CNDQ系列水電解制氫裝置安裝使用說明書（微機控制）目錄第一章概述1水電解制氫裝置工作原理12水電解制氫裝置用途與技術參數(shù)13水電解制氫裝置用途與技術參數(shù)24水電解制氫裝置工藝流程3第二章安裝1制氫站42工藝部分53控制部分64整流部分75配電裝置7第三章操作規(guī)程1工藝系統(tǒng)開機前的準備82整流裝置開機前的準備93自控開機前的準備104稀堿試車105濃堿正式運行12第四章設備維護安全事項與故障排除1設備維護122安全注意事項133故障及排除方法14附錄一ZDQ系列水電解制氫裝置帶控制點的工藝流程圖附錄二KOH水溶液溫度比重對照表18附錄三用戶自備件清單19附錄四系統(tǒng)控制參數(shù)整定值參考21附錄五報警連鎖一覽表22第一章概述1水電解制氫裝置工作原理水電解制氫的原理是由浸沒在電解液中的一對電極中間隔以防止氣體滲透的隔膜而構成的水電解池,當通以一定的直流電時,水就發(fā)生分解,在陰極析出氫氣,陽極析出氧氣。其反應式如下陰極2H2O2EH22OH陽極2OH2EH2O1/2O2總反應2H2O2H2O2產(chǎn)生的氫氣進入干燥部分，由干燥劑吸附氫氣攜帶的水分，達到用戶對氫氣濕度的要求。本裝置干燥部分采用原料氫氣再生，在一干燥塔再生的同時，另一干燥塔繼續(xù)進行工作。2水電解制氫裝置的用途與技術參數(shù)表1制氫裝置主要技術參數(shù)表21設備的用途直流額定電壓（V）2856純水耗量（KG/H）510主電源動力電源容量（KVA）4075原料水水質要求電導率5S/CM氯離子含量2MG/L懸浮物1MG/L冷卻水用量（M3/H）3整流柜冷卻水出口背壓01MPA電解槽直流電耗48KWH/M3H2堿液濃度2630KOH自控氣源壓力0507MPA氣源耗量35M3/H主電源動力電電壓N380V50HZC相220V50HZ整流柜電源05KV380三相四線50HZ控制柜電源AC220V50HZ冷卻水溫度32冷卻水壓力0406MPA冷卻水水質6德國度氫氣出口溫度40干燥溫控溫度250350干燥加熱終止溫度180干燥器再生周期24H環(huán)境溫度045CNDQ系列水電解制氫干燥裝置是中國船舶重工集團公司第七一八研究所新研制成功并獨家生產(chǎn)的全自動操作的制氫干燥設備,其主要技術指標達到或超過九十年代末世界先進水平,適用于化工、冶金、電子、航天等對氫氣質量要求高的部門,是目前國內最先進的并可替代進口的制氫設備。22主要技術參數(shù)CNDQ510/32型水電解制氫干燥裝置的主要技術參數(shù)如表1本裝置采用微機控制，對本裝置的主要的主要參數(shù)壓力、溫度、氫氧液位差可進行自動調節(jié)對干燥器的再生時間及再生溫度進行自動控制。對裝置的工作壓力、溫度、氫液位、氧液位、氫氣純度能集中顯示；在干燥器再生開始及結束事，有自動聲光報警。若氫閥后壓力、冷卻水壓力、氣源壓力、氫氧液位上下限、氫氧純度產(chǎn)生一定的偏差事能自動聲光報警；若裝置的主要參數(shù)壓力、溫度、氫氧液位、堿液循環(huán)量、氣源壓力偏離正常值太大，又不能及時處理事，該裝置能自動聲光報警停車；為了進一步提高本裝置的安全運行系數(shù)，裝置的主要參數(shù)壓力，設置了雙重獨立系統(tǒng)，當系統(tǒng)壓力控制失靈，裝置的運行狀態(tài)達到危險值時，該獨立系統(tǒng)可使裝置自動聲光報警并停車。原料水補充有自動和手動兩種方式。3水電解制氫裝置結構本裝置由框架一、整流柜、控制柜、配電裝置、計算機管理系統(tǒng)、框架二、框架三等幾部分組成。31框架一框架一由電解槽、氫、氧分離器、氫洗滌器、循環(huán)泵、干燥器、冷卻器、汽水分離器等組成，電解槽為壓濾式雙極性結構，一端下部有進液管，另一端上部有氫氣、氧氣及堿液出口管，中間極板為正極，兩端極板為負極。