GBZ98放射工作從業(yè)人員健康標準GBZ132工業(yè)y射線探傷放射防護標準3.1.從事射線檢測的人員，應按照GB/T9445的規(guī)定，或其它認可的第三方取得RT從事與所持有RT資格證等級相應的無損檢測工作，并負相應的技術責任。3.2.評片人員和審核人員必須持有RTⅡ級或RT3.3.從事射線檢測的人員在上崗前應進行輻射安全知識的培訓，并按照有關法規(guī)的要求取得相應3.4.射線檢測人員未經矯正或矯正的近(距)視力不得低于5.0(小數(shù)記錄值為1.0),測試方法應符合GB11533的規(guī)定，從事評片的人員應每年檢查一次視力。4.2.現(xiàn)場進行X射線檢測時應按GBZ117的規(guī)定劃定控制區(qū)和管理區(qū)、設置警告標志(警戒線、警戒牌、警示燈)。檢測工作人員應佩戴個人計量計，并攜帶劑量報警儀。4.3.在封閉空間內進行射線操作時，應考慮氧氣含量等相應因素，并采取必要的保護4.4.在高空進行射線操作時，應考慮人員、檢測設備器材墜落等因4.5.在極端環(huán)境下進行射線操作時，如深冷、高溫等條件下，應考慮凍傷、中暑等因素，并采取有限公司工藝規(guī)程主題：鑄件射線照相檢測工藝文件編號：JC/ZY-01-WSO13-2023-1/0第2頁共18頁4.6.如存在有毒有害氣體等其他可能損害人體的各種環(huán)境因素，在實施射線檢測時，應仔細加以由X射線機產生的X射線；5.2.射線膠片C6為最低類別，膠片系統(tǒng)的特性指標(見表1)類別梯度最小值(Gmin)(梯度/顆粒度)最小值(G/oD)min注：C類膠片系統(tǒng)中C4類膠片相當于T類膠片系統(tǒng)中的T2類，C類膠片系統(tǒng)中C5類膠片相當于T類膠片系統(tǒng)中的5.2.2.膠片制造商應對所生產的膠片進行系統(tǒng)性能測試并提供5.2.3.膠片處理方法、設備和化學藥劑可按GB/T19348.2的規(guī)定，用膠片制造商提供的預先曝光膠5.2.4.不得使用超過膠片制造商規(guī)定的有效期限的膠片，膠片應按制造商推薦的溫度和濕度條件予觀片燈的亮度應可調，主要性能應符合GB/T19802的有關規(guī)定，最大亮度應滿足評片要求。5.6.黑度計(光學密度計)5.6.1.所用黑度計可測量的最大黑度應不小于4.5,儀器測量誤差不得大于±0.05。有限公司工藝規(guī)程主題：鑄件射線照相檢測工藝第3頁共18頁5.6.2.新購黑度計首次使用前應進行核查，以后至少每六個月核查一次，每次核查后應填寫核查記錄。在工作開始時和連續(xù)工作超過8小時后，應在擬測量黑度范圍內選擇至少兩點進行檢查(無需標準密度片應至少有8個一定間隔的黑度基準，黑度范圍應覆蓋0.3～4.5,應至少每2年校準6.1射線照相技術分為兩個等級：級技術規(guī)定的透照條件。此時靈敏度的損失可通過提高底片最小黑度至3.0或選用較高級別的膠片7.2.文件的具體要求。工藝文件包括工藝規(guī)程和操作指導書。7.4.適用范圍，設備儀器及材料，射線照相技術等級，透照技術，透照方式，射線能量的選擇，膠片與增感屏的選擇，散射線的控制，放射源到工件的最小距離，曝光量，像質計的使用，8.1.1.鑄件表面應去除任何可能遮蓋或混淆鑄件內部缺陷的狀態(tài)，清除影響底片上缺陷影像辨認的多余物。當要求A級技術時，切除后的澆、冒口殘余量不超過透照部位厚度的10%:當要求B級技術8.2.2.