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1、1,第四章光電子能譜,第一節(jié)方法原理 一、信息的產(chǎn)生機(jī)理及其特點(diǎn) 二、定量分析 三、定量分析 四、XPS的角分辨方法 第二節(jié)儀器描述 一、儀器構(gòu)成 二、探束激發(fā)源 三、半球型能量分析器 第三節(jié)應(yīng)用示例 一、成分研究 二、同質(zhì)異構(gòu)體研究鑒定 三、研究結(jié)構(gòu)中原子格位結(jié)構(gòu) ,2,表面分析的主要內(nèi)容有 表面化學(xué)組成:表面元素組成,表面元素的分布,表面元素的化學(xué)態(tài),表面化學(xué)鍵,化學(xué)反應(yīng)等 表面結(jié)構(gòu):表面原子排列,表面弛豫,表面再構(gòu),表面缺陷,表面形貌 表面原子態(tài):表面原子振動(dòng)狀態(tài),表面吸附(吸附能、吸附位),表面擴(kuò)散,分凝等 表面電子態(tài):表面電荷密度分布及能量分布(DOS),表面能級(jí)性質(zhì),表面態(tài)密度分布
2、,價(jià)帶結(jié)構(gòu),功函數(shù),表面科學(xué)研究表面和表面有關(guān)的宏觀和微觀過程,從原子水平來認(rèn)識(shí)和說明表面原子的化學(xué)、幾何排列、運(yùn)動(dòng)狀態(tài)、電子態(tài)等性質(zhì)及其與表面宏觀性質(zhì)的聯(lián)系 表面:固體與其它相的直接界面,通常表面被認(rèn)為是固體頂上的210個(gè)原子單層(0.53nm)的范圍。若考慮表面膜,則表面的范圍可擴(kuò)展到100nm,3,在所有現(xiàn)代表面分析技術(shù)中,使用最早、最廣泛、也是最成熟的當(dāng)推電子能譜 電子能譜:俄歇電子能譜、光電子能譜、電子能量損失譜等 電子能譜技術(shù)中,發(fā)展最快,具有較高實(shí)用價(jià)值的是俄歇電子能譜(AES)和光電子能譜(Photoelectron Spectroscopy) 光電子能譜是以光子束為探束來對(duì)原
3、子不同層次電子進(jìn)行非彈性散射,分析弛豫產(chǎn)生多種二次電子信息的方法,4,電子能譜探測(cè)的對(duì)象 從固體表面層射出的攜帶著表面層中大量信息的電子,可直接研究表面及體相的元素組成、電子組態(tài)和分子結(jié)構(gòu) 電子能譜的獨(dú)特優(yōu)點(diǎn) 電子的非彈性散射平均自由程很小,一般只有1nm左右,因此具有較高的表面靈敏度 電子易聚焦,特別是應(yīng)用靜電場(chǎng)作為聚焦和分析系統(tǒng)可精確地得到角分布和能量分布 電子對(duì)真空室的真空無影響 電子可有效地探測(cè)和計(jì)數(shù),5,電子能譜可廣泛用于科學(xué)研究和工程技術(shù)的諸多領(lǐng)域 物理學(xué):鍵結(jié)構(gòu)、表面電子態(tài)、固體的能帶結(jié)構(gòu)、合金的構(gòu)成與分凝、粘附、遷移與擴(kuò)散 化學(xué):元素和分子分析、化學(xué)鍵、分子結(jié)構(gòu)分析、氧化還原、