32整流柜整流柜由整流變壓器，整流裝置組成，用于供給電解所需直流電源。使用方法詳見“可控硅整流裝置使用說明書”。33控制柜及計算機管理系統(tǒng)控制柜由下位機、電磁閥、安全柵、測量儀表及控制儀表組成，計算機管理系統(tǒng)主要由上位機及打印機組成。能夠實現(xiàn)自動控制、自動檢測、自動存罐。顯示、故障報警、連鎖、自動開機與停機等功能。34配電裝置配電裝置一般由配電柜和動力柜組成，用于對制氫系統(tǒng)所有動力裝置的供電，對循環(huán)泵，加水泵、風機等動力設備的啟停進行控制。35框架二框架二為氫氣分配裝置，與制氫裝置、儲氫罐及發(fā)電機供氫管道相連接。36框架三框架三用于堿液的配制和儲存、原料水的儲存以及為制氫裝置提供原料水及堿液。4水電解制氫裝置工藝流程水電解制氫裝置工藝流程詳見附錄一工藝流程圖。42電解液循環(huán)系統(tǒng)從電解槽出來夾帶氫氣和氧氣的堿液在氫分離器和氧分離器中,在重力作用下分別與氫氣、氧氣分離，經(jīng)蛇管冷卻后,電解液通過氫、氧分離器底部的連通管經(jīng)過過濾器進入循環(huán)泵,然后進入電解槽形成了電解液循環(huán)系統(tǒng)。43補充系統(tǒng)431補充原料水水箱中的水通過加水泵經(jīng)過止回閥H1、球閥Q5被注入氫洗滌器,先供冷卻洗滌,然后通過溢流管流入氫分離器,經(jīng)循環(huán)泵送入電解槽，不斷地補充電解消耗的原料水。432補充堿液水電解過程中,堿起到增加電導作用,理論上不消耗堿,正常運行中一般不需補充堿,如確需補充堿時,可通過加水泵經(jīng)過止回閥H2、球閥Q1直接泵入堿液循環(huán)系統(tǒng)中。注意在補堿液時,應關閉補水閥Q1,避免堿液加入氫洗滌器內。44冷卻水系統(tǒng)冷卻水共分四路第一路進入整流柜以冷卻可控硅整流元件。第二路通過冷卻水調節(jié)閥分別進入氫、氧分離器內部蛇管,以冷卻循環(huán)堿液,從而達到控制系統(tǒng)工作溫度的目的。第三路通過球閥Q11進入氣體冷卻器內部蛇管,以冷卻氫氣,此冷卻水為常流水,由Q11調節(jié)流量大小。45氮氣吹掃系統(tǒng)通過J1，J7向系統(tǒng)內充氮氣,用于系統(tǒng)的氣密試驗與開機前的氮氣吹掃。當使用氮氣時用軟管與氮氣源臨時連接,不用金屬管道與氮氣管道氣源固定連接。46排污系統(tǒng)排污管道共分三處第一處框架一的排污口（排污閥Q12）。第二處通過球閥Q7、Q8排出氣水分離器中的水。第三處為框架三排污口。第二章安裝1制氫站11制氫站的設計應符合GB5017793氫氧站設計規(guī)范。12制氫裝置的安裝制氫間放置框架一和框架二。整流控制間放置控制柜、整流柜、配電裝置、微機等。輔助間放置框架三房間的數(shù)量、設備布局,使用單位或設計院可根據(jù)當?shù)鼐唧w情況，參照氫氧站設計規(guī)范作相應改變。13制氫間的要求制氫間應為單層不可燃材料建筑。制氫間應設置必要的泄壓面積,泄壓面積與廠房的比值M2/M3一般采用005010。門窗及輕質墻體可作為泄壓面積,泄壓面積應布置合理,并應靠近爆炸部位,不應面對人員集中的地方和交通要道。制氫站的防雷接地和電器防爆的要求按照氫氧站設計規(guī)范的規(guī)定執(zhí)行。制氫間室溫不應低于15。制氫間高度不低于5米,門窗向外開。制氫間頂棚應設適當數(shù)量的通風孔,通風孔直徑不小于200MM,外設防雨帽,下緣與頂棚平齊并設置拉線活門以利于冬季保溫,通風孔應設在頂棚最高處。為了便于安裝維修,制氫間應設行車,起重能力應大于框架一的重量。制氫間的地板應耐堿,并設有排污下水道,便于污水排放。制氫間應設有供系統(tǒng)吹掃試壓用的氮氣管道以及自來水管和水池。