數(shù)字射線檢測(cè)設(shè)備與標(biāo)準(zhǔn)_第1頁(yè)
數(shù)字射線檢測(cè)設(shè)備與標(biāo)準(zhǔn)_第2頁(yè)
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數(shù)字射線檢測(cè)設(shè)備與標(biāo)準(zhǔn)第1頁(yè)/共51頁(yè)《特種設(shè)備無(wú)損檢測(cè)人員考核規(guī)則》納入考核范圍的無(wú)損檢測(cè)方法方法項(xiàng)目名稱代號(hào)級(jí)

別射線檢測(cè)射線膠片照相檢測(cè)RTⅠ、Ⅱ、Ⅲ射線數(shù)字成像檢測(cè)RT(DR+CR)Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ射線檢測(cè)(自動(dòng))RT(AUTO)Ⅰ、Ⅱ超聲檢測(cè)脈沖反射法超聲檢測(cè)UTⅠ、Ⅱ、Ⅲ衍射時(shí)差法超聲檢測(cè)TOFDⅠ、Ⅱ、Ⅲ超聲檢測(cè)(自動(dòng))UT(AUTO)Ⅰ、Ⅱ磁粉檢測(cè)磁粉檢測(cè)MTⅠ、Ⅱ、Ⅲ滲透檢測(cè)滲透檢測(cè)PTⅠ、Ⅱ、Ⅲ聲發(fā)射檢測(cè)聲發(fā)射檢測(cè)AEⅠ、Ⅱ、Ⅲ第2頁(yè)/共51頁(yè)

射線數(shù)字成像檢測(cè)概述射線數(shù)字成像檢測(cè)儀器設(shè)備射線數(shù)字成像技術(shù)應(yīng)用射線數(shù)字成像檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)第3頁(yè)/共51頁(yè)1、概述第4頁(yè)/共51頁(yè)1.1射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)組成射線源被檢工件數(shù)字探測(cè)器機(jī)械傳動(dòng)(檢測(cè)工裝)成像與處理(計(jì)算機(jī)及軟件)第5頁(yè)/共51頁(yè)1.2與膠片照相不同之處:

增加了硬件(數(shù)字探測(cè)器、檢測(cè)工裝、計(jì)算機(jī))與軟件(數(shù)據(jù)采集、控制、處理);減少了膠片及其暗室處理環(huán)節(jié)。第6頁(yè)/共51頁(yè)1.3射線數(shù)字成像檢測(cè)原理

射線透照被檢工件,衰減后的射線光子被數(shù)字探測(cè)器接收,經(jīng)過(guò)一系列的轉(zhuǎn)換變成數(shù)字信號(hào),數(shù)字信號(hào)經(jīng)放大和A/D轉(zhuǎn)換,通過(guò)計(jì)算機(jī)處理,以數(shù)字圖像的形式輸出在顯示器上。

第7頁(yè)/共51頁(yè)1.4數(shù)字成像與膠片比較的特點(diǎn)靈敏度高分辨率低降低射線劑量具有很大的厚度寬容度提高檢測(cè)效率一次投入成本高快速查詢和統(tǒng)計(jì)減少暗室的洗片環(huán)節(jié),降低環(huán)境污染探測(cè)器無(wú)法彎曲,有一定厚度,在役檢測(cè)受限第8頁(yè)/共51頁(yè)1.5像質(zhì)影響因素(1)像素尺寸(2)焦點(diǎn)大小(3)噪聲/信噪比(4)透照參數(shù)(電壓、曝光量、幾何參數(shù))(5)動(dòng)態(tài)范圍(6)壞像素(7)數(shù)字探測(cè)器響應(yīng)不一致性第9頁(yè)/共51頁(yè)1.6成像分類(1)靜態(tài)(止)成像靜態(tài)成像是指對(duì)試件的同一部位進(jìn)行曝光、成像。在一定的時(shí)間內(nèi),輸出單幅、靜止的圖像。

注:數(shù)字成像的時(shí)間要遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于膠片照相的時(shí)間。第10頁(yè)/共51頁(yè)(2)動(dòng)態(tài)(實(shí)時(shí))成像