4、光化學(xué) 催化科學(xué):元素組成、活性、表面反應(yīng)、催化劑中毒 腐蝕科學(xué):吸附、分凝、表面氧化與鈍化 材料科學(xué):電子能譜是研究各種鍍層、涂層和表面處理層(鈍化層保護(hù)層等)的最有效手段,廣泛應(yīng)用于金屬、高分子等材料的表面處理、金屬或聚合物的淀積、防腐蝕、抗磨、斷裂等方面的分析 微電子技術(shù):電子能譜可對(duì)材料和工藝過程進(jìn)行有效的質(zhì)量控制和分析,注入和擴(kuò)散分析 薄膜研究:光學(xué)膜、磁性膜、超導(dǎo)膜、鈍化膜、太陽(yáng)能電池薄膜等,層間擴(kuò)散,離子注入,6,光電子能譜也稱化學(xué)分析電子光譜學(xué)(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis,ESCA) 依據(jù)探束不同有兩種常用方法: X光
5、電子譜(X-ray Photoelectron Spectroscopy,XPS):用軟X-ray(2002000eV)作為探束 紫外光電子譜(Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy,UPS):用真空UV(10 45eV)作為探束 因(h)X-ray(h)UV,XPS對(duì)金屬、無機(jī)、化合物等鍵強(qiáng)較大的物質(zhì)適用; UPS對(duì)分子鍵、氫鍵等較弱鍵為主的有機(jī)化合物更合適。XPS和UPS是當(dāng)今化工、材料、化學(xué)、物理、冶金、信息等領(lǐng)域的重要研究實(shí)驗(yàn)手段 兩種方法原理相同,本章主要針對(duì)XPS進(jìn)行討論,7,光電子譜是由瑞典Uppsala University物理學(xué)家Kai
6、M. Siegbahn與其同事于1962年發(fā)現(xiàn),并歷經(jīng)20年時(shí)間研究建立的,Karl Manne Georg Siegbahn (18861978) The Nobel Prize in Physics 1924 for his discoveries and research in the field of X-ray spectroscopy,Karl Siegbahns son: Kai M. Siegbahn(1918) The Nobel Prize in Physics 1981 for his contribution to the development of high-res
7、olution electron spectroscopy,8,Heinrich Rudolf Hertz(1857-1894),第一節(jié)方法原理,一、信息產(chǎn)生機(jī)理及其特點(diǎn),Hertz于1887年發(fā)現(xiàn)光電效應(yīng),Albert Einstein (1879-1955),Einstein于1905年應(yīng)用普朗克的能量量子化概念正確解釋了此一現(xiàn)象,給出了這一過程的能量關(guān)系方程描述。據(jù)此貢獻(xiàn)愛因斯坦獲1921年諾貝爾物理獎(jiǎng),9,信息產(chǎn)生機(jī)理 信息的產(chǎn)生是基于能量為h的光子與物質(zhì)原子中的電子產(chǎn)生非彈性散射過程。當(dāng)一個(gè)h光子把其能量傳遞給原子中某一殼層上受束縛電子,且當(dāng)h大于克服該電子結(jié)合能Eb(binding
8、 energy, BE ),則可將其激發(fā)電離為二次電子,并以一定動(dòng)能EK(kinetic energy, KE)逸出,可見信息產(chǎn)生是基于愛因斯坦光電效應(yīng),10,光電發(fā)射可歸納為以下三個(gè)過程: 某一殼層電子因光吸收而激發(fā)成自由電子(二次電子) 釋放出電子向固體表面移動(dòng)(與電子能量及逸出深度有關(guān))和在移動(dòng)過程中的吸收衰減 克服表面勢(shì)場(chǎng)而出射,脫離固體,光電作用過程,11,基于這種光電效應(yīng),可能有三種信息: 光電子(二次電子)信息 (XPS、UPS) 光激發(fā)熒光特征X光信息(電子探針顯微分析,EPMA) 光激發(fā)俄歇電子信息(AES) 從而可以建立三種研究方法,后兩種研究方法已分別在前兩章中作了介紹,
