1、會計學1第六章陶瓷第六章陶瓷(toc)的加工及改性的加工及改性第一頁，共44頁。2022-4-14第1頁/共44頁第二頁，共44頁。2022-4-14磨粒磨粒磨粒磨粒工件裂紋旋轉方向旋轉方向工件陶瓷材料金屬材料陶瓷材料和金屬材料的磨削(m xio)機理 材料脆性剝離是通過空隙和裂紋的形成或延展、剝落及碎裂等方式來完成的 在晶粒去除過程中，材料是以整個晶粒從工件表面上脫落的方式被去除的。 陶瓷和金屬的磨削過程模型如右圖。金屬材料依靠剪切作用產(chǎn)生帶狀或接近帶狀的切屑，而磨削陶瓷時，材料內(nèi)部先產(chǎn)生裂紋，隨著應力的增加，間斷(jindun)裂紋的逐漸增大，連接，從而形成局部剝落。 第2頁/共44頁第三

2、頁，共44頁。2022-4-14 砂輪(shln)（grinding wheel）和磨料（abrasives）的選擇 磨削工藝及條件的選擇 a砂輪(shln)磨削速度 b工件給進速度（feeding speed） c冷卻液的選擇（cooling media） d 磨削深度ap（rubbing depth） e磨削方式（rubbing way）、方向及機床剛性 （machine rigidity）第3頁/共44頁第四頁，共44頁。2022-4-14壓力研磨液工件磨粒研具工件磨粒壓力(a)(b)研具 研磨(ynm)加工示意圖第4頁/共44頁第五頁，共44頁。2022-4-14研磨過程材料剝離的機理

3、主要是以滾碾破碎為主。磨粒越粗，材料剝離率越大， 研磨效率越高，但表面粗糙度增大；磨粒硬度越高，研磨效率越高，但卻容易使球面出現(xiàn)機械損傷，導致(dozh)表面粗糙度相對較低。 研磨工程陶瓷用的磨料一般采用B4C和金剛石粉，磨料粒度范圍為250600目，冷卻液可選用煤油或機油。但對于較大(jio d)尺寸的制品，不適合采用端面研磨機加工，通常采用研磨砂布進行加工。 第5頁/共44頁第六頁，共44頁。2022-4-14拋光是使用微細磨粒彈塑性的拋光機對工件表面進行摩擦使工件表面產(chǎn)生塑性流動，生成細微的切屑，材料的剝離基本上是在彈性的范圍內(nèi)進行。拋光的方法(fngf)：一般的拋光使用軟質、富于彈性或

4、粘彈性的材料和微粉磨料。拋光加工的用途：它是制備許多精密零件如硅芯片、集成電路基板、精密機電零件等的重要工藝。拋光時在加工面上產(chǎn)生的凹凸，或加工變質層極薄，所以尺寸形狀精度和表面粗糙度比研磨高。第6頁/共44頁第七頁，共44頁。2022-4-14陽極陰極陽極熔蝕區(qū)陰極熔蝕區(qū)熔融金屬微粒凝固金屬微粒工作液放電通道氣泡+_+_翻起凸邊網(wǎng)坑 放電(fng din)間隙示意圖第7頁/共44頁第八頁，共44頁。2022-4-14電火花加工必須具備以下幾個(j )條件：（1）放電必須是瞬時的脈沖性放電。（2）火花放電必須在有較高絕緣強度的介質中進行。（3）要有足夠的放電強度，以實現(xiàn)金屬局部的熔化和氣化。（

5、4）工具電極與工件被加工表面(biomin)之間要始終保持一定的放電間隙 絕緣陶瓷的電火花放電加工(ji gng)原理示意圖和高速電火花穿孔機原理示意圖如下圖所示 高壓工作液管電極導電器工作元件 電火花加工示意圖 高速電火花穿孔機原理示意圖第8頁/共44頁第九頁，共44頁。2022-4-14燈絲柵極電源陽極排氣系統(tǒng)電磁透鏡電子束工作室偏轉線圈工作臺 電子束加工(ji gng)工作原理示意圖 工件變形(bin xng)小、效率高、清潔制電子束能量密度的大小與能量注入時間，達到熱處理，焊接，打孔，切割等加工目的 光刻加工 特點：第9頁/共44頁第十頁，共44頁。2022-4-14激光M1M3M2M

