1、.Tel/lam 氮化硅刻蝕機培訓教案 一 簡介：Tel/lam 氮化硅刻蝕機是一種平板式的干法刻蝕設備，用于氮化硅的干法刻蝕，其工作原理為特種氣體SF6,CHF3在RF下電離并與氮化硅發(fā)生反應。二 結構組成它由以下幾部分組成：主機部分、電源部分、泵組部分、射頻部分和氣體供給部分部分。 1主機部分：它是氮化硅刻蝕機的主體部分，包括顯示器、傳遞腔、反應腔、傳動系統(tǒng)及設備的主要控制系統(tǒng)。 2電源部分：系統(tǒng)供電208V進入，經(jīng)變壓器，繼電器等變?yōu)樗璧碾妷狠敵觥Ｔ撛O備泵組電源由電源柜控制。3射頻部分：在氣體反應時提供13.56MHZ的高頻電源，以便氣體在高真空環(huán)境下電離，產(chǎn)生等離子體。射頻匹配系統(tǒng)位

2、于主機上部，用于對射頻源所提供的高頻通過可變的電感電容進行匹配，以便提供給設備穩(wěn)定高效的射頻。射頻電源為208VAC供電，外接冷卻水為本體發(fā)熱元件降溫。4泵組部分：由機械泵、增壓泵和真空管線構成抽反應腔的真空系統(tǒng)，以達到工藝反應時所需的真空度要求。由18泵及配套的真空管線用于抽傳遞腔的真空?，F(xiàn)在我們使用的泵組位于一樓回風區(qū)內(nèi)。5 氣體供給部分：由特氣柜、特氣瓶和特氣管線構成。用于提供反應所需的特種氣體，其中用于提供特氣的特氣瓶至于一樓回風區(qū)內(nèi)，特氣經(jīng)二次減壓提供給設備，并由質(zhì)量流量計進行控制。三 Tel/lam 氮化硅刻蝕機的基本操作 1 當操作本臺設備時，應首先檢查該設備的動力條件，具體條件

3、如下： 壓縮空氣：0.70.1MPa 氮氣: 0.3 0.05MPa 用于射頻冷卻的冷卻水是否有 ，反應所用的特氣是否有 ，設備面板的電極溫度是否和設定的溫度相符，排風是否正常。2 操作：按照設備操作流程進行操作3 面板按鍵：LOAD 用于下載初始化程序 SAVE保存程序 RECIPE用于編輯反應的程序 STATUS 用于觀察設備所處的狀態(tài) PARAMETERS用于設置設備參數(shù) OPTIONS用于設備的手動操作及觀察設備運行時的參數(shù)變化 START 開始設備開始運行 STOP終止下一片硅片從傳片筐傳出 FIELD SELECT 用于切換設定狀態(tài)設備面板另有四個用于光標移動的按健及一個數(shù)字鍵盤

4、四 Tel/lam 氮化硅刻蝕機的常見故障及應急故障處理1真空故障：主要顯示為反應腔或者傳遞腔真空達不到，真空漏率較大。 可能引起該故障的主要原因為：真空泵能力下降，真空管線連接不好，設備內(nèi)部密封件老化，真空監(jiān)測系統(tǒng)不準確。傳遞腔不能達到大氣壓.其故障原因為用于檢測其是否達到大氣壓的壓力開關松動或損壞、充氣的閥門沒有打開或者是系統(tǒng)氮氣沒有供給2 射頻故障：主要為射頻信號加不上，反射功率大，射頻源溫度過高報警?？赡芤鹪摴收系闹饕驗椋荷漕l電纜連接處接觸不好，匹配單元連接不好，射頻源控制板故障，溫度高(OVER HEAT)是因為冷卻水管線堵塞造成。4 傳遞系統(tǒng)故障：主要表現(xiàn)為硅片在傳遞皮帶上不動作；裝載片筐的升降臺不動作；機械手傳接片子位置不正，其直接的影響會使硅片碎裂，嚴重時會導致主反應腔內(nèi)的針（用于托片子）彎曲?？赡芤鸸收系脑驗椋簜鬟f皮帶斷裂及帶動皮帶的電機出現(xiàn)故障；升降臺的保險斷開，控制系統(tǒng)有故障此時系統(tǒng)復位即可，機械手的限位不正確或氣缸(電機)有故障。5 控制系統(tǒng)故障：常見為屏幕出現(xiàn)亂碼。產(chǎn)生此故障的原因通常為存儲塊接觸不良或是電源不穩(wěn)定。6 電極冷卻部分故障：主要表