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文檔簡介
定義版圖什么是版圖?集成電路制造工藝中,通過光刻和刻蝕將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。這種制造集成電路時使用的掩膜版上的幾何圖形定義為集成電路的版圖。版圖要求與對應(yīng)電路嚴(yán)格匹配,具有完全相同的器件、端口、連線單個MOS管的版圖實(shí)現(xiàn)柵極負(fù)責(zé)施加控制電壓源極、漏極負(fù)責(zé)電流的流進(jìn)流出NN導(dǎo)電溝道圖形關(guān)系柵有源區(qū)注入雜質(zhì)形成晶體管,柵與有源區(qū)重疊有源區(qū)的區(qū)域確定器件尺寸,導(dǎo)電溝道稱為導(dǎo)電溝道只要源極、漏極以及導(dǎo)電溝道所覆蓋的區(qū)域稱為有源區(qū)。芯片中有源區(qū)以外的區(qū)域定義為場區(qū)2、器件尺寸設(shè)計(jì)MOS管中電流由源極流向漏極。溝道寬度溝道中電流流過W的距離為溝道長度;截面尺寸為溝道寬度溝道長度電流方向設(shè)計(jì)中,常以寬度和長度值的比例式即寬長比(WL)表示器件尺寸。例:假設(shè)一MOS管,尺寸參數(shù)為20/5。則在版圖上應(yīng)如何標(biāo)注其尺寸。20/53、圖形繪制s|-13883Date:9Jan20194090140冒冒冒uulumRBEHT=5.00KV英特爾65納米雙核處理器的掃描電鏡(SEM)截面圖常用圖層版圖圖層名稱含義NwellN阱Active有源擴(kuò)散區(qū)SelectP型注入掩膜NselectN型注入掩膜Poly多晶硅引線孔Metall第一層金屬M(fèi)eta2第二層金屬Via通孔注意:不同軟件對圖層名稱定義不同;嚴(yán)格區(qū)分圖層作用「版圖圖層名稱含義cc(或cont)引線孔(連
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