6、4刀具工件010018 激光(jgung)加工原理示意圖激光(jgung)加工（laser machining）第10頁/共44頁第十一頁，共44頁。2022-4-14工件工具磨料液變幅桿聚能器換能器超聲波發(fā)生器超聲波加工(ji gng)機理超聲波加工(ji gng)（ultrasonic machining）特點：（1）適合加工各種硬脆材料，特別是不 導電的非金屬材料 （2）加工設備結果簡單，操作、維修方便（3）可以得到高質量的表面，而且可以加工薄壁、窄縫零件 第11頁/共44頁第十二頁，共44頁。2022-4-14第三節(jié) 施釉 陶瓷的施釉是指通過高溫的方式，在陶瓷體表面上附著一層玻璃態(tài)層物

7、質。施釉的目的(md)在于改善坯體的表面物理性能和化學性能，同時增加產(chǎn)品的美感，提高產(chǎn)品的使用性能。釉的作用與分類一、釉的作用（1）釉能夠提高瓷體的表面光潔度。（2）釉可提高瓷件的力學性能和熱學性能。（3）提高瓷件的電性能，如壓電、介電和絕緣性能。（4）改善瓷體的化學性能。（5）使瓷件與金屬之間形成牢固(log)的結合。（6）釉可以增加瓷器的美感，藝術釉還能夠增加陶瓷制品的藝術附加 值，提高其藝術欣賞價值。第12頁/共44頁第十三頁，共44頁。2022-4-14二、釉的分類 （1）按釉中主要助熔物劃分： 如鉛釉、石灰釉、長石釉等。 （2）按釉的制備方法劃分： 生料釉：即指釉料配方組成中未使用熟

8、料熔塊的釉。 熔塊釉：即指由熔塊與一些生料按配比制作而成的釉料。 （3）按照釉的燒成溫度劃分： 易熔釉或低溫釉：指熔融溫度一般不超過1150的釉 中熔釉或中溫釉：指熔融溫度一般在11501300的釉 難熔釉或高溫釉：指熔融溫度一般達1130的釉 （4）按釉燒成后外觀特征和具有的特殊功能劃分： 透明釉、乳濁釉、畫釉、結晶釉、紋理釉、無光釉、臘光釉、 熒光(ynggung)釉、香味釉、金屬光澤釉、彩虹釉、抗菌釉、自潔釉等。 （5）按釉的用途劃分： 裝飾釉、電瓷釉、化學瓷釉、面釉、底釉、鈞釉等。第13頁/共44頁第十四頁，共44頁。2022-4-14釉的特點(tdin)和性質一、釉的熔融性能（1）釉

9、的熔融溫度范圍定義：我們把釉隨著溫度的升高，從開始出現(xiàn)液相的始熔溫度到完全成為液相的流淌溫度之間的溫度區(qū)域范圍稱為釉的熔融溫度范圍。釉的始熔溫度和流淌溫度的測定：釉的熔融性質通常用高溫顯微鏡測定。首先，將待測釉料制作成高度(god)和直徑均為3mm的圓柱體，并置于高溫電爐中加熱升溫，升溫速度為810/mm，對釉料受熱變化的行為照相記錄，如下圖。l1l2l3l4 釉料受熱(shu r)變化的行為第14頁/共44頁第十五頁，共44頁。2022-4-14第15頁/共44頁第十六頁，共44頁。2022-4-14三、釉的膨脹系數(shù)及坯釉膨脹系數(shù)的適應性 （1）坯釉膨脹系數(shù)互不適應時的兩種表現(xiàn)： 當釉坯時：

