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文檔簡介

半導體光刻機維護師崗位招聘考試試卷及答案一、填空題(每題1分,共10分)1.光刻機投射掩模圖案的核心光學部件是______。2.維護需佩戴的防靜電裝備包括防靜電服和______。3.EUV光刻機光源類型是______極紫外光源。4.維護前需確認______是否關閉、急停按鈕是否有效。5.檢測晶圓表面缺陷的輔助設備是______。6.控制晶圓定位精度的部件是______。7.定期更換的過濾部件包括空氣過濾器和______過濾器。8.光刻機最小可分辨線寬指標是______。9.維護專用工具包括防靜電鑷子和______。10.EUV光刻機維護需滿足______(低于10??Torr)環(huán)境。二、單項選擇題(每題2分,共20分)1.不屬于光刻機常用光源的是?A.汞燈B.ArF激光C.CO?激光D.氙燈2.靜電放電(ESD)的主要危害是?A.損壞光學部件B.降低光源功率C.污染晶圓D.影響冷卻3.光刻機日常維護內(nèi)容是?A.換投影物鏡B.校準光源參數(shù)C.升級軟件D.換晶圓臺電機4.EUV光刻機維護需避免接觸的物質(zhì)是?A.氮氣B.錫(Sn)C.氧氣D.氬氣5.掩模臺的主要功能是?A.承載晶圓B.承載掩模并定位C.投射圖案D.冷卻光源6.維護前需對工作區(qū)域做的操作是?A.酒精消毒B.靜電接地C.通風10分鐘D.關所有照明7.需立即停止維護的情況是?A.輕微異響B(tài).靜電手環(huán)接觸不良C.過濾芯輕微堵D.軟件警告8.瑞利判據(jù)不包含的參數(shù)是?A.波長λB.數(shù)值孔徑NAC.工藝因子k1D.晶圓直徑9.EUV維護不包括的防護裝備是?A.鉛衣B.防毒面具C.防靜電鞋D.護目鏡10.校準光源的主要目的是?A.提高功率穩(wěn)定性B.降低能耗C.延長壽命D.減少污染三、多項選擇題(每題2分,共20分)1.光刻機維護安全規(guī)范包括?A.防靜電裝備B.斷電操作C.真空腔打開時禁接觸D.查急停按鈕2.核心部件包括?A.投影物鏡B.光源C.晶圓臺D.掩模臺3.EUV維護特殊要求包括?A.超高真空B.錫靶維護C.防污染D.激光校準4.日常維護內(nèi)容包括?A.清潔光學部件B.查過濾系統(tǒng)C.校準定位D.換光源模塊5.靜電防護措施包括?A.防靜電手環(huán)B.防靜電工具C.區(qū)域接地D.防靜電服6.影響分辨率的因素包括?A.光源波長B.數(shù)值孔徑C.工藝因子D.維護頻率7.需記錄的維護信息包括?A.時間B.更換部件型號C.校準結果D.異常情況8.輔助系統(tǒng)包括?A.冷卻系統(tǒng)B.氣體供應C.真空系統(tǒng)D.電源系統(tǒng)9.禁止操作包括?A.手觸光學部件B.真空未泄壓打開C.亂調(diào)扭矩扳手D.未戴防護操作光源10.清潔光學部件常用工具是?A.無塵布B.專用清潔液C.過濾壓縮空氣D.酒精棉四、判斷題(每題2分,共20分)1.可直接用手觸摸投影物鏡。()2.EUV光源功率越高,分辨率越高。()3.維護前需確認電源完全斷開。()4.晶圓臺精度越高,套刻精度越好。()5.過濾系統(tǒng)只需每年換一次。()6.ESD會導致光學部件氧化。()7.EUV維護需在Class1潔凈室。()8.校準掩模臺提高投射精度。()9.可用普通螺絲刀操作。()10.光源壽命與維護頻率無關。()五、簡答題(每題5分,共20分)1.簡述光刻機維護中靜電防護的重要性及措施。2.日常維護如何檢查過濾系統(tǒng)狀態(tài)?3.EUV與DUV光刻機維護的主要區(qū)別?4.維護前需完成哪些準備工作?六、討論題(每題5分,共10分)1.如何平衡光刻機維護頻率與生產(chǎn)效率?2.討論EUV光刻機錫污染的危害及預防措施。---答案一、填空題1.投影物鏡2.防靜電手環(huán)3.激光產(chǎn)生等離子體(LPP)4.電源5.晶圓缺陷檢測系統(tǒng)6.晶圓臺7.氣體(或氮氣)8.分辨率9.扭矩扳手10.超高真空二、單項選擇題1.C2.A3.B4.B5.B6.B7.B8.D9.A10.A三、多項選擇題1.ABCD2.ABCD3.ABCD4.ABC5.ABCD6.ABC7.ABCD8.ABCD9.ABCD10.ABC四、判斷題1.×2.×3.√4.√5.×6.×7.√8.√9.×10.×五、簡答題1.重要性:避免ESD損壞精密部件、電子元件,防晶圓污染。措施:佩戴防靜電裝備,用防靜電工具,區(qū)域接地,控濕度(40%-60%),禁帶靜電物品入內(nèi)。2.①查壓差表(超閾值換);②看過濾芯外觀(破損/污染);③確認流量正常;④按運行時間周期更換。3.①環(huán)境:EUV需超高真空,DUV為潔凈室;②光源:EUV錫靶,DUV激光/汞燈;③防護:EUV防錫污染,DUV無特殊要求;④光學:EUV物鏡特殊涂層,維護更嚴。4.①備齊手冊工具;②穿防靜電裝備;③關電源氣源并泄壓;④查區(qū)域接地/潔凈度;⑤準備記錄表格。六、討論題1.①定合理周期(日常/周/月/季),避免過度維護;②用

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