2工藝部分21水電解制氫裝置參照工藝流程圖安裝。各技術參數(shù)及要求見表1。22框架一和框架三之間的管路一般應沿地溝敷設,框架一和框架二管路宜架空設置,各管路的長度盡可能短,并減少彎曲,以減少阻力。23整流柜與電解槽的連接電纜應沿地溝敷設并與各管路地溝分別設置；控制電纜應架空敷設，若不能架空敷設，控制電纜與動力電纜應沿不同地溝敷設或采取屏蔽措施。電纜地溝應考慮排水。24氫氣、氧氣放空管出口應分別在制氫間兩側,距離大于10M,高出房脊15M以上。管口應考慮防雨,氫放空口應裝阻火器。25控制柜與框架一之間距離不能過遠?？刂乒衽c框架一實際距離不大于20米。26安裝框架一、框架三的基礎應高出地面一定高度,詳見各設備的基礎圖。27主要設備及安裝尺寸271框架一重為W噸,外形尺寸長寬高240018002200MM,安裝時將電解槽進堿液端地腳螺栓卸下，另一端固定,以利于伸縮。氣液處理器與獨立封閉地線的連接至少有兩處,接地電阻不大于4,地線的截面積不小于160MM2?？蚣芤换A地腳安裝尺寸如圖1,其中W數(shù)據(jù)如表2。表2型號CNDQ5CNDQ10重量（W）2100KG2800KG272框架三重量為270KG,外形尺寸為2000X1400X1200，其地腳螺栓孔安裝尺寸如圖23控制部分31供電供氣要求控制柜所需電源總功率不小于7KW,三相四線制供電。進柜供電電纜,詳見相應的控制柜外部接線圖。自控部分所需氣源為無油、無塵、無水干凈的壓縮空氣或氮氣,含油量小于15MG/M3,露點比環(huán)境最低溫度低10。32控制柜的安裝控制柜421740820圖384084042圖4選用KG221型,外形尺寸為長寬高10009002100MM,其地腳螺栓孔尺寸如圖3控制柜可不設基礎,直接置于線纜地溝之上，并要有良好的接地,接地電阻小于4。33控制柜各外接管線按照控制柜外部電氣接線圖連接。外接電氣管線均從控制柜底部進線。34控制柜與框架一之間的電線、電纜敷設一定要注意弱電和強電分開鋪設,以免相互干擾。35控制柜與框架三之間的水泵電源線以及控制柜與整流柜之間的信號電纜可預埋穿線管。36微機應盡量靠近控制柜擺放，它們之間的通信電纜可沿地溝敷設或架空敷設。4整流部分41整流部分由整流柜組成。42整流柜的安裝整流柜重量500KG,外形尺寸為10009002100寬深高MM,其地腳螺栓孔尺寸如圖4整流柜跨于地溝之上,進出電纜從整流柜底部進入地溝與電解槽連接。5配電裝置51配電裝置一般由配電柜和動力柜組成。52配電裝置的外形尺寸和基礎尺寸及安裝要求詳見CNDQ系列水電解制氫裝置設計資料。53配電裝置的外接管線配電裝置的外接管線均從柜體底部進入地溝與其他柜體的相應端子連接。第三章操作規(guī)程1工藝系統(tǒng)開機前的準備11制氫系統(tǒng)的清洗水電解制氫設備在正式投入運行前應對系統(tǒng)進行清洗,以去除存留在各部件內部的機械雜質。111將水箱、堿箱清洗干凈,置框架三所有閥門為關閉狀態(tài)。112打開Q1,向堿箱內注滿原料水后,關閉Q1。113打開Q4、Q15、J3、J4,關閉Q13、Q9，依靠堿箱內水位高度自流入系統(tǒng),打開J2及循環(huán)泵排氣閥,待流出水后,即表明水泵內已充滿水,關J2及循環(huán)泵排氣閥,打開J1，啟動循環(huán)泵,慢慢打開J12,堿箱中之原料水打入系統(tǒng),待J1流出水后，關閉J1，當液位升至氫、氧分離器液位計中部時,關閉J12,停泵,關閉Q4、Q15循環(huán)泵使用方法,詳見其使用說明書。114打開Q13、J2，待氣排凈后,關閉J2，啟動循環(huán)泵,打開J12至最大,沖洗系統(tǒng)一小時。115關閉J12,停循環(huán)泵。