10、冷卻時釉層會受到坯體所給予的拉伸應力作用，即在釉層中產(chǎn)生張應力。當此張應力超過釉層的抗張應力極限時，釉層被拉斷形成釉裂。 當釉坯時：冷卻時坯層收縮大于釉層，使釉層受到壓應力作用，當此壓應力超過一定極限時即發(fā)生釉層的剝落現(xiàn)象，即剝釉。 （2）膨脹系數(shù)的選擇確定：對于有釉面的陶瓷制品，一般希望(xwng)釉的膨脹系數(shù)比坯體的略?。▋烧卟钪禐?.010-6/左右較佳）。第16頁/共44頁第十七頁，共44頁。2022-4-14 四、釉的力學性能 （1）釉層的強度：釉面機械強度與釉、坯之間的應力(yngl)分布有很大關系。 （2）釉的彈性： 釉的彈性對釉面質量的影響：如果釉的彈性很小，有裂紋產(chǎn)生； 釉的

11、彈性大可以緩解機械外應力(yngl)的破壞作用。 釉的組成對彈性的影響：配方中引入離子半徑較大、電荷較低的 金屬氧化物（如Na2O、K2O等）可使彈性模量減少，而彈性值 增大；反之，引入離子半徑小、極化能力強的金屬化合物（BeO、 MgO、Li2O等）則使彈性提高釉的彈性模量，使釉的彈性減小。 （3）釉面硬度： 影響釉硬度的因素：釉的組成，在釉層中適當增加Al2O3、B2O3、 ZrO2、CaO、ZnO、MgO的含量有利于增加釉的硬度；K2O、 Na2O的增加會降低其硬度；適當提高燒成溫度，可使其硬度得到 提高。第17頁/共44頁第十八頁，共44頁。2022-4-14第18頁/共44頁第十九頁

12、，共44頁。2022-4-14施釉工藝(gngy)一、基本施釉方法（1）浸釉法：即將產(chǎn)品用手工全部浸入釉料中，使之附著一層釉漿（2）噴釉法：噴釉法是利用壓縮空氣將釉漿噴成霧狀，使粘附(zhn f)于坯體上 （3）澆釉法：將釉漿澆到坯體上以形成釉層 （4）刷釉法：用于在同一坯體上施幾種不同釉料 二、新型施釉方法（1）流化床法 ：利用壓縮空氣設法使加有少量有機樹脂的干釉粉在流化床內(nèi)懸浮而呈現(xiàn)流化狀態(tài)，然后將預熱到100200 坯體浸入到流化床中，與釉粉保持一段時間的接觸 （2）熱噴施釉法 ：先進行坯料的素燒，后在熾熱狀態(tài)的素燒坯體上進行噴釉 （3）干壓施釉法 ：壓施釉法是將成型、上釉一次完成的一種

13、(y zhn)方法。釉料和坯體均通過噴霧干燥來制備。成型時，先將坯料裝入模具加壓一次，然后撒上少許有機結合劑，再撒上釉粉，然后加壓。（4）機器人施釉第19頁/共44頁第二十頁，共44頁。2022-4-14燒釉（1）制定燒成制度的依據(jù)： 以坯釉的化學(huxu)組成及其在燒成過程中的物理化學(huxu)變化為依據(jù)。 以坯件的種類、大小、形狀和薄厚為依據(jù)。 以窯爐的結構、種類、燃料種類以及裝窯疏密等為依據(jù)。 以相似產(chǎn)品的成功燒成經(jīng)驗為依據(jù)。（2）溫度制度及其控制： 溫度制度包括：升溫速率、燒成溫度（止火溫度）、保溫時間和冷卻(lngqu) 速度等。（3）氣氛制度(zhd)及其控制： 氣氛類型 燒成

14、氣氛的選擇依據(jù)第20頁/共44頁第二十一頁，共44頁。2022-4-14第四節(jié) 陶瓷(toc)表面金屬化陶瓷表面金屬化的用途 一、制造電子元器件 二、用于電磁屏蔽 三、應用于裝飾方面(fngmin)生產(chǎn)美術陶瓷陶瓷表面金屬化的方法 陶瓷的金屬化方法很多，在電容器，濾波器及印刷電路等技術中，常采用被銀法。此外還有采用化學(huxu)鍍鎳法、燒結金屬粉末法、活性金屬法、真空氣相沉積和濺射法等。 第21頁/共44頁第二十二頁，共44頁。2022-4-14一、被銀法（1）瓷件的預處理：瓷件金屬化之前必須預先進行凈化處理。清洗的方法很多，通?？捎?080的熱肥皂水浸洗(jn x)，再用清水沖洗 。（2）