9、本章要討論的就是第一種研究方法,12,信息能量 從信息產(chǎn)生的愛因斯坦光電效應(yīng)可知,入射光子h與原子的某內(nèi)殼層電子產(chǎn)生非彈性散射時(shí),其h 能量將消耗于以下幾部分: 克服結(jié)合能Eb 逸出功S 轉(zhuǎn)換為出射動(dòng)能EK 逸出表面時(shí)產(chǎn)生的反沖能Er (因電子逸出而使原子產(chǎn)生反沖) 可給出以下能量守恒關(guān)系:,13,原子的反沖能量Er可以按下式估計(jì): 計(jì)算表明,當(dāng)入射光子能量h不太大時(shí),Er可近似為: 可見,只要Mm,則可通過適當(dāng)選擇入射光束的光子能量h,使Er維持很小,而可忽略,見下表,(M、m分別是原子和電子質(zhì)量,*為原子反沖速度),14,由上述討論可見: Eb是給定物質(zhì)特征的,因此光電子能量( )是特征的
10、,可以作為成分分析信息 當(dāng)Mm,只要選擇合適光束源,使光子能量h不太大,則可使Er10-1 10-2eV,從而可忽略。從上表可見,Al K可滿足這點(diǎn),這也是為什么目前X光電子譜儀均采用Al K或Mg K軟X光作激發(fā)源的原因所在 EK是可實(shí)際測(cè)得的參數(shù) 因此,只要逸出功S已知,即可通過測(cè)定光電子動(dòng)能EK來求得元素不同內(nèi)電子的結(jié)合能Eb 但是,試樣的S是隨不同試樣而變化的,因此,實(shí)際應(yīng)用很不方便的,15,為方便測(cè)試,對(duì)逸出功S采用如下方法處理(譜儀逸出功SP代替試樣逸出功S): 把試樣放置在金屬試樣架上,并與儀器(譜儀)殼緊密連接和良好接地。按固體物理理論可知,由于試樣與儀器同時(shí)接地,處于等電位狀
11、態(tài),若試樣逸出功S大于譜儀(殼)逸出功SP,即SSP時(shí),功函數(shù)小的儀器殼材中的電子便會(huì)自發(fā)向功函數(shù)較大的試樣遷移,并分布在試樣表面,使之帶負(fù)電,而譜儀則帶正電,從而自發(fā)產(chǎn)生一個(gè)接觸電位差V=SSP。此電位差阻止電子繼續(xù)從譜儀殼材向試樣表面遷移,最后達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡,使試樣與殼材的費(fèi)米能級(jí)EF相等。同時(shí),由于存在此附加的接觸電位差V,使逸出電子的動(dòng)能由EK變?yōu)镋Ksp。此時(shí),若忽略Er,則試樣和譜儀殼材兩者分別有以下能量關(guān)系: 對(duì)試樣: (試樣未放入譜儀) 對(duì)譜儀: (試樣放入譜儀),16,因此有: 可見,試樣的 可由放入譜儀后的 求出。因?yàn)閮x器的SP是給定不變的,所以可通過實(shí)測(cè)EKsp來求得試樣的
12、結(jié)合能Eb。即: 式中,h是激發(fā)源光子能量,為已知量;SP是儀器給定的,一般為幾個(gè)eV,也是已知量。因此,從能量分析器測(cè)出的光電子動(dòng)能EKsp,即可求出被測(cè)原子的電子結(jié)合能Eb,其與試樣本身的功函數(shù)S無關(guān),17,逸出深度 Al K、Mg K等X光可激發(fā)的光電子能量范圍約在501487eV,因此其逸出深度也很小,只有幾個(gè)到幾十(約520)數(shù)量級(jí),與AES的相同,也是一種表面信息。其光電子能量與逸出深度(或衰減長(zhǎng)度、平均自由程)的普適曲線與Auger討論的相似,光電子逸出深度決定于信息能量及其自由程,18,信息產(chǎn)生幾率(截面)與方法靈敏度 電子散射截面隨不同殼層而不同,一般規(guī)律是:激發(fā)幾率與電子軌
