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Cowaq用 。6、150mm(61、儀器尺寸:380mmWx370mmDx340mmH重量:202、工作腔室:硼硅酸鹽玻璃150mm（直徑）x150mm（高3、靶：57mm直徑x0.1mm6、真空范圍:1x10-3mbar-1atm7、濺射電流:5,10,20,30,40mA8、沉積速率:0-25nm/9、濺射定時(shí):0-3001011、真空泵：油泵，抽速10m3/hr1213、膜厚測(cè)量，可選配膜厚儀MTM-14、氬氣要求：99.99%純氬氣，壓力設(shè)定0.5/0.6bar,6.0mm15、電源:230電源：200-240VAC,功率磁控濺射是物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，而上世紀(jì)70年代成的正交電磁場(chǎng)，把二次縛在靶表面特定區(qū)域來增強(qiáng)電離效率，增NSN NSN e r片 （4-8Pa），即可使用不同的濺射電流（5-12345789

本設(shè)備采用了內(nèi)置狹縫式的設(shè)計(jì)，避免了長期使用后由于金屬鍍層在絕緣材料上沉積而引起的短路，用戶不僅不需要定期的，還使得高壓短路對(duì)設(shè)備本身以及操作人 樣品臺(tái)中心 均 樣品臺(tái)中心 均 MTM-20基于微處理控制，4位顯示系統(tǒng)，

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