15、銀漿的配置(pizh)：銀漿的配方主要是由含銀的原料，熔劑及粘合劑組成。 （3）銀電極漿料的制備：將制備好的含銀原料，熔劑和粘合劑按一定配比進行配料后，在剛玉或瑪瑙磨罐中球磨4090h，使粉體粒度5m并混合均勻。 （4）涂敷工藝：有手工，機械，浸涂，噴涂或絲網(wǎng)印刷等 （5）燒銀：燒銀的目的是在高溫作用下使瓷件表面上形成連續(xù)、致密、附著牢固、導電性良好的銀層 第22頁/共44頁第二十三頁，共44頁。2022-4-14二、化學(huxu)鍍鎳法化學鍍的工藝流程(n y li chn)為：陶瓷片水洗除油水洗粗化水洗敏化水洗活化水洗化學鍍水洗熱處理。第23頁/共44頁第二十四頁，共44頁。2022-4

16、-14三、真空(zhnkng)濺射鍍膜（vacuum sputtering coating）鍍件加熱電源真空室鍍件支架鍍件（三用閥）蒸發(fā)制膜材料（錫青銅）加熱電源排氣口真空密封擋板蒸汽流蒸發(fā)器 真空蒸發(fā)鍍膜示意圖第24頁/共44頁第二十五頁，共44頁。2022-4-14第五節(jié) 陶瓷(toc)金屬封接技術（bonding of ceramics and metals）第25頁/共44頁第二十六頁，共44頁。2022-4-14玻璃(b l)焊料封接（glass welding）一、玻璃焊料金屬(jnsh)封接條件（1）兩者的膨脹系數(shù)接近（2）玻璃能潤濕金屬(jnsh)表面二、封接前金屬的處理（1）

17、金屬的清潔處理：機械凈化；去油 ；化學清洗 ；電化學清洗 ；烘干 （2）金屬的預氧化：即將金屬置于氫氣或真空中進行高溫加熱使金屬表面能形成一層氧化物而達到潤濕的效果。 三、玻璃焊料金屬封接的工藝參數(shù)（1）溫度（2）時間（3）氣氛 第26頁/共44頁第二十七頁，共44頁。2022-4-14燒結(shoji)金屬粉末法封接（powder metallurgy bonding）工藝流程簡述如下 ：（1）漿料制備 ：其中主要成分為金屬氧化物或金屬粉末，還含有一些無機粘合劑，有機粘合劑。再加上適量的液體，就可置入球磨機中濕磨1260小時，直到平均粒徑到13m為止。（2）刷漿 ：將上述制得的金屬漿料，以一

18、定方式涂刷于需要金屬化的陶瓷表面上，這層金屬漿料的厚度，以干后達到1226m為宜。（3）燒滲：在高溫及還原性氣氛的作用下，一部分金屬氧化物將被還原成金屬，另一部分則可能熔融并添加到陶瓷的玻璃相中，或與陶瓷中之某些晶態(tài)物質，通過化學反應而生成一種(y zhn)新的化合物，形成一種(y zhn)粘稠的過渡層，并將陶瓷表面完全潤濕。而在冷卻過程中這粘稠的過渡層，則凝固為玻璃相，填充于陶瓷表面與金屬粉粒之間。 （4）將陶瓷金屬化表面與金屬進行焊接 第27頁/共44頁第二十八頁，共44頁。2022-4-14活性金屬(jnsh)封接法（active metallic bonding）特點(tdin)：第2

19、8頁/共44頁第二十九頁，共44頁。2022-4-14封接的結構(jigu)形式（configuration） 應用于電子元件、器件中的陶瓷金屬的封接，雖然種類繁多，形式不一，但就基本結構而言，不外乎對封、壓封、穿封三種，如圖6.16所示。如果元件本身結構比較簡單，則可以使用其中之一種，如小型(xioxng)密封電阻，電容，電路基片等。如元器件本身比較復雜，則可能有其中的23種形式組合而成，如穿心式電容器，陶瓷絕緣子，真空電容器等。(1)(2)(3)(4)(5)(6)(1)端頭對封;(2)夾層對封;(3)平壓封;(4)斜壓封;(5)實心穿封;(6)墊壓穿封 (黑色表示金屬部分,斜線表示陶瓷)一