關閉Q13，打開Q9及Q5和Q6，啟動循環(huán)泵，慢慢打開Q14，將污水打入堿箱內排掉，之后將堿箱清洗干凈。或者打開J3、J4、Q12，將污水排入地溝。116按上述方法反復進行23次,直至排出液清潔為止。12氣密檢驗設備安裝完畢后,需對制氫系統(tǒng)進行全面的氣密檢驗。121按113中敘述方法將原料水打入制氫系統(tǒng)至分離器液位計中部。122將氮氣源與J1、J7連接，關閉制氫干燥系統(tǒng)與外部連接的所有閥門，打開系統(tǒng)內所有閥門，通過J1、J7向系統(tǒng)內送氣并使系統(tǒng)壓力緩緩升至系統(tǒng)工作壓力，并關閉J1、J7，檢查所有閥門、接頭、法蘭及管路焊口部位有無漏氣以和漏液現(xiàn)象。待確認不漏后，保壓12小時，泄漏量平均每小時不超過05P為合格P為系統(tǒng)工作壓力見表1。123慢慢打開J2及循環(huán)泵排氣閥，將氣排凈后關閉J2及循環(huán)泵排氣閥，啟動循環(huán)泵,將系統(tǒng)內原料水打循環(huán),清洗系統(tǒng)一小時,然后通過氫氧旁通閥J3、J4將制氫系統(tǒng)壓力卸至常壓，通過J7將干燥系統(tǒng)壓力卸至10MPA。之后按照115將水放掉。13電解液的配制在準備工作完成后,整套裝置首先要用稀堿15KOH試車,對系統(tǒng)進行清洗。稀堿運行后把稀堿排空,然后充入濃堿30KOH，千分之二的五氧化二釩進行正式運行。配制堿液的方法如下配制各型號所需電解液及KOH數(shù)量如表3表3型號名稱CNDQ5CNDQ10氫氧化鉀（KG）75100電解液（升）115160打開Q1,根據(jù)所配電解液的體積,往堿箱中注入適當體積的原料水,關閉Q1。打開Q4、Q5、Q15,此時其它閥門處于關閉位置,打開循環(huán)泵出口的J2及循環(huán)泵排氣閥排氣,在流出液體后關閉J2及循環(huán)泵排氣閥,啟動循環(huán)泵,慢慢打開Q14,使循環(huán)量最大。把堿箱蓋打開,將氫氧化鉀慢慢地倒入堿箱中，待其完全溶解后，用比重計測量配制電解液的比重,使之達到要求。（配制濃堿時,在剛完全溶解的溶液中加入千分之二的五氧化二釩）當溶液冷卻至50以下時,可通過循環(huán)泵把配制好的堿液打入系統(tǒng)內部。打開Q4、Q15、J3、J4關閉Q5、Q14,Q13、J12。檢查閥門位置無誤后,打開J2排氣,再流出堿液后關閉J2,然后啟動循環(huán)泵,慢慢打開J12,把堿液打入電解槽和氫、氧分離器,當液位升至分離器液位計四分之一處時,關閉J12,停泵。如堿箱中有剩余少量堿液,可通過補堿系統(tǒng)將剩余堿液泵入堿液循環(huán)系統(tǒng)中。堿箱中的堿液不得長期存放,一般不超過1個月。14氮氣吹掃,將制氫系統(tǒng)與外部連接的所有閥門關閉,然后打開J1和J7向裝置內充入氮氣使系統(tǒng)壓力升至1MPA,關閉J1、J7，通過J3、J4及J7,將系統(tǒng)壓力減壓至0102MPA。重復操作23次。15氫中氧、氧中氫兩分析儀器的調試,詳見其使用說明書。16檢查各閥門的狀態(tài),打開系統(tǒng)冷卻水進出口閥，整流柜的冷卻水閥門,所有壓力表截止閥以及Q1、Q2、Q3、Q4、Q5、Q13。關閉Q6、Q9、Q12、Q14、Q15、J3、J4、J5、J6、J12以及所有排污閥、排氣閥。17檢查各極框之間,正負極間有無短路或有金屬導體,發(fā)現(xiàn)后必須排除。2整流裝置開機前的準備21整流裝置的檢查見可控硅整流裝置使用說明書。22仔細檢查整流變壓器各接頭及整流柜各回路,嚴防短路。23將整流柜“自動/手動”轉換開關轉到“手動”檔,將“穩(wěn)壓/穩(wěn)流”轉換開關轉至“穩(wěn)壓”檔。3自控開機前的準備31氣動部分311用潔凈的壓縮空氣吹掃儀表氣源及自動閥氣源管路。