13、道半徑r平方成反比,即 ,電子軌道半徑愈大,則軌道上電子面密度降低,電子被激發(fā)幾率就降低,反之亦然 Wagner測(cè)定了周期表中所有元素的激發(fā)規(guī)律,為了比較激發(fā)幾率相對(duì)大小,他將F1S電子激發(fā)強(qiáng)度作參比,而把其它元素電子激發(fā)強(qiáng)度與F1S強(qiáng)度相比,即IX/IF1s,并定義此值為激發(fā)靈敏度。結(jié)果發(fā)現(xiàn): 同一元素的不同殼層電子的激發(fā)靈敏度不同 同一電子殼層電子的激發(fā)靈敏度隨原子序數(shù)不同也不同,呈周期性變化 例如,Z=112的輕元素,靈敏度隨Z增加而增大,到Z=12時(shí)急劇下降。如果對(duì)Z=112的輕元素,測(cè)其2S電子激發(fā)強(qiáng)度,則可發(fā)現(xiàn),2S電子靈敏度比1S低20倍左右。這就是為什么輕元素均用1S電子結(jié)合能
14、的原因,19,對(duì)于Z=112的輕元素,其1S電子的激發(fā)幾率除與電子軌道半徑平方成反比外,還與核電荷(Z)的三次方成正比,即隨Z增加,激發(fā)幾率迅速增大 對(duì)Z12的元素,為了獲得盡可能好的靈敏度,采用2P電子,并隨Z增加而靈敏度增大,在Z=31處陡降,依此類推,結(jié)果發(fā)現(xiàn)如圖所示的規(guī)律 上述規(guī)律為我們分析不同組成元素選擇合理的不同殼層電子提供了依據(jù)。即:Z=112,選1S;Z=1331,選2P;Z=3262,選3d;Z=6390,選4f 上述規(guī)律還表明,只要合理選擇線系,光電子能譜對(duì)輕、重元素均可獲得很好靈敏度,即可適用范圍很廣,克服了AES、EPMA的局限 光電子能譜的檢測(cè)靈敏度下限為:10-61
15、0-8g,20,XPS譜線的自然寬度和分辨率 光電子發(fā)射是建立在激發(fā)態(tài)原子弛豫后的電子發(fā)射,即某一內(nèi)殼層軌道上一個(gè)電子被激發(fā)電離而產(chǎn)生的電子發(fā)射。光電子發(fā)射峰的寬度直接反映了電離后產(chǎn)生離子的壽命長(zhǎng)短 由Heisenberg測(cè)不準(zhǔn)原理有以下關(guān)系: 離子壽命一般在10-1410-15s之間,因而譜線半高寬為10-1100eV量級(jí) XPS的優(yōu)點(diǎn):譜線的自然寬度很窄,具有很高的分辨率,不象AES、EPMA那樣容易發(fā)生疊峰等,21,此外, XPS方法的另一大特點(diǎn):XPS分辨率隨Z增加而增大,說明XPS不僅對(duì)輕元素分辨好,而且對(duì)重元素分辨更好,輕元素的結(jié)合能Eb(1S)及原子序數(shù)差1的結(jié)合能差值E,22,
16、光電子圖譜 光電子圖譜也是一個(gè)強(qiáng)度圖,其橫坐標(biāo)為表征指紋參數(shù)(特征信息參數(shù)Eb或EK),縱坐標(biāo)為相應(yīng)強(qiáng)度(代表光電子數(shù)量) XPS代表特征指標(biāo)的參數(shù)有兩種:一種用電子結(jié)合能(Eb)表征,另一種是用X光電子動(dòng)能(EK)表征,因此,XPS圖譜可用兩種表示方式:由某一電子結(jié)合能Eb對(duì)其強(qiáng)度作圖,或者用某一光電子動(dòng)能EK對(duì)其強(qiáng)度作圖。因?yàn)椋?從能量平衡可見,結(jié)合能Eb愈大,其動(dòng)能EK愈小,因此要注意兩者圖譜表示的能量變化方向正好相反,23,XPS的多重結(jié)構(gòu) 由 可見,因SP是譜儀的功函數(shù),是給定的,故當(dāng)體系的初態(tài)和終態(tài)給定時(shí),對(duì)應(yīng)每一個(gè)內(nèi)電子產(chǎn)生的光電子譜峰只有一個(gè),其Eb或EK是確定 但是,實(shí)際上,