20、、對封：對封是通過(tnggu)焊封將金屬直接平焊于金屬化后的陶瓷端面上。如右圖（1）、（2）所示 二、壓封：即金屬件在外，瓷件在內(nèi)。如右圖（3）、（4）所示 三、穿封：當穿過瓷件的金屬件的直徑較細，可以直接采用如右圖（5）所示的實心穿封；金屬件較粗應改用如右圖（6）所示壓穿封 陶瓷金屬封接的主要結構形式第29頁/共44頁第三十頁，共44頁。2022-4-14第六節(jié) 陶瓷(toc)表面改性新技術一、熱噴涂法（thermal spraying）：利用氧乙炔（丙烷）火焰、電弧或等離子等高溫熱源將欲涂覆的各種涂層材料熔化或軟化，并用高速射流使之霧化成微細顆粒液滴或高溫顆粒，噴射到經(jīng)過(jnggu)預

21、處理的基體表面工件表面，從而與基體形成一層牢固的涂層的技術，達到高度耐磨、減摩、耐蝕、耐高溫以及修補恢復尺寸等目的 二、冷噴涂法：利用高壓氣體攜帶粉末顆粒從軸向進入噴槍產(chǎn)生超音速流，粉末顆粒經(jīng)噴槍加速后在完全固態(tài)下撞擊基體，通過產(chǎn)生較大的塑性變形而沉積于基體表面形成(xngchng)涂層 三、溶膠凝膠法（sol-gel）：用易水解的金屬醇鹽或無機鹽，在某種溶劑中發(fā)生水解反應，經(jīng)水解縮聚形成均勻的溶膠，將溶膠涂覆在金屬的表面，再經(jīng)干燥、熱處理（焙燒）后形成涂層 陶瓷材料傳統(tǒng)的表面改性技術第30頁/共44頁第三十一頁，共44頁。2022-4-14四、物理化學氣相沉積法（physical chemi

22、cal vapor deposition）： 氣相沉積是指以材料的氣態(tài)（或蒸汽）或氣態(tài)物質化學反應的產(chǎn)物在工件表面形成涂層的技術，前者稱為物理氣相沉積（PVD），后者稱為化學氣相沉積（CVD） 。 物理氣相沉積有濺射法、離子鍍法、真空蒸鍍法等。對于陶瓷基體來說，用的較多的是濺射法。濺射法是通過待鍍材料源和基板一起放入真空室內(nèi)，然后利用正離子轟擊作為陰極的靶，以動量傳遞的方法使靶材中的原子、分子溢出并在基板表面上凝聚(nngj)成膜 。 化學氣相沉積是指在相當高的溫度下，混合氣體與基體的表面相互作用，使混合氣體中的某些成分分解，并在基體表面形成一種金屬或化合物的固態(tài)薄膜或鍍層。 五、熔鹽反應法（

23、molten salt reaction）：其原理(yunl)是利用過渡金屬在熔鹽里歧化反應，在陶瓷表面沉積金屬薄膜和涂層，從而改善陶瓷表面的潤濕性能 第31頁/共44頁第三十二頁，共44頁。2022-4-14陶瓷表面(biomin)改性新技術一、離子注入技術(jsh)（ion implanting）： 它是將所需的元素（氣體或金屬它是將所需的元素（氣體或金屬(jnsh)蒸汽）通入電離室電離后形成正離子，將正離子蒸汽）通入電離室電離后形成正離子，將正離子從電離室引出進入幾十至幾百千伏的高壓電場中加速后注入材料表面，在零點幾微米的表層從電離室引出進入幾十至幾百千伏的高壓電場中加速后注入材料表面，