312對氣源管路進行檢漏,特別是訊號管路不能有漏點。313接通氣源,看氣源壓力是否在正常值范圍,把氣源壓力的下限報警值整定在05MPA,把供給電氣轉換器的空氣過濾減壓閥的壓力整定在014MPA,把供給氣動球閥的空氣過濾減壓閥壓力整定在04MPA。32電氣部分321用萬用表檢查各回路有否短路故障,檢查各熔斷器是否正常檢查各指示燈有無損壞檢查氣液處理器的接地電阻是否小于4。222循環(huán)泵開關置于“自動“位置,加水泵開關置于“手動“位置。223接通總電源。224新裝置的堿液在未進分離器之前,調整各儀表的零位。225檢查氫氧分離器液位是否在適當?shù)奈恢谩?26把系統(tǒng)壓力開關、氫閥后壓力開關的參數(shù)整定到規(guī)定數(shù)值。227把氧槽溫聯(lián)鎖整定在92。228檢查氫中氧分析儀一次表中的干燥劑、硼酸片及穩(wěn)流瓶中的水是否加好。23上位機的操作詳見制氫及干燥裝置計算機監(jiān)控系統(tǒng)使用說明書。4稀堿試車在上述準備工作完成后,便可進行稀堿試車。目的是為了進一步清洗電解槽,對控制系統(tǒng)進行故障排除與控制參數(shù)設定與調整41啟動循環(huán)泵通過上位機啟動循環(huán)泵，調節(jié)J12閥調整循環(huán)量，制氫裝置系統(tǒng)堿液循環(huán)量參考表5制氫裝置系統(tǒng)堿液循環(huán)量參考值表5型號CNDQ5CNDQ10堿液循環(huán)量M3/H0304504506542點擊上位機上“開機”命令。43開啟整流柜431手動開啟整流柜接通主電源,按“觸發(fā)啟動”,按順時針方向旋轉“電壓給定”,注意觀察氫、氧分離器液位，防止液位上升太快和液位偏差過大。當輸出電壓達到額定值時,停止調節(jié)輸出電壓。隨著槽溫升高,電流隨之上升,當電流達到額定值時,將“電壓給定”逆時針調至零位,按“觸發(fā)停止”,然后把“穩(wěn)壓/穩(wěn)流”開關轉至“穩(wěn)流”檔,按“觸發(fā)啟動”按鈕,調“電流給定”至額定電流。（詳細操作見以整流柜說明書）422整流柜的自動操作將整流柜“自動/手動”轉換開關轉到“自動”檔,按“觸發(fā)啟動”。當自動運行時,整流柜輸出電流可在上位機中手動調節(jié),也可由上位機自動控制增加電流，直至額定值。43對系統(tǒng)控制參數(shù)根據(jù)設備運行情況進行整定。44在系統(tǒng)運行時，系統(tǒng)壓力和槽溫可由上位機自動給定；也可由鍵盤輸入數(shù)值給定。45氣體純度分析系統(tǒng)運行穩(wěn)定后,打開J5、J6可進行氣體純度分析。詳細操作方法見氧分析儀使用說明書和氫分析儀使用說明書。46停機在槽溫達到額定工作溫度，槽壓達到額定工作壓力兩小時后開始停車。點擊上位機上“停機”，先停整流柜,然后進行泄壓,使系統(tǒng)壓力降為零。冷卻水調節(jié)閥開支最大，30分鐘后，關閉循環(huán)泵。按14對系統(tǒng)進行氮氣吹掃12次。切斷控制柜、整流柜的電源、氣源、水源。47按115將系統(tǒng)內稀堿排凈，關閉框架一與外部連接的所有閥門。48清洗過濾器，拆下過濾器蓋，取出濾芯用自來水沖洗干凈，再用原料水清洗一遍。裝入過濾器，裝好法蘭蓋，確認不漏即可使用。表6制氫裝置控制系統(tǒng)參數(shù)設定參考值型號規(guī)格CNDQ10/32上限下限項目給定報警聯(lián)鎖報警聯(lián)鎖槽壓MPA32MPA3435槽溫859092堿液循環(huán)量M3/H025015氣源壓力MPA070449稀堿運行時各主要參數(shù)均受到監(jiān)控,保證裝置安全運行。表6中列出了各項參數(shù)的報警聯(lián)鎖點參考值。