1、不同溫度條件對(duì)重離子徑跡模板法制備銀納米線的影響,專 業(yè)：物理學(xué) 導(dǎo) 師： 學(xué) 生： 2010.5.10,學(xué)士學(xué)位申請(qǐng)答辯報(bào)告,緒論 實(shí)驗(yàn)步驟 主要結(jié)果 結(jié)論,報(bào)告內(nèi)容,納米概念,納米材料特殊效應(yīng),量子尺寸效應(yīng) 表面效應(yīng) 小尺寸效應(yīng) 宏觀量子隧道效應(yīng),納米線制備方法,(1)、氣-液-固方法 (2)、水熱法 (3)、氣相生長(zhǎng)法 (4)、模板法 (5)、激光脈沖法,模板法優(yōu)點(diǎn)： (1)、納米線長(zhǎng)度和直徑容易控制； (2)、納米線密度可控； (3)、可方便研究納米線電學(xué)、光學(xué)性質(zhì)； 不足之處： 不能批量制備；,實(shí)驗(yàn)步驟,(1)、模板選擇 (2)、聚合物模板輻照 (3)、蝕刻 (4)、濺射 (5)、電

2、化學(xué)沉積,重離子徑跡模板法制備納米線,化學(xué)蝕刻,制備襯底,重離子輻照,電化學(xué)沉積,去除模板,(b) 沉積金屬納米線過(guò)程中 沉積電流變化曲線,(a) 納米線制備流程圖,流程圖,重離子,模板材料的選擇,苯環(huán)、甲基、羰基、醚鍵、C-C鍵和OH-基等。它具有非晶態(tài)特征（透明），并具有較高的強(qiáng)度和硬度、較好的電氣性能、較高的熱變形溫度、較好的外形穩(wěn)定性和耐用性。,聚碳酸脂(PC)分子結(jié)構(gòu)式,本實(shí)驗(yàn)中選擇厚度為30m的聚碳酸脂薄膜為模板材料,潛徑跡產(chǎn)生與蝕刻,潛徑跡產(chǎn)生示意圖,模板輻照,樣品輻照在德國(guó)GSI和近物所完成，選擇能量為11.4MeV的Au197,Pb208離子,輻照劑量為11085109個(gè)/c

3、m2。,(a) 德國(guó)GSI重離子加速器,(b) 蘭州近物所重離子加速器,不同形狀的蝕刻孔道,(d) 圓柱形孔,(a) 漏斗形孔,(c) 錐形孔,(b) 雙錐形孔,孔道質(zhì)量和形狀完全依賴于入射離子的能量沉積密度、材料的輻射敏感性、輻照后存放時(shí)間以及模板蝕刻條件，在不同的條件下可以獲得不同形狀的納米孔道。,蝕刻裝置,蝕刻液選擇505M/L的NaOH溶液。,重離子徑跡模板照片,孔道直徑為50nm的徑跡模板SEM照片 (a) 高倍；(b) 低倍,孔密度為1109，孔徑為50nm，重孔率為2%,重離子徑跡模板照片,孔道直徑為230nm的徑跡模板SEM照片 (a)高倍；(b)低倍,孔密度為1109，孔徑為230nm，重孔率為70%,孔道直徑與蝕刻時(shí)間關(guān)系,(1)、孔道直徑為500 nm的模板SEM照片,(2)、孔道直徑與蝕刻時(shí)間關(guān)系,孔密度為5106，孔徑為500nm，重孔率為7%,11.4MeV/u的Au離子輻照30mPC，505M/LNaOH蝕刻條件,濺射后的模板,濺射后的模板,SEM照片,多面體形狀的銀帽子,具有規(guī)則形狀的銀“帽子”,圓形銀“