17、當(dāng)原子的某一內(nèi)電子被激發(fā)電離后,則由于激發(fā)電子殼層不同(組態(tài)不同),可能出現(xiàn)幾種情況(以Fe2O3中的Fe3+離子 ): Fe的原子序數(shù)為26,其電子組態(tài)為1S22S22P63S23P63d64S2,而Fe3+的組態(tài)為1S22S22P63S23P63d5,按照洪特規(guī)則,其3d電子的優(yōu)先排列為: 這時(shí),如果當(dāng)一個(gè)電子激發(fā)后出現(xiàn)不止一個(gè)終態(tài),則光電子譜就會(huì)出現(xiàn)多重峰,24,從Fe3+的3S激發(fā)可見,一個(gè)3S電子受光激發(fā)成為光電子后,存在兩種終態(tài),因此會(huì)出現(xiàn)兩個(gè)光電子譜峰,25,XPS譜線多重分裂發(fā)生在具有自旋的原子,如價(jià)帶上有不成對(duì)的電子。電子從這些原子的初態(tài)能級(jí)發(fā)射出去后,能以兩種或更多種方式產(chǎn)
18、生空穴,留下的這個(gè)不配對(duì)電子的自旋能以多種方式與其它不成對(duì)的電子產(chǎn)生耦合,形成的終態(tài)多于1種,相應(yīng)于每一個(gè)終態(tài)有一譜線,從而形成多重分裂。下圖是幾個(gè)這方面的例子:,26,等離子體激元振蕩損失峰 任何具有足夠能量的電子通過固體時(shí),可以引起導(dǎo)帶“電子氣”的集體振蕩。材料不同,這種集體振蕩的特征頻率也不同,故而所需的激發(fā)能亦因之而異。體相等離子體激元振蕩基頻為b,其能量損失是量子化的(b)。由于光電子在出射過程中受到多次損失,故而在圖譜上呈現(xiàn)一系列等間距的峰,且強(qiáng)度逐漸減弱,27,XPS定量分析的關(guān)鍵:要把所觀測(cè)到的信號(hào)強(qiáng)度轉(zhuǎn)變成元素的含量,即將譜峰面積轉(zhuǎn)變成相應(yīng)元素的含量 表面科學(xué)工作者已經(jīng)提出一些實(shí)用的XPS定量方法和一些理論模型:標(biāo)樣法、元素靈敏度因子法和一級(jí)原理模型 標(biāo)樣法:需制備一定數(shù)量的標(biāo)準(zhǔn)樣品作為參考,且標(biāo)樣的表面結(jié)構(gòu)和組成難于長(zhǎng)期穩(wěn)定和重復(fù)使用,故一般實(shí)驗(yàn)研究均不采用 一級(jí)原理模型:是從光電子發(fā)射的“三步模型”出發(fā),將所觀測(cè)到的譜線強(qiáng)度與激發(fā)源、待測(cè)樣品的性質(zhì)以及譜儀的檢測(cè)條件等統(tǒng)一起來考慮,形成一定的物理模型。由于模型涉及較多的因素,目前還缺乏必要精度的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),因此一級(jí)原理模型計(jì)算還未得到真正應(yīng)用 元素靈敏度因子法:利用特定元素譜線強(qiáng)度作參考標(biāo)準(zhǔn),測(cè)得其它元素相對(duì)譜線強(qiáng)度,求
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