410當裝置發(fā)生故障時,可通過J5、J6手動泄壓,此過程不可過快,泄壓時注意氫、氧分離器液位變化,應盡量使兩分離器液位平衡。5濃堿正式運行51將配制好的濃堿按13打入系統(tǒng)中。52按14進行氮氣置換23次。53檢查冷卻水、壓縮空氣以及原料水是否正常,檢查分離器液位是否正常。54接通配電裝置中控制柜、整流柜電源，啟動上位機。55按16檢查各閥門狀態(tài)。56控制柜上循環(huán)泵開關置于“自動“位置,加水泵開關置于“手動“位置。57將整流柜“自動/手動”轉換開關轉到“自動”檔，將“穩(wěn)壓/穩(wěn)流”轉換開關置于“穩(wěn)流”位置58啟動循環(huán)泵，調整堿液流量至規(guī)定值。59點擊上位機上“開機”命令。510接通整流柜主電源，按“觸發(fā)啟動”。511按44和45進行操作。512系統(tǒng)運行平穩(wěn)后，將“加水泵”轉換開關和“氫貯罐/放空/自動”置于“自動”位置。512當氣體的純度達到要求后氫氣即進入干燥器進行干燥除濕。干燥器首次使用時，必須進行預再生。再生氣進口溫度為250350，再生加熱終止溫度為180，自然冷卻至常溫。正常情況下被再生一次的干燥器可認為再生好，能夠投入干燥工作。用露點儀檢驗氫氣濕度，是判斷干燥器是否再生充分最可靠的辦法。513氫氣露點達到要求后即可充罐，充罐自動進行。512停機按46進行。513遇到緊急情況，首先切斷整流柜電源，然后通過J5、J6泄壓,此過程不可過快,泄壓時注意氫、氧分離器液位變化,應盡量使兩分離器液位平衡。第四章設備維護安全事項與故障的排除1設備維護11在正常運行狀態(tài)下,操作人員經(jīng)常觀察運行情況,正確操作,及時記錄各參數(shù)及異常情況,一般每12小時記錄一次,遇到異常情況應及時停機處理。12每2個月測一次堿液比重,如氫氧化鉀濃度低于25,則應補充氫氧化鉀。13注意堿液循環(huán)量不能過大或過小,通過J12調節(jié)循環(huán)量,使其保持在額定范圍內。14經(jīng)常觀察分析儀一次儀表的氣體流量和干燥劑是否變色,及時調節(jié)流量和調換干燥劑及硼酸片詳見分析儀說明書。15經(jīng)常觀察水箱內有無原料水以及冷卻水流量是否正常。定期分析原料水的電導率，應滿足使用要求。16當氫、氧分離器溫度差大于10位于分離器下部,或槽溫與分離器溫度差30以上時,也應清洗過濾器。17每隔一年應對全套裝置檢修一次不拆電解槽。18電解槽大修期不小于5年,大修時更換所有隔膜和密封墊片。19電加熱元件為易損件，當發(fā)現(xiàn)損壞時應及時更換，更換后用氮氣試壓和吹掃。110長期使用后（2年以上干燥器內的干燥劑會有所減少，可通過干燥器填料口添滿干燥劑，然后以氮氣試壓及吹掃。111長期使用后（2年以上）氣水分離器和氫氣過濾器會因塵粒堵塞造成阻力增加，應更換濾芯。112閥門在運行一段時間后會發(fā)生外漏或內漏，應定期維護，內漏嚴重的閥門應更換。113干燥器運行5年以上，若干燥器有效工作時間達不到24H，可考慮更換干燥劑。114各儀器、儀表維護參見各自的使用說明書。2安全注意事項21制氫裝置如閑置時間過長,超過半年以上,開機前應詳細檢查設備狀態(tài)22制氫間應通風良好,并采取相應的防爆措施,如防爆燈和安裝報警器等23凡是與氧、氫氣接觸的管道、閥門均應經(jīng)過除油清洗處理24裝置運行時不得進行任何修理工作,如若進行修理應先停車,分析制氫間的氫氣濃度是否低于爆炸極限,同時必須通氮氣以排除裝置和管道中的氫和氧氣,分析合格方能焊接25制氫間嚴禁明火、穿釘子鞋,操作人員應穿防靜電工作服。