典型透照布置：圖1~圖7為簡單結構，圖8~圖12為復雜結構。有限公司工藝規(guī)程主題：鑄件射線照相檢測工藝文件編號：JC/ZY-01-WSO13-2023-1/0第4頁共18頁8.2.3.平面形鑄件的單壁透照，按圖1布置。8.2.4.曲面形鑄件的單透照，按圖2、圖3或圖4布置。若條件允許，射線源應按圖3、圖4放置，以獲得更佳的透照方向。8.2.5.平面及曲面形鑄件的雙透照，按圖5、圖6,圖7布置。若幾何形狀造成其他布置難以應用或能夠獲得更好的檢測靈敏度，可按圖7使用雙壁雙影透照方法，以確保充分檢出缺陷，影像質量滿足要求。對于外徑小于100mm環(huán)形鑄件，可按圖6使用雙壁雙影透照方法，每隔120“或60“曝光一次。8.2.6.檢測按圖6、圖7布置，缺陷應按單壁的厚度分級，壁厚不同時，應參照較小的壁厚。8.2.7.檢測按圖5布置，放射源至被檢區(qū)表面距離應最小，像質計應滿足要求。8.2.8.復雜幾何形狀的透照，除非獲得其他許可，推薦按圖8一圖12布置。Q——放射源；f—源至工件的距離；w——透照厚度。有限公司工藝規(guī)程主題：鑄件射線照相檢測工藝文件編號：JC/ZY-01-WSO13-2023-1/0第5頁共18頁注；源位于凹面?zhèn)?，膠片位于凸面?zhèn)?。注：源位于圓心，膠片位于外圓周。注：分段曝光，源與膠片均在兩側。有限公司工藝規(guī)程主題：鑄件射線照相檢測工藝文件編號：JC/ZY-01-WSO13-2023-1/0第6頁共18頁注：分段曝光，源與膠片均在兩側。圖6平面及曲面形鑄件雙壁雙影透照注：整體曝光，源與膠片均在兩側。圖7平面及曲面形鑄件雙壁雙影透照圖8邊緣和凸緣鑄件透照有限公司工藝規(guī)程主題：鑄件射線照相檢測工藝文件編號：JC/ZY-01-WSO13-2023-1/0第7頁共18頁圖9肋形鑄件透照圖10十字形鑄件透照圖11楔形鑄件透照有限公司工藝規(guī)程主題：鑄件射線照相檢測工藝文件編號：JC/ZY-01-WSO13-2023-1/0第8頁共18頁環(huán)形鑄件通過K值確定的最少透照次數(shù)N的圖表參照附錄D。8.6.1.500kV及以下X射線源的選擇8.6.1.2.采用提高射線能量法檢測變截面鑄件時，可以將圖13中的最高管電壓適當提高。對鋼、銅及銅合金、鎳及鎳合金材料，管電壓最大允許提高50kV;對鈦及鈦合金材料，管電壓最大允許提高有限公司工藝規(guī)程主題：鑄件射線照相檢測工藝第9頁共18頁1——銅及銅合金或鎳及鎳基合金；4——鋁及鋁合金。8.6.2.其他射線源的選擇y射線源和1MeV以上X射線裝置所允許的透照度范圍見表2。1MeV~4MeVX射線>12MeVX射線對于鋁和鈦，允許的透照厚度范圍A級為10mm<w<70mm,B級為25mm<w<55mm?！皩τ阡X和鈦，允許的透照厚度范圍A級為35mm<w<120mm。有限公司工藝規(guī)程主題：鑄件射線照相檢測工藝第10頁共18頁8.6.3.y射線源的使用在能夠使用X射線的情況下，盡量不要選用y射線源。對于薄壁件，采用r192或Co60y射線源進行透照與用曝光參數(shù)合適的X射線進行透照相比，底片影像質量較差。8.7.膠片和增感屏的選擇8.7.1.應根據(jù)射線技術級別和使用射線源類型或能量按表3和表4選用合適的膠片類別及增感屏材料和厚度。8.7.2.