動(dòng)態(tài)(實(shí)時(shí))成像是指以一定幀頻的采集速率實(shí)現(xiàn)連續(xù)成像。被檢工件通過(guò)機(jī)械掃描裝置與檢測(cè)系統(tǒng)裝置做相對(duì)連續(xù)運(yùn)動(dòng)(旋轉(zhuǎn)或平移),射線源連續(xù)發(fā)射線,射線成像器件對(duì)不同位置的試件進(jìn)行連續(xù)曝光,連續(xù)的采集并顯示不同檢測(cè)位置的圖像。第11頁(yè)/共51頁(yè)1.7像質(zhì)評(píng)價(jià)指標(biāo)對(duì)比度靈敏度、分辨率對(duì)比度靈敏度和空間分辨率是一對(duì)相互制約的關(guān)系,如何均衡是實(shí)現(xiàn)高信噪比、高像質(zhì)成像的關(guān)鍵。第12頁(yè)/共51頁(yè)分辨率:空間分辨率定義:系統(tǒng)所能分辨的兩個(gè)相鄰細(xì)節(jié)間的最小距離。單位:用lp/mm(線對(duì)/毫米)表示。影響因素:成像器件固有特性(像元大小、轉(zhuǎn)換屏厚度)、系統(tǒng)幾何參數(shù)、源焦點(diǎn)尺寸測(cè)試:分辨率測(cè)試卡或雙絲像質(zhì)計(jì)第13頁(yè)/共51頁(yè)分辨率圖像分辨率、系統(tǒng)分辨率第14頁(yè)/共51頁(yè)第15頁(yè)/共51頁(yè)第16頁(yè)/共51頁(yè)第17頁(yè)/共51頁(yè)2、儀器設(shè)備第18頁(yè)/共51頁(yè)2.1射線機(jī)高頻工頻脈沖便攜式、移動(dòng)式、固定式核心:高壓發(fā)生器第19頁(yè)/共51頁(yè)第20頁(yè)/共51頁(yè)第21頁(yè)/共51頁(yè)第22頁(yè)/共51頁(yè)第23頁(yè)/共51頁(yè)2.2數(shù)字探測(cè)器

面陣探測(cè)器線陣探測(cè)器第24頁(yè)/共51頁(yè)面陣探測(cè)器選擇

首先依據(jù)檢測(cè)對(duì)象,滿足圖像質(zhì)量要求注意:電路的防護(hù)第25頁(yè)/共51頁(yè)第26頁(yè)/共51頁(yè)第27頁(yè)/共51頁(yè)線陣探測(cè)器

首先依據(jù)檢測(cè)對(duì)象,滿足圖像質(zhì)量要求

注意:射線束的準(zhǔn)直,中心射線束對(duì)準(zhǔn)探測(cè)器成像口,機(jī)械精度和運(yùn)動(dòng)精度高第28頁(yè)/共51頁(yè)數(shù)字探測(cè)器使用時(shí)注意事項(xiàng)1、溫濕度的要求2、承受的最高輻照能量3、承重4、磕碰、劃傷5、預(yù)熱6、校正第29頁(yè)/共51頁(yè)設(shè)備的有效使用?

第30頁(yè)/共51頁(yè)3、應(yīng)用第31頁(yè)/共51頁(yè)(1)制造廠批量生產(chǎn):固定流水線、檢測(cè)工藝,功能單一,快捷、自動(dòng)化,一鍵完成第32頁(yè)/共51頁(yè)(2)安裝管線安裝:優(yōu)點(diǎn)大于缺點(diǎn)。及時(shí)返修,效率高、縮短檢測(cè)周期第33頁(yè)/共51頁(yè)在役檢測(cè)第34頁(yè)/共51頁(yè)(3)在役難點(diǎn):對(duì)象、環(huán)境、工況復(fù)雜、防護(hù)優(yōu)點(diǎn):直觀、不拆保護(hù)層各檢測(cè)方法的優(yōu)勢(shì)不突出、劣勢(shì)突出,要綜合考慮、比較利弊。選擇方法系統(tǒng):便攜、可靠工裝:非標(biāo)(對(duì)象、工況)、復(fù)雜、自動(dòng)化低、功能齊全熟練程度高第35頁(yè)/共51頁(yè)(4)熱點(diǎn)帶包覆層制冷管線第36頁(yè)/共51頁(yè)射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)選擇原則滿足檢測(cè)線的質(zhì)量控制檢測(cè)對(duì)象、場(chǎng)地自身經(jīng)濟(jì)情況考慮性價(jià)比售后服務(wù)…第37頁(yè)/共51頁(yè)4、相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)第38頁(yè)/共51頁(yè)4.1國(guó)外標(biāo)準(zhǔn)(1)CT標(biāo)準(zhǔn)(最早的)(2)實(shí)時(shí)成像體系(IITV)(3)CR標(biāo)準(zhǔn)體系(4)DDA標(biāo)準(zhǔn)(ISO)(5)DR標(biāo)準(zhǔn)(ISO、ASME、ASTM)第39頁(yè)/共51頁(yè)實(shí)時(shí)成像標(biāo)準(zhǔn)ASTME1000-1998射線實(shí)時(shí)成像導(dǎo)則ASTME1255-2001射線透視檢驗(yàn)的標(biāo)準(zhǔn)操作方法ASTME1411-2001射線實(shí)時(shí)成像系統(tǒng)質(zhì)量鑒定規(guī)范ASTME1416-1996焊接件射線實(shí)時(shí)成像檢驗(yàn)ASTME1453-1996射線實(shí)時(shí)成像模擬或數(shù)字化信息內(nèi)存介質(zhì)貯存導(dǎo)則ASTME1647-1998射線實(shí)時(shí)成像反差靈敏度測(cè)定規(guī)范ASTME1734-1998鑄件射線實(shí)時(shí)成像規(guī)范ASME鍋爐及壓力容器規(guī)范V無(wú)損檢測(cè)第40頁(yè)/共51頁(yè)數(shù)字探測(cè)器標(biāo)準(zhǔn)ASTME2597-2007數(shù)字探測(cè)器陣列制造特征的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范ASTME2698-2010使用數(shù)字探測(cè)器陣列的射線檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范ASTME2736-2010數(shù)字探測(cè)器陣列射線檢測(cè)的標(biāo)準(zhǔn)指南ASTME2737-2010數(shù)字探測(cè)器陣列性能評(píng)價(jià)和長(zhǎng)期使用穩(wěn)定性的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范第41頁(yè)/共51頁(yè)數(shù)字成像標(biāo)準(zhǔn)ASME鍋爐及壓力容器規(guī)范V無(wú)損檢測(cè)ISO/DIS17636-2010焊縫無(wú)損檢測(cè)—射線檢測(cè)第二部分:使用數(shù)字探測(cè)器的X射線和γ射線檢測(cè)方法