嚴禁金屬鐵器等物相撞擊,以免產(chǎn)生火花26制氫間應設有消防器材,按數(shù)量、要求就位制氫間應備有2硼酸溶液,操作人員應配置防護眼鏡和耐堿手套等防護用具；27嚴禁氫氣、氧氣由壓力設備及管道內急劇放出,以免造成爆炸或火災28氫氣系統(tǒng)運行時,不準敲擊,不準帶壓修理,嚴禁負壓29動植物、礦物油脂和油類不得落在與氧氣接觸的設備上。在操作和維修時,手和衣物不得沾有油脂210保持電解槽表面清潔,嚴防任何金屬導體或其它雜物掉到電解槽上,。嚴禁堿液掉到極板間或極板與拉緊螺栓之間211萬一出現(xiàn)事故或設備大量漏堿或漏氣體時,應立即切斷電源并進行通風,分析原因,盡快排除故障212用肥皂水或氣體防爆檢測儀檢查氫、氧系統(tǒng)、管道、閥門是否滲漏,嚴禁使用明火檢查213制氫間不得存放易燃、易爆物品,禁止無關人員入內。214注意氫氣的含氧量不得高于05，若高于05氫氣不得進入干燥部分。215再生進氣溫度不得超過350，再生加熱終止溫度不得超過250。216沒有氫氣流過電加熱器時禁止長時間（15S開啟電加熱器，以防燒毀電加熱元件。217裝置運行時冷卻水不得中斷。215各設備、儀表應有良好接地。3故障及排除方法31設備常見故障與排除序號故障現(xiàn)象產(chǎn)生原因排除方法1裝置突然停車11供電系統(tǒng)停電12整流電源發(fā)生故障121冷卻水中斷或流量過小壓力不足引起跳閘122電流突然升高引起過流或出現(xiàn)短路引起跳閘123快速熔斷器燒壞而跳閘124由控制柜聯(lián)鎖使整流柜停止13槽壓過高聯(lián)鎖使整流柜跳閘14堿液循環(huán)量下限聯(lián)鎖使整流柜跳閘15槽溫過高聯(lián)鎖使整流柜跳閘。11檢修供電系統(tǒng)12檢修電器設備121解決冷卻水存在的故障122將整流柜輸出電位器調至零位,再按復位,重新調電流如再出故障,則仔細檢查并排除短路故障123更換新的快速熔斷器,并檢查可控硅是否擊穿124等控制柜調整結束后再開整流柜13降低槽壓14增加循環(huán)量或清洗過濾器15改變槽溫設定值2槽總電壓過高21槽內電解液臟致使電解小室進液孔或出氣孔堵塞電阻增大22槽溫控制過低23堿液濃度過高、過低24V2O5添加劑量不足。21采用攪動負荷升降電流和升降電解液循環(huán)量的方法把堵物沖開,或停車沖洗電解槽22改變槽溫設定值在859023測量堿液濃度,調整堿液濃度至規(guī)定值24可通過堿液過濾器向槽內加入適量V2O5。3原料水供水不足或液位報警31加水泵停止加水32水箱無水33自動加水系統(tǒng)失靈不能起動34加水泵進出口閥未打開。35液位測量系統(tǒng)故障31停泵修復；32向水箱注入原料水；33檢查是否自動運行狀態(tài)；檢查氫液位設定值和開關量輸出線路并排除故障。34打開進出口閥Q11、Q2、Q3。35檢查液位測量系統(tǒng)4系統(tǒng)壓力或分離器液位波動41液位與壓力變送器零點漂移42液位與壓力變送器內有41調整零位42清除液位與壓力變送器內的堿液43排除壓力調節(jié)系統(tǒng)故障較大堿液43壓力調節(jié)系統(tǒng)故障44氧液位調節(jié)系統(tǒng)故障。45氣體管路漏氣嚴重。44排除氧液位調節(jié)系統(tǒng)故障45堵漏。5氣體純度下降或純度報警51隔膜損壞52氫氧分離器液位太低53分析儀不準54堿液循環(huán)量過大55堿液濃度過低56原料水水質不符合要求。57氫、氧分離器差壓過大51停車進行電解槽大修52補充除鹽水53檢查分析儀,重校零位54調整循環(huán)量在合適的范圍內55調整堿液濃度在規(guī)定范圍內56提高原料水水質,沖洗電解槽,嚴重的需拆槽清洗。57調整控制系統(tǒng)減小差壓。6槽溫升高波動較大或溫度報警61冷卻堿液的蛇管內冷卻水量不足62堿液循環(huán)量不足63電流不穩(wěn)定64槽溫自控失靈。65蛇管水通道結垢。