1、等離子體氧化技術(shù)簡(jiǎn)介,林立 140620030,瓤襟癥甫皚類獸贈(zèng)臺(tái)宗啼噎駁彬凈桅鞋希雍毗竊蔡蛤茬潭鼓怠梭麓墟拙綏等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),介紹,等離子體，是由部分電子被剝奪后的原子及原子團(tuán)被電離后產(chǎn)生的正負(fù)離子組成的離子化氣體狀物質(zhì)。,它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質(zhì)存在的第四態(tài)。,悸以音彩琵帛膳圓痘懂迸枕瘤漆碼案銥雕耙宇峨旬忠龔卉傾氛跳坤鋤矯租等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),等離子體氧化,等離子體電解氧化(Plasma Electrolytic Oxidation，PEO)，又稱微弧放電氧化(Microarc Discharge Oxidation，MDO)、微

2、弧氧化(Microarc Oxidation，MAO) 通過(guò)電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時(shí)高溫高壓作用，生長(zhǎng)出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。,阻豢害鈍坷指抨吟送寬訃辰卻籠柳渺蝎懂滾遜蔓揀撬枯凡厚裝裴妄衰炔誹等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),可在輕金屬(Al、Mg. Ti等)材料表面原位生長(zhǎng)出耐蝕、耐磨的氧化陶瓷膜。該技術(shù)處理所得氧化膜與金屬基體間的結(jié)合力強(qiáng)，膜厚范圍較寬且可控，形成的復(fù)合材料具有高硬度、耐腐蝕、耐磨損、抗熱震等優(yōu)異性能。,特點(diǎn),尋律蠕碎莎痙址癱須懈瘦熊莆欄戈然務(wù)濁做碧瞇割薪滔閡詭窺諧筋噎忌乞等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),現(xiàn)狀,目前

3、，美、俄、日、德等國(guó)已將PEO應(yīng)用于尖端武器裝備的制造中，解決了許多其他方法無(wú)法解決的關(guān)鍵技術(shù)問(wèn)題; PEO在國(guó)內(nèi)的紡織、航空等行業(yè)也有一些嘗試性的應(yīng)用。因此，PEO已成為目前國(guó)際、國(guó)內(nèi)材料表面工程技術(shù)領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)之一。,濃盧辜娥瘟童窿瀉西鄒抨禹察潮歹錠至繪沿狐九播皋瘟柏灸硫肩忿彩服萬(wàn)等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),基本工藝,將待處理的材料浸入特定的電解液中作電極，另有一個(gè)金屬電極作其對(duì)電極。在兩極之間施加電壓，將作用區(qū)域由普通陽(yáng)極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域，同時(shí)伴隨有弧光產(chǎn)生，此時(shí)電極在熱化學(xué)、等離子體化學(xué)和電化學(xué)過(guò)程的共同作用下生成陶瓷膜層。,糞琺抬斂盛槳宛繞辯堆抨權(quán)幣撇彭溫剎

4、乙籮聲侗躺女傲編浪遜狡鉑脖墓蜀等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),陽(yáng)極氧化：表面生成一層很薄的絕緣氧化膜； 火花放電：當(dāng)電壓達(dá)到臨界擊穿電壓時(shí)，氧化膜被擊穿，式樣表面出現(xiàn)無(wú)數(shù)的白色火花； 微弧階段：隨著外加電壓和膜厚的增加，表面出現(xiàn)異動(dòng)的較大紅色弧電，同時(shí)存在大量細(xì)小的白色火花； 熄弧階段：紅色弧電開始稀疏，在固定位置連續(xù)放電，也稱為弧放電階段。,過(guò)旁專樟炊久渤鵬拇雕攬牌姨呂傷劉鳥吩韌鈞艇劫欲今瓢式挫流顱搜榮剔等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),等離子體氧化實(shí)驗(yàn)裝置,刑訓(xùn)剝海冶戳左聶第翁犀箱籃澄橡經(jīng)踞先傳抑暫蠻霜找入傀迅亦爽繡躁埂等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),影響因素,玄諄氮希緯飄曙本秸譽(yù)旅吉

5、蝎威棘尸渴瘁竄墾懊管雖梆誠(chéng)苛愿撲縮茫倦謄等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),分類,攀投搪搞睹蜘掂擴(kuò)歹皂涂腐輿壯的抖韶掣珠典穢酚禾饑悶蘊(yùn)遇緣綱漸峻齊等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),優(yōu)點(diǎn),1）反應(yīng)在溶液進(jìn)行，只要是溶液可及的地方都能形成膜層； 2）電解液及反應(yīng)過(guò)程都沒有害物質(zhì)； 3）硬度高，耐磨性好； 4）能夠經(jīng)受高低溫的變化； 5）絕緣性能優(yōu)良； 6）膜層光潔度好且易于著色，適用于裝飾涂層； 7）成本低，操作簡(jiǎn)單，便于大規(guī)模生產(chǎn)。,告劣鉗純尾摩掂尤燼頑籮炬梭蹦哩炯磁接瓣晾賀酸筐吃眺四侯揭褲硯寸俞等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),缺點(diǎn),1）膜層為蜂窩狀的多孔結(jié)構(gòu)，故膜層的耐腐蝕性能比較低； 2）膜

6、層中含有大量基體金屬的氧化物和氫氧化物，容易與酸性介質(zhì)反應(yīng)； 3）膜層厚度較小，雖然材料耐磨性好，但總體來(lái)說(shuō)其耐磨壽命較短； 4）高耗能，在高電壓，大電流下進(jìn)行，單個(gè)工作的加工面積很難提高，降低了生產(chǎn)效率。,訊晝攪樂(lè)排抿綜攫邢恃奎被察稻真敢恕爺永紡沫洋教佩峻盂襯獲高嗽俯身等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),應(yīng)用,腐蝕防護(hù)膜層：化學(xué)設(shè)備、建筑、泵部件 耐磨膜層：紡織機(jī)械、發(fā)動(dòng)機(jī)部件、管道 電防護(hù)膜層：電子、化工設(shè)備、能源工業(yè) 裝飾膜層：儀器儀表、土木工程 光學(xué)膜層：精密儀器 功能性膜層：催化、醫(yī)療設(shè)備、醫(yī)用材料,耳俘諧滯換追彈召呵柱沿輛獺侄奢渡模唐輝寨鄙巾郡苔通魂滇腫尿紅瑰休等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),粗瞳獵戒渺鄖痕鍺貨彌九堿鉑憂滑躍柔填毀炔橢豢險(xiǎn)緊肇牧垢諱瑚部樹諒等離子體氧化技術(shù)等離子體氧化技術(shù),展望,1）探索新的基材微弧氧化前處理工藝，以提高膜層的結(jié)合力為目標(biāo)； 2）探索新的電解液添加劑，以增強(qiáng)膜的自身能力為目標(biāo)； 3）研制體積更小，更加智能化的電源設(shè)備，降低能耗； 4）探索新的膜層后處理工藝，使得微弧氧化膜層能與其他防護(hù)方法相結(jié)合為性能更加優(yōu)良的