24、在零點幾微米的表層中增加注入元素的濃度，同時產(chǎn)生輻照損傷，從而改變材料的結構和各種性能。中增加注入元素的濃度，同時產(chǎn)生輻照損傷，從而改變材料的結構和各種性能。 （1）離子注入技術原理及裝置 離子注入是指從離子源中引出離子，經(jīng)過加速電位加速，離子獲得一定的初速度爾后進入磁分析器，使離子純化，從磁分析器中引出所需要注入的純度極高的離子。加速管將選出的離子進一步加速到所需的能量，以控制注入的深度。聚焦掃描系統(tǒng)將粒子束聚焦掃描，有控制地注入陶瓷材料表面。離子注入裝置如右圖所示離子注入機示意圖第32頁/共44頁第三十三頁，共44頁。2022-4-14離子注入技術(jsh)的特點 ：離子注入是一個非平衡過

25、程，注入元素不受擴散系數(shù)、固溶度和平衡相圖的限制，理論(lln)上可將任何元素注入到任何基體材料中去。離子注入是原子的直接混合，注入層厚度為0.1m，但在摩擦條件下工作時，由于摩擦熱作用，注入原子不斷向內(nèi)遷移，其深度可達原始注入深度的1001000倍，使用壽命延長。 離子注入元素是分散停留在基體內(nèi)部，沒有界面，故改性層與基體之間的結合強度很高，附著性好；離子注入是在高真空（10-410-5Pa）和較低的溫度下進行的，因此工件不產(chǎn)生氧化脫碳現(xiàn)象，也沒有明顯的尺寸變化，故適宜工件的最后表面處理。 缺點：有時無法處理復雜的凹面和內(nèi)腔；注入層較??；離子注入機價格昂貴，加工成本較高。 第33頁/共44頁

26、第三十四頁，共44頁。2022-4-14金屬蒸汽(zhn q)真空弧離子源是利用陰、陽極間的真空電弧放電原理來建立等離子體的右圖為MEVVA源的電源原理。（2）金屬蒸汽真空(zhnkng)離子源技術（metal vapor vacuum arc）弧陽極陰極磁鐵引出電極觸發(fā)器抑制柵極引出系統(tǒng)弧MEVVA源的電源(dinyun)原理特點：（1）能給出的離子種類多（2）注入效率高（3）離子電荷態(tài)高，可大幅度地降低注入機的制造成本（4）離子束純度高，進一步降低注入機的制造成本 （5）可實現(xiàn)多種元素的離子在相同條件下的注入和摻雜，并省去重復抽真空的時間。第34頁/共44頁第三十五頁，共44頁。2022-

27、4-14（3）離子注入對陶瓷表面(biomin)材料表面(biomin)力學性能的影響離子注入對陶瓷表面材料斷裂韌性的影響(yngxing)： 陶瓷材料的致命缺陷是脆性大，利用離子注入可以在一定程度上提高陶瓷的斷裂韌性。 離子注入對陶瓷抗彎強度的影響： 因為離子注入使材料表面產(chǎn)生輻照損傷，體積膨脹，產(chǎn)生表面壓應力，這是材料強度增加的主要原因，但是如果材料表面的裂紋尺寸超過了注入引起的表面壓應力的厚度，其增強(zngqing)效果會減小。 離子注入對陶瓷硬度的影響： 一般來說，低劑量注入時，離子束引起表面硬化，使得材料硬度會增大，但是劑量增到一定程度時，當陶瓷表面呈無定形后，硬度就會急劇下降。

28、離子注入對陶瓷摩擦性能的影響： 陶瓷材料的摩擦損失常與表面性能有密切關系。離子注入可以改善材料的表面性能，從而提高材料表面的抗磨損性能 第35頁/共44頁第三十六頁，共44頁。2022-4-14二、等離子體(dnglzt)噴涂（plasma spraying）（1）等離子體與表面的相互作用 低溫等離子體中存在具有一定能量分布的電子、離子和中性粒子，通過它們與材料(cilio)表面的撞擊，會將自己的能量傳遞給材料(cilio)表面的原子或分子，產(chǎn)生解析、濺射、刻蝕、蒸發(fā)等各種物理、化學過程。一些粒子還會注入到材料(cilio)表面引起級聯(lián)碰撞、散射、激發(fā)、重排、異構、缺陷、晶化或非晶化，從而改變