61增加冷卻水量62清洗過濾器63調節(jié)電流穩(wěn)流部分64檢查槽溫調節(jié)閥檢修溫度二次儀表65清洗除垢。7電解液停止循環(huán)或循環(huán)量下限聯(lián)鎖71堿液過濾網(wǎng)堵塞72堿液循環(huán)量調節(jié)閥J12開度太小73循環(huán)泵內有氣體74循環(huán)泵損壞75流量計及指示報警儀誤差過大或指示失靈。71清洗過濾器濾網(wǎng)72調整J12開度、保持循環(huán)量適度73用J2閥排放循環(huán)泵內的氣體74更換備用泵,對泵進行檢修75校準流量計,檢修指示報警儀。8氫氧分離器中堿溫接近槽溫81蛇管內冷卻水不足或冷卻水溫度過高82槽溫自控失靈83堿液循環(huán)量超過規(guī)定范圍84蛇管結垢嚴重。81調節(jié)冷卻水量,降低冷卻水溫度82檢查槽溫自控系統(tǒng)并排除故障83調節(jié)J8,使循環(huán)量在規(guī)定的范圍內84清洗冷卻水管道內的結垢。9循環(huán)泵聲音不正常91泵內有臟物92泵內葉輪防松螺母松動93軸承磨損94電源缺相。91停泵拆開清洗檢修,更換備用泵92打開泵頭擰緊防松螺母93更換軸承94檢查電源排除故障。10槽壓達不到額定值101控制槽壓的氧氣薄膜調節(jié)閥閥芯磨損102旁通閥內漏103氣相部位有嚴重漏泄處104壓力調節(jié)不正常。101調節(jié)閥芯位置,更換氣動薄膜調節(jié)閥102更換旁通閥103堵漏104檢查壓力調節(jié)系統(tǒng)。11電解槽槽體漏堿111隔膜墊片壓縮變薄密封性能下降112碟形彈簧彈性下降111用專用板手上緊槽體的拉緊螺母至槽體密封。112換碟形彈簧113密封墊片老化113更換墊片大修電解槽12電解槽小室電壓嚴重不均相差1V以上電解槽故障大修電解槽13壓力上限報警氧側調節(jié)閥不開啟1檢修調節(jié)閥2檢修壓力變送器3檢查計算機系統(tǒng)14氫液位越來越低氧液位越來越高氫閥調節(jié)閥不打開1檢修調節(jié)閥2檢修液位變送器3檢查計算機系統(tǒng)15氫、氧減壓器失靈減壓器內有堿液清洗減壓器,去除堿液16產(chǎn)品氫氣含濕量較高161閥門未關緊或者內漏。162干燥劑再生不徹底。163分析取樣管道吹掃不徹底164系統(tǒng)工作壓力太低165干燥劑性能下降161關緊閥門或更換閥門。162徹底再生干燥劑。163徹底吹掃分析取樣管道164提高系統(tǒng)工作壓力165更換新的干燥劑。17加熱溫度達不到要求171電加熱元件損壞。172測溫元件或控制儀表失靈。173氣量偏差較大。171更換新的電加熱元件。172修復測溫元件或控制儀表。173調整氣量。附錄二氫氧化鉀溶液比重表氫氧化鉀重克氫氧化鉀重量克100克氫氧化鉀溶液內100毫升氫氧化鉀溶液內D415100克氫氧化鉀溶液內100毫升氫氧化鉀溶液內D4151101100826324712489220310172734021259330910267283556126954414103592937131280055231045230387012905663210544313988130107745106373241951311788531073033436913224997510824344532133311010921091835465513440111213110133648781354912133311103375056136591314531120338523313769141582112993954051337915171011396405596139911618381149341578214103171971115904259681421518210411688436161143291922401178644635414443