CR、DR第42頁(yè)/共51頁(yè)4.2國(guó)內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)數(shù)字成像:國(guó)標(biāo)、國(guó)軍標(biāo)、行標(biāo)、企標(biāo)

GB/T17925-2011《氣瓶對(duì)接焊縫X射線數(shù)字成像檢測(cè)》

GB/T19293-2003《對(duì)接焊縫X射線數(shù)字成像檢測(cè)法》

第43頁(yè)/共51頁(yè)4.3NB/T47013標(biāo)準(zhǔn)原編號(hào)為JB/T47302005版已開(kāi)始修訂,今年完成擴(kuò)展到13部分,增加了脈沖渦流、漏磁等第44頁(yè)/共51頁(yè)NB/T47013(JB/T4730)《承壓設(shè)備無(wú)損檢測(cè)》分為13部分——第1部分:通用要求;——第2部分:射線檢測(cè);——第3部分:超聲檢測(cè);——第4部分:磁粉檢測(cè);——第5部分:滲透檢測(cè);——第6部分:渦流檢測(cè);——第7部分:目視檢測(cè);——第8部分:泄漏檢測(cè);——第9部分:聲發(fā)射檢測(cè);——第10部分:衍射時(shí)差法超聲檢測(cè);——第11部分:X射線數(shù)字成像檢測(cè);——第12部分:漏磁檢測(cè)——第13部分:脈沖渦流檢測(cè)第45頁(yè)/共51頁(yè)有關(guān)射線數(shù)字標(biāo)準(zhǔn)

(1)標(biāo)準(zhǔn)名稱:承壓設(shè)備無(wú)損檢測(cè)

射線膠片數(shù)字化系統(tǒng)鑒定方法

GB/T28266-2012

(2)標(biāo)準(zhǔn)名稱:承壓設(shè)備無(wú)損檢測(cè)

X射線數(shù)字成像檢測(cè)

標(biāo)準(zhǔn)編號(hào):NB/T47013.11-2014

(JB/T4730.11)第46頁(yè)/共51頁(yè)工作組:中國(guó)特種設(shè)備檢測(cè)研究院聯(lián)合相關(guān)單位(如:儀器制造單位、技術(shù)研究單位、使用單位、檢測(cè)單位、主管部門等)進(jìn)行制定。第47頁(yè)/共51頁(yè)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了承壓設(shè)備金屬材料受壓元件的熔化焊對(duì)接接頭的X射線數(shù)字成像技術(shù),規(guī)定了承壓設(shè)備對(duì)接焊接接頭X射線數(shù)字成像系統(tǒng)、檢測(cè)環(huán)境、成像技術(shù)、圖像評(píng)定、檢測(cè)方法、檢測(cè)報(bào)告及圖像保

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