使用膠片與增感屏時，應使膠片與增感屏之間緊貼。膠片系統(tǒng)類別X射線(≤100kV)一不用屏或用鉛屏(前后)≤0.03前鉛屏0.1~0.2°;后鉛屏0,02~0.2不用屏或用鉛屏(前后)≤0,03前鉛屏0,02～0.2前鉛屏0.1~0.2鋼或銅屏(前后)0,25~0.7"鋼或銅屏(前后》0.25~0.7°銅、鋼后屏≤1.鉭后屏≤0.5°一但前屏≤1但后房不用若使用前屏≤0.03mm的真空包裝膠片，可在工件與膠片之向加0.1mm附加鉛A級也可以用0.5mm~2mm鉛屏?！敖浐贤p方協(xié)商.A級可以用0.5mm~1mm鉛屏。經合同雙方協(xié)商，可以用鎢屏。有限公司主題：鑄件射線照相檢測工藝X射線(≤150kV)X射線(>150kV~250kV)鉛屏(前后)0.02~0.15X射線(>250kV~500kV)鉛屏(前后)0.02~0.15可使用更好的膠片系統(tǒng)類別。”可以用0.1mm鉛屏附加0.1mm濾光板，取代0.2mm的鉛屏。8.8.散射線控制8.8.1.為減少散射線的影響，可利用鉛光闌限制一次射線束的大?。皇褂脃射線透照應采取濾光板，8.8.2.使用適當厚度的鉛板(至少1.0mm)放在暗袋的后面，有效的防護背散射。初次透照確定曝光參數(shù)時，應檢查背散射；在暗袋與防護鉛板之問放一個鉛字母“B”(厚度≥1.5mm,高度≥10mm),若底片上出現(xiàn)低于周圍背景黑度的“B”字影像，說明背散射防護不足，需增加防護鉛板的厚度。若底片上出現(xiàn)高于周圍背景黑度的“B”字影像或不出現(xiàn)影像，說明背散射防護符合要求。底片上高于周圍背景黑度的“B”字影像，只要不遮掩底片影像或與缺陷混淆，底片可以使用。8.9.源至工件的最小距離源至工件最小距離f.與射線源的有效：9.寸d和工件至膠片距離b有關，源至工件距離f的選擇，應使f/d符合下列要求：根據(jù)式(1)、式(2)確定f..值的方法制成的諾模圖見圖14.利用圖14諾模圖來確定源至工件最小距離f,有效焦點尺寸d按附錄E的規(guī)定計算。采用A級技術時，若需檢查平面型缺陷，應按B級技術確定f值，即為A級技術確定的f….值對裂紋敏感度大的材料有更為嚴格的技術要求時，應選用靈敏度比B級更優(yōu)的技術進行透照。采用源在內圓心透照方式周向曝光時(見圖4),在滿足底片質量要求的前提下，fmn值可以減小，但減小值不應超過規(guī)定值的50%。采用源位于凹面?zhèn)饶z片位于凸面?zhèn)葍葐伪谕刚辗绞狡毓鈺r(見圖3),在滿足底片質量要求的前提下，f.值可以減小，但減小值不應超過規(guī)定值的20%。有限公司工藝規(guī)程文件編號：JC/ZY-01-WS013-2023-1/0第12頁共18頁4821687a5T-1443652318.10曝光量8.11.1對于每臺在用的射線設備都應繪制出常用被檢材料的曝光曲線，按照曲線確定曝光參數(shù)。8.11.2制作曝光曲線所用有膠片、增感屏、焦距、射線能量等條件以及靈敏度、黑度等參數(shù)均應符8.11.3每年應至少對使用中的曝光曲線校驗一次，若對射線透照參數(shù)有能響的設備部件進行更換和8.12標記8.12.1底片標記有限公司工藝規(guī)程主題：鑄件射線照相檢測工藝第13頁共18頁8.12.1.3識別標記應確保底片標識的唯一性，至少包括以下信息：a)檢測實驗室的名稱和代號；b)曝光日期：c)透照的鑄件、部位；d)首次或返修透照。