29、材料(cilio)表面的組織和性能。（2）脈沖等離子沉積（pulse plasma deposition） 用于薄膜合成、表面改性技術中的脈沖能量束一般為脈沖激光束、脈沖電子束、脈沖等離子束。與脈沖電子束、脈沖激光束相比，脈沖等離子體(dnglzt)具有電子溫度高、等離子體(dnglzt)密度高、定向速度高、功率大等特點。脈沖等離子體(dnglzt)應用于材料表面改性具有設備簡單、處理溫度可以在室溫進行、沉積速率高、薄膜與基底粘結力強等優(yōu)點，并兼有激光表面處理、電子束處理、沖擊波轟擊、離子注入、濺射、化學氣相沉積等綜合性特點。在制備薄膜時可在室溫下合成亞穩(wěn)態(tài)相和其他化合物材料。第36頁/共44

30、頁第三十七頁，共44頁。2022-4-14（3）脈沖高能量密度(md)等離子體脈沖高能量密度等離子體的基本構思：將高能量密度等離子體，瞬間地作用在材料表面，可以導致材料表面出現(xiàn)局部急劇熔化，緊接著急劇冷卻凝固，加熱或冷卻速率可達108 1010 K/s。因此可以在基材表面形成一層微晶或非晶薄膜，從而達到改善材料表面性能的目的。通過改變同軸槍內(nèi)、外電極材料，工作氣體種類及工藝參數(shù)，可以獲得不同種類和比例的等離子體束，從而可以在室溫(sh wn)下制備各種穩(wěn)態(tài)和亞穩(wěn)態(tài)相的薄膜 脈沖高能量密度等離子體的產(chǎn)生裝置是根據(jù)同軸等離子體加速器的概念設計的，裝置如右圖所示 +_+_樣品等離子氣團抽真空外電極絕

31、緣體內(nèi)電極開關充放電路RC脈沖高能量密度(md)等離子體同軸槍原理圖第37頁/共44頁第三十八頁，共44頁。2022-4-14（4）脈沖高能量密度等離子體表面改性 脈沖高能量密度等離子體技術(jsh)用于陶瓷表面金屬化的原因：（1）通常用銅代替鋁作為集成電路的金屬材料，目前方法沉積得到的銅膜由于與氧化鋁基底的潤濕性很差，造成金屬膜與基底結合不牢。（2）脈沖高能量密度等離子體在處理材料時，等離子體能夠與基底材料直接發(fā)生反應，這樣，制備薄膜及膜/基混合可同步實現(xiàn)，能夠有效提高膜/基結合力。 脈沖高能量密度等離子體技術(jsh)用于刀具表面改性方面 利用脈沖高能量密度等離子體技術(jsh)在Si3N

32、4陶瓷刀具和硬質合金刀具表面沉積Ti(C,N)涂層后，具有很好的硬度效果 第38頁/共44頁第三十九頁，共44頁。2022-4-14三、激光(jgung)技術（laser spraying） 激光表面處理采用大功率密度的激光束、以非接觸性的方式加熱材料表面，借助于材料表面本身傳導冷卻，來實現(xiàn)其表面改性的工藝方法。優(yōu)點：能量(nngling)傳遞方便，可以對被處理工件表面有選擇地局部強化；能量(nngling)作用集中，加工時間短，熱影響區(qū)小，激光處理后，工件變形小；可處理表面形狀復雜的工件，而且容易實現(xiàn)自動化生產(chǎn)線；激光表面改性的效果比普通方法更顯著，速度快，效率高，成本低；通常只能處理一些薄板金屬，不適宜處理較厚的板材，但可以作為建筑衛(wèi)生陶瓷的表面修補； 激光表面處理包括激光表面硬化、激光沖擊硬化、激光表面熔化、激光表面合金化和激光表面涂覆等 （1）激光表面(biomin)處理技術的原理及特點第39頁/共44頁第四十頁，共44頁。2022-4-14（2）激光(jgung)表面噴涂 右圖為激光表面噴涂噴嘴(pnzu)示意圖。該裝置有激光發(fā)生器、噴涂材料供給裝置、高壓氣體供給裝置組成。該方法屬于同步吹送法，它的特點是利用高溫度、高能量密度的激光作為光源，使噴涂材料和噴涂氣氛的