8.12.2工件標記工件表面宜作出永久性標記，以確保每張射線底片可準確定位：若鑄件的性質或使用條件不準許在鑄件表面作永久性標記時，應采用準確的底片分布圖來記錄。8.13像質計的使用8.13.1像質計的放置8.13.1.1一般情況下，像質計應放在鑄件被檢區(qū)的源側表面邊緣，當在一張膠片上同時透照多個工件時，應在靠近邊緣的一個鑄件上放置像質計，線型像質計的最細絲居于外側。8.13.1.2若鑄件上不能放置像質計，可將像質計放在材料和厚度與鑄件被檢區(qū)相同的墊塊上(平面尺寸不小于100mmX100mm),盡可能靠近被檢鑄件，像質計到膠片的距離不小于鑄件射線源側表面到膠片的距離。8.13.1.3像質計不能放置在射線源一側，也不能使用墊塊的情況下，可將其放置在膠片側，應在像質計上適當位置放置鉛字“F”標記，并注明在檢測報告中。單壁透照應進行對比試驗，確定出膠片側像質指數(shù)。8.13.2像質計數(shù)量原則上每張底片都應有像質計影像，符合以下情況允許增減像質計：a)底片有效評定區(qū)的黑度變化超過像質計所在處黑度的一15%~+30%時，需使用2個像質計，一個像質計放在黑度最大部位表面，另一個像質計放在黑度最小部位表面，均要達到靈敏度的要求。b)對于圓環(huán)形和平面形鑄件，曝光使用幾個暗袋時，至少有1個像質計放在源側透照區(qū)邊緣工件的表面上。對圓環(huán)形鑄件，圓心周向100%曝光時，至少使用3個像質計間隔120°放置；使用4個以上的暗袋，對部分圓周進行曝光時，至少使用3個像質計，其長度的每端應放置1個像質計，中間放置1個像質計。C)當單個鑄件排成圓周進行射線檢測時，每個鑄件應符合8.13.2a)的要求8.13.3像質計影像識別8.13.3.1采用底片上能夠識別的最細金屬線或最小孔的編號來描述：a)使用線型像質計時，對于厚度均勻的區(qū)域，能夠清晰地看到連續(xù)的最細絲長度不得低于10mm;有限公司工藝規(guī)程主題：鑄件射線照相檢測工藝文件編號：JC/ZY-01-WSO13-2023-1/0第14頁共18頁8.14膠片處理手工處理和自動處理均可采用，應按膠片生產廠推薦的溫度和時間或自動洗片機的使用說明對膠片8.15.1評片室應整潔、安靜，室內的光線應暗而柔和，室內溫度控制在18℃~25℃,濕度不宜超過8.15.2評片人員所在處的光照度不宜超過301x,評片前應經歷暗適應時間，從陽光下進入時間不少于5min.從室內進人時間不少于30s。30cd/m2(底片黑度≤2.5時)10cd/m2(底片黑度>2.5時)8.15.4評片時可以使用10倍以下并帶有刻度尺的放大鏡。8.16底片質量8.16.1.1底片評定區(qū)范圍的黑度A級在1.5~4.5,B級在2.0~4.5。8.16.1.2底片最大黑度上限允許提高，觀片燈透過底片的亮度不應低于10cd/m2。8.16.1.3用于雙片疊加評定的單張底片，單張底片黑度應不小于1.3.8.16.2像質計靈敏度單壁透照且像質計置于源側時，像質計靈敏度應符合表5、表6的規(guī)定。外徑小于100mm有限公司主題：鑄件射線照相檢測工藝W19(0.050)W18(0.063)W17(0.080)W16(0.100)W14(0.160)W12(0.25)W11(0.32)W9(0.50)W8(0.63)表5(續(xù))W7(0.80)W